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    电磁体支架、电磁体装置及粒子射线治疗装置
    2.
    发明公开
    电磁体支架、电磁体装置及粒子射线治疗装置 无效

    公开(公告)号：CN108029187A

    公开(公告)日：2018-05-11

    申请号：CN201580082913.5

    申请日：2015-09-11

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 井上博光 ,  小畑顺

    IPC: H05H7/04 ,  G21K5/04 ,  H01F7/06 ,  H05H13/04

    CPC classification number: H01J3/38 ,  A61N5/1077 ,  G21K5/04 ,  H01F7/06 ,  H05H7/04 ,  H05H13/04

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种电磁体支架，能在配置有电磁体的设备室中缩小电磁体的电源电缆配置空间。电磁体支架(1)的特征在于，包括：支承电磁体(2a)的顶板(11)；支撑顶板(11)的多个脚(13)；以及固定于多个脚(13)并且配置于顶板(11)的下侧的电缆配置构件(12)，电磁体(2a)的电源电缆(4)在带电粒子射束(51)的前进方向上延伸配置的电缆配置部(16)形成在电缆配置构件(12)与顶板(11)之间，电缆配置部(16)的与带电粒子射束(51)的前进方向垂直的方向的长度即电缆配置宽度(宽度方向脚间长度(L1))比电磁体(2a)的与带电粒子射束(51)的前进方向垂直的方向的宽度(Mw)要长。

    APPARATUSES, SYSTEMS, AND METHODS FOR ION TRAPS
    4.
    发明申请
    APPARATUSES, SYSTEMS, AND METHODS FOR ION TRAPS 有权
    离子束的设备，系统和方法

    公开(公告)号：US20160322188A1

    公开(公告)日：2016-11-03

    申请号：US14700312

    申请日：2015-04-30

    Applicant: Honeywell International Inc.

    Inventor： Daniel Youngner

    IPC: H01J3/38 ,  H01J9/14

    CPC classification number: H01J3/38 ,  B82Y10/00 ,  G06N99/002 ,  G21K1/00 ,  H01J9/14 ,  H01J49/0018 ,  H01L29/945

    Abstract: Apparatuses, systems, and methods for ion traps are described herein. One apparatus includes a number of microwave (MW) rails and a number of radio frequency (RF) rails formed with substantially parallel longitudinal axes and with substantially coplanar upper surfaces. The apparatus includes two sequences of direct current (DC) electrodes with each sequence formed to extend substantially parallel to the substantially parallel longitudinal axes of the MW rails and the RF rails. The apparatus further includes a number of through-silicon vias (TSVs) formed through a substrate of the ion trap and a trench capacitor formed in the substrate around at least one TSV.

    Abstract translation: 本文描述了用于离子阱的装置，系统和方法。 一种装置包括多个微波（MW）导轨和形成有基本上平行的纵向轴线并具有基本上共面的上表面的多个射频（RF）导轨。 该装置包括直流（DC）电极的两个序列，每个序列形成为基本上平行于MW轨道和RF轨道的基本平行的纵向轴线延伸。 该装置还包括通过离子阱的衬底形成的多个穿硅通孔（TSV）和在至少一个TSV周围的衬底中形成的沟槽电容器。

    Electron gun
    5.
    发明授权
    Electron gun 有权
    电子枪

    公开(公告)号：US06774552B2

    公开(公告)日：2004-08-10

    申请号：US10443817

    申请日：2003-05-23

    Applicant: Akira Chiba

    Inventor： Akira Chiba

    IPC: H01J2306

    CPC classification number: H01J3/027 ,  H01J3/028 ,  H01J3/38 ,  H01J23/06

    Abstract: An electron gun also has a cathode for emitting electrons, a heater cap which contains a heater for applying the cathode with thermal energy for emitting electrons, a retainer for securing the cathode on the heater cap by clamping the peripheral edge of the cathode onto the heater cap, and a cylindrical Wehnelt supporter. The cylindrical Wehnelt supporter has a Wehnelt electrode for focusing an electron beam that is formed in such a shape that an average angle of the surface thereof with respect to an outermost shell of the electron beam matches a Pierce angle, and three or more heater cap supporters for securely supporting the heater cap at a position at which an electron emitting surface of the cathode and an opening formed through the Wehnelt electrode satisfy a predetermined perveance.

    Abstract translation: 电子枪还具有用于发射电子的阴极，加热器帽，其包含用于向发射电子的热能施加阴极的加热器，用于通过将阴极的周边边缘夹持在加热器上来将阴极固定在加热器盖上的保持器 帽和圆柱形的Wehnelt支持者。 圆筒形的Wehnelt支架具有用于聚焦电子束的Wehnelt电极，该电子束形成为使得其表面相对于电子束的最外壳的平均角度与Pierce角相匹配的形状，以及三个或更多个加热器帽支撑件 用于在阴极的电子发射表面和通过Wehnelt电极形成的开口满足预定的范围的位置处可靠地支撑加热器盖。

    LOW ABERRATION, HIGH INTENSITY ELECTRON BEAM FOR X-RAY TUBES
    8.
    发明申请
    LOW ABERRATION, HIGH INTENSITY ELECTRON BEAM FOR X-RAY TUBES 审中-公开
    低吸收率，高强度电子束用于X射线管

    公开(公告)号：WO2016109053A1

    公开(公告)日：2016-07-07

    申请号：PCT/US2015/061626

    申请日：2015-11-19

    Applicant: GENERAL ELECTRIC COMPANY

    Inventor： LEMAITRE, Sergio

    IPC: H01J35/06

    CPC classification number: H01J35/06 ,  H01J3/38 ,  H01J19/10 ,  H01J19/48 ,  H01J37/063 ,  H01J2229/4844 ,  H01J2229/4896 ,  H01J2235/06

    Abstract: In the present invention, a cathode (60) for an x-ray tube (12) is formed with a large area flat emitter (55). To reduce the aberrations to a minimum, the emission area (237) in the flat emitter (55) has a non-rectangular shape and focusing pads (85) arranged around the emitter (55). In an exemplary embodiment, the flat emitter (55) has a non-rectilinear polygonal shape for an emission area (237) on the emitter (55) in order to increase the emission current from the emitter (55) at standard voltage levels without the need to run the emitters (55) at a higher temperature, add additional emitters (55) to the cathode (60) and/or to coat the emitters (55) with a low work function material.

    Abstract translation: 在本发明中，用于X射线管（12）的阴极（60）形成有大面积的平坦发射体（55）。 为了将像差减小到最小，扁平发射器（55）中的发射区域（237）具有非矩形形状，并且布置在发射器（55）周围的聚焦焊盘（85）。 在示例性实施例中，扁平发射器（55）具有用于发射器（55）上的发射区域（237）的非直线多边形形状，以便在标准电压电平下增加来自发射极（55）的发射电流，而没有 需要在更高的温度下运行发射器（55），向阴极（60）添加额外的发射器（55）和/或用低功函数材料涂覆发射器（55）。

    METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATION OF HIGH GRADIENT INSULATORS WITH PARALLEL SURFACE CONDUCTORS SPACED LESS THAN ONE MILLIMETER APART
    9.
    发明申请
    METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATION OF HIGH GRADIENT INSULATORS WITH PARALLEL SURFACE CONDUCTORS SPACED LESS THAN ONE MILLIMETER APART 审中-公开
    用于制造平面绝缘体的方法和装置，其间隔不超过一毫升APART

    公开(公告)号：WO99027419A1

    公开(公告)日：1999-06-03

    申请号：PCT/US1998/024710

    申请日：1998-11-20

    IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01J3/38 ,  H05H7/22

    CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/001 ,  G03F7/20 ,  H01J3/38

    Abstract: Optical patterns and lithographic techniques are used as part of a process to embed parallel and evenly spaced conductors in the non-planar surfaces of an insulator to produce high gradient insulators. The approach extends the size that high gradient insulating structures can be fabricated as well as improves the performance of those insulators by reducing the scale of the alternating parallel lines of insulator and conductor along the surface. This fabrication approach also substantially decreases the cost required to produce high gradient insulators.

    Abstract translation: 使用光学图案和光刻技术作为在绝缘体的非平坦表面中嵌入平行且均匀间隔的导体以产生高梯度绝缘体的工艺的一部分。 该方法延伸了可以制造高梯度绝缘结构的尺寸，并且通过减小沿表面的绝缘体和导体的交替平行线的尺度来提高那些绝缘体的性能。 这种制造方法也大大降低了生产高梯度绝缘体所需的成本。

    電磁石架台、電磁石装置及び粒子線治療装置
    10.
    发明申请
    電磁石架台、電磁石装置及び粒子線治療装置 审中-公开
    电磁场，电子设备和颗粒辐射治疗装置

    公开(公告)号：WO2017042951A1

    公开(公告)日：2017-03-16

    申请号：PCT/JP2015/075818

    申请日：2015-09-11

    Applicant: 三菱電機株式会社

    Inventor： 井上　博光 ,  小畑　順

    IPC: H05H7/04 ,  G21K5/04 ,  H01F7/06 ,  H05H13/04

    CPC classification number: H01J3/38 ,  A61N5/1077 ,  G21K5/04 ,  H01F7/06 ,  H05H7/04 ,  H05H13/04

    Abstract: 本発明は、電磁石が配置される設備室において、電磁石の電源ケーブル配置スペースを少なくできる電磁石架台を提供することを目的とする。　電磁石架台(1)は、電磁石(2ａ)を支持する天板(11)と、天板(11)を支える複数の脚(13)と、複数の脚(13)に固定されると共に天板(11)の下側に配置されるケーブル配置部材(12)とを備え、電磁石(2ａ)の電源ケーブル(4)が荷電粒子ビーム(51)の進行方向に延伸して配置されるケーブル配置部(16)が、ケーブル配置部材(12)と天板(11)との間に形成され、ケーブル配置部(16)は、荷電粒子ビーム(51)の進行方向に垂直な方向の長さであるケーブル配置幅（幅方向脚間長(L1)）が、電磁石(2a)における荷電粒子ビーム(51)の進行方向に垂直な方向の幅(Mw)よりも長いことを特徴とする。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种电磁铁台，其能够减少电磁铁在设置有电磁铁的机房中的电磁铁的放置空间。 电磁铁台（1）的特征在于：电磁铁台（1）包括支撑电磁体（2a）的顶板（11），支撑顶板（11）的多个支脚（13） 固定到所述多个支腿（13）并且设置在所述顶板（11）的下侧上的构件（12）; 在电缆布置构件（12）和顶板（11）之间形成有用于电磁体（2a）的电力电缆（4）的电缆放置部分（16），并且沿着 带电粒子束（51）; 电缆布置部分（16）具有与带电粒子束（51）的行进方向正交的方向上的长度的电缆布置宽度（沿宽度方向的腿到腿长度（L1））， 比在电磁体（2a）中与带电粒子束（51）的行进方向正交的方向上的宽度（Mw）长。

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