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公开(公告)号：CN1266875A
公开(公告)日：2000-09-20
申请号：CN00104157.6
申请日：2000-03-15
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472
Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物,该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨,不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂,所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷,或羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN1216116C
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN00104157.6
申请日：2000-03-15
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472
Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物，该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨，不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂，所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷，或羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN1253853C
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN00118848.8
申请日：2000-06-21
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3166 , G11B5/3169 , G11B5/3173 , G11B5/39 , H01F41/14
Abstract: 本发明提供一种用于制造磁换能器的方法。在开始抛光之前，获取包含对最终MR阻值具有影响的，在晶片阶段的各种因素的信息，并通过使用统计机制来由该信息计算S值。在抛光步骤中，以规律的间隔来获取包含对最终MR阻值具有影响的，在抛光阶段的各类因素的信息。并使用统计机制来计算K值。接着，由S值和K值来计算在抛光步骤中的MR阻值估计值。当MR阻值估计值达到目标阻值时，停止抛光。
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公开(公告)号：CN1313169A
公开(公告)日：2001-09-19
申请号：CN01116851.X
申请日：2001-02-22
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 提供一种设备,它可以将复杂的弯曲变形传递给如陶瓷条那样的沿一方向延伸的待加工件或类似物,并可用加工作业减小待加工件的加工量的不均匀程度,在加工设备中配置一种专门的修正机构来使待加工件与夹持此工件的夹具一起变形。修正机构有一基座,多个在其第一端处配置销的杆件,一固定于该基座上、用于以可转动方式支承该杆件的轴,及多个与所述杆件第二端连接而使杆件绕此轴枢轴转动并由此而该销枢轴转动的修正驱动设备。该夹具包括在用于夹持待加工件的沿一个方向延伸的夹持部分上安置的多个载荷接受部分,由此而使相应于该载荷接受部分的该夹持部分内的部分因各销的转动而与待加工件一起被变形。
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公开(公告)号：CN1300659A
公开(公告)日：2001-06-27
申请号：CN00135496.5
申请日：2000-12-20
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3163 , B23Q1/34 , B24B37/048 , B24B37/30 , G11B5/3103 , G11B5/3173 , G11B5/3903 , Y10T29/49048
Abstract: 一种加工夹具,包括固定在加工装置上的本体部、用于保持作为纵长加工对象物的条材的纵长条形保持部、连接保持部与本体部的四个连接部、与保持部相连并施加使保持部变形的负荷的三个加载部、连接保持部与加载部的三个横臂部。保持部成因承受外力而弯曲的细长梁结构。条材固定部设置在保持部下端上。保持部的两端是不与本体部相连地开放的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1280064C
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN01116851.X
申请日：2001-02-22
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 提供一种设备，它可以将复杂的弯曲变形传递给如陶瓷条那样的沿一方向延伸的待加工件或类似物，并可用加工作业减小待加工件的加工量的不均匀程度，在加工设备中配置一种专门的修正机构来使待加工件与夹持此工件的夹具一起变形。修正机构有一基座，多个在其第一端处配置销的杆件，一固定于该基座上、用于以可转动方式支承该杆件的轴，及多个与所述杆件第二端连接而使杆件绕此轴枢轴转动并由此而该销枢轴转动的修正驱动设备。该夹具包括在用于夹持待加工件的沿一个方向延伸的夹持部份上安置的多个载荷接受部份，由此而使相应于该载荷接受部份的该夹持部份内的部份因各销的转动而与待加工件一起被变形。
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公开(公告)号：CN1262393C
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN01116863.3
申请日：2001-02-22
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3116 , B24B37/048 , B24B49/16 , G11B5/3103 , G11B5/3163 , G11B5/3173
Abstract: 在陶瓷杆或类似物上形成电子元件时，由于分解曝光过程或其他原因而使各个元件产生了位置偏移。本发明的一个目的为提供一种装置和方法，该方法通过磨削及使陶瓷杆产生一个复杂变形等而使各个元件的非磨削部分均匀一致。为达到该目的，利用一个机架来保持所述陶瓷杆或类似物，将多个负荷施加到机架的保持着所述陶瓷杆或类似物的部分上，这样就可使陶瓷杆或类似物产生变形而在该状态下磨削所述的元件。在这样一种状态下布置负荷施加点，使所述的负荷施加点不布置在分解曝光部分的边界上。
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公开(公告)号：CN1220572C
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN00135496.5
申请日：2000-12-20
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3163 , B23Q1/34 , B24B37/048 , B24B37/30 , G11B5/3103 , G11B5/3173 , G11B5/3903 , Y10T29/49048
Abstract: 本发明涉及一种保持纵长的加工对象物并将其固定在对所述加工对象物进行加工的加工装置上的加工夹具，该加工夹具包括：被固定在所述加工装置上的本体部；用于保持所述加工对象物的纵长的保持部；连接所述保持部与所述本体部的多个连接部；施加使所述保持部变形的负荷的多个加载部；连接所述的各个加载部与所述保持部的多个横臂部；在所述多个连接部和所述保持部的各个连接位置以及所述多个横臂部和所述保持部的各个连接位置中，分别距离所述保持部的长度方向的两端部最近的两个连接位置被配置在相对所述保持部的长度方向的两端部靠近所述长度方向的中央的位置上。
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公开(公告)号：CN1312147A
公开(公告)日：2001-09-12
申请号：CN01116863.3
申请日：2001-02-22
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3116 , B24B37/048 , B24B49/16 , G11B5/3103 , G11B5/3163 , G11B5/3173
Abstract: 在陶瓷杆或类似物上形成电子元件时,由于分解曝光过程或其他原因而使各个元件产生了位置偏移。本发明的一个目的为提供一种装置和方法,该方法通过磨削及使陶瓷杆产生一个复杂变形等而使各个元件的非磨削部分均匀一致。为达到该目的,利用一个机架来保持所述陶瓷杆或类似物,将多个负荷施加到机架的保持着所述陶瓷杆或类似物的部分上,这样就可使陶瓷杆或类似物产生变形而在该状态下磨削所述的元件。在这样一种状态下布置负荷施加点,使所述的负荷施加点不布置在分解曝光部分的边界上。
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公开(公告)号：CN1284710A
公开(公告)日：2001-02-21
申请号：CN00118848.8
申请日：2000-06-21
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/3166 , G11B5/3169 , G11B5/3173 , G11B5/39 , H01F41/14
Abstract: 本发明提供一种用于制造磁换能器的方法和装置和用于制造其磁阻元件特性的变化和在分布的中值变化可以被降低的方法和装置。在开始抛光之前,获取包含对最终MR阻值具有影响的,在晶片阶段的各种因素的信息,并通过使用统计机制来由该信息计算S值。在抛光步骤中,以规律的间隔来获取包含对最终MR阻值具有影响的,在抛光阶段的各类因素的信息。并使用统计机制来计算K值。接着,由S值和K值来计算在抛光步骤中的MR阻值估计值。当MR阻值估计值达到目标阻值时,停止抛光。
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