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公开(公告)号：CN1266875A
公开(公告)日：2000-09-20
申请号：CN00104157.6
申请日：2000-03-15
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472
Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物,该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨,不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂,所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷,或羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN1216116C
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN00104157.6
申请日：2000-03-15
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472
Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物，该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨，不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂，所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷，或羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN1207374C
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN01103041.0
申请日：2001-01-18
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C10M115/04 , C10N30
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物，该组合物有利于在抛光研磨中的使用，提供高质量的研磨表面，不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物，较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
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公开(公告)号：CN1312545A
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN01103077.1
申请日：2001-01-22
Applicant: TDK株式会社 , 东京磁气印刷株式会社
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/048 , G11B5/3103 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤,在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
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公开(公告)号：CN1196107C
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN01103077.1
申请日：2001-01-22
Applicant: TDK株式会社 , 东京磁气印刷株式会社
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/048 , G11B5/3103 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法，包括：一杆沿抛光板径向往返运动，并使有抛光面的抛光板旋转，对磁头浮动块的空气轴承面抛光，该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤，使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤，在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1309167A
公开(公告)日：2001-08-22
申请号：CN01103041.0
申请日：2001-01-18
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C10M115/04 , C10N30/00
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物,该组合物有利于在抛光研磨中的使用,提供高质量的研磨表面,不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物,较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
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公开(公告)号：CN103824568B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201210465887.2
申请日：2012-11-16
CPC classification number: G11B5/3173 , G11B5/102 , G11B5/314 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明公开一种用于热辅助磁头滑动块，包括：衬底，衬底具有光源模块以及面向磁性记录媒介表面的空气承载面；读部分，读部分具有读元件；以及写部分，写部分包括写元件、用于引导由光源模块产生的光的波导路，以及设置于写元件和波导路附近的等离子体激元单元，等离子体激元单元具有近场光产生表面以传播近场光至空气承载面。其中，读部分的媒介面向表面上覆盖具有第一厚度和第一光吸收系数的第一表层，写部分的媒介面向表面上覆盖具有第二厚度和第二光吸收系数的第二表层，其中，第二厚度大于第一厚度，第二光吸收系数小于第一光吸收系数。本发明能保护写部分并提高读部分的读取性能。本发明还公开了磁头折片组合、硬盘驱动器及制造方法。
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公开(公告)号：CN103824568A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201210465887.2
申请日：2012-11-16
CPC classification number: G11B5/3173 , G11B5/102 , G11B5/314 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明公开一种用于热辅助磁头滑动块，包括：衬底，衬底具有光源模块以及面向磁性记录媒介表面的空气承载面；读部分，读部分具有读元件；以及写部分，写部分包括写元件、用于引导由光源模块产生的光的波导路，以及设置于写元件和波导路附近的等离子体激元单元，等离子体激元单元具有近场光产生表面以传播近场光至空气承载面。其中，读部分的媒介面向表面上覆盖具有第一厚度和第一光吸收系数的第一表层，写部分的媒介面向表面上覆盖具有第二厚度和第二光吸收系数的第二表层，其中，第二厚度大于第一厚度，第二光吸收系数小于第一光吸收系数。本发明能保护写部分并提高读部分的读取性能。本发明还公开了磁头折片组合、硬盘驱动器及制造方法。
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公开(公告)号：CN103325389B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310064317.7
申请日：2013-02-28
CPC classification number: G11B5/3116 , G02B6/4208 , G11B5/105 , G11B5/1278 , G11B5/314 , G11B5/6088 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明提供一种热辅助磁记录头、磁头万向节组件、磁头臂组件、磁盘单元和光传输单元。本发明的热辅助磁记录头包括：激光光源，具有发射面，激光从发射面发射；波导，具有芯和包层，从激光光源发射的激光在芯中传播，包层包围芯；磁极；以及等离子体激元发生器。芯和包层分别具有面向发射面的端面，包层的端面抑制激光向激光光源返回。
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公开(公告)号：CN103325389A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310064317.7
申请日：2013-02-28
CPC classification number: G11B5/3116 , G02B6/4208 , G11B5/105 , G11B5/1278 , G11B5/314 , G11B5/6088 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明提供一种热辅助磁记录头、磁头万向节组件、磁头臂组件、磁盘单元和光传输单元。本发明的热辅助磁记录头包括：激光光源，具有发射面，激光从发射面发射；波导，具有芯和包层，从激光光源发射的激光在芯中传播，包层包围芯；磁极；以及等离子体激元发生器。芯和包层分别具有面向发射面的端面，包层的端面抑制激光向激光光源返回。
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