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公开(公告)号：CN117024997A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310508624.3
申请日：2023-05-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法。本发明提供一种金属氧化膜形成用组成物，其对于已知的有机下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性、对于已知的金属硬掩膜具有优良的填埋特性，能减小伴随厚膜化的裂纹且保存稳定性优异。一种金属氧化膜形成用组成物，包含：金属氧化物纳米粒子，含有具有下列通式(1)表示的结构单元的树脂的流动性促进剂，由含有2个以上的苯环、或1个苯环及下列通式(C‑1)表示的结构且分子量为500以下的含芳香族的化合物构成的分散稳定化剂，有机溶剂，流动性促进剂相对于组成物全体的含量为9质量％以上，Mw/Mn为2.50≤Mw/Mn≤9.00，不含卡多(cardo)结构。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN114380849A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202111162164.0
申请日：2021-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D519/00 , G03F7/004 , G03F7/09
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明的课题提供不仅在空气中会硬化，在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，可形成耐热性、于基板所形成的图案的填埋、平坦化特性优异，而且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜的酰亚胺化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物；及(B)有机溶剂。[化1]式中，W1为4价有机基团，n1表示0或1的整数，n2表示1至3的整数，R1表示下列通式(1B)中的任1者以上。[化2]
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公开(公告)号：CN108693713A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810275797.4
申请日：2018-03-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07C39/14 , C07C39/17 , C07C69/94 , C07C2603/18 , C07D251/32 , C07D487/04 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F2220/281 , C08F2800/20 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/266 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31133 , H01L21/31138 , H01L21/31144 , H01L21/0276
Abstract: 本发明提供一种具有优异的耐受碱性过氧化氢水的性能、良好的嵌入/平坦化特性、及干法蚀刻特性的抗蚀剂下层膜材料、使用了该抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。其为用于多层抗蚀剂法的抗蚀剂下层膜材料，其含有：(A1)下述通式(X)表示的化合物中的一种或两种以上；以及，(B)有机溶剂。[化学式1] 式中，n01表示1～10的整数，n01为2时，W表示亚硫酰基、磺酰基、醚基、或碳原子数为2～50的二价有机基团，n01为2以外的整数时，W表示碳原子数为2～50的n01价有机基团。此外，Y表示单键或碳原子数为1～10的可包含氧原子的二价连接基团。
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公开(公告)号：CN119087742A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202410713093.6
申请日：2024-06-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及图案形成方法。本发明提供一种图案形成方法，借由使用对比已知的KrF抗蚀剂具有优良的干蚀刻耐性且成膜性及基板密合性优异的抗蚀剂下层膜形成用组成物，能够以高精度形成阶梯形状图案。一种图案形成方法，具有下列步骤：在被加工基板上利用抗蚀剂下层膜形成用组成物形成抗蚀剂下层膜，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂中间膜，在抗蚀剂中间膜上形成抗蚀剂上层膜，在抗蚀剂上层膜形成图案，在抗蚀剂中间膜转印图案，在抗蚀剂下层膜转印图案，在被加工基板形成图案，将抗蚀剂下层膜予以修整，在被加工基板形成阶梯形状的图案；就前述抗蚀剂下层膜形成用组成物而言，含有树脂、及有机溶剂，且使用下式(1)表示者作为树脂。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111913352A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010379131.0
申请日：2020-05-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物，会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性，并提供使用此有机膜形成用组成物的图案形成方法，及适合此有机膜形成用组成物的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。该聚合物，利用伴随位于芴环上的三苯甲基位的氢彼此的脱氢的偶联反应而交联。[化1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119861529A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411449783.1
申请日：2024-10-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/00 , H01L21/308
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。本发明的解决手段为一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，包含：(A)含有下列通式(I)表示的重复单元的聚醚化合物、及(B)有机溶剂。#imgabs0#Ar1为有取代或无取代的碳数6～30的芳基等，R1为有取代或无取代的碳数1～20的直链状或分支状或环状的饱和或不饱和的2价烃基、或有取代或无取代的碳数1～20的直链状或分支状或环状的杂亚烷基，n及m为0以上的整数。
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公开(公告)号：CN119846902A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411427818.1
申请日：2024-10-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂下层膜的制造方法、图案形成方法、及半导体装置的制造方法。本发明的课题为提供一种可形成会表现优异的加工耐性及优异的气体穿透性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组成物。其解决手段为一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，包含：(A)具有下列通式(I)及/或(II)表示的重复单元结构的酚醛清漆树脂、及(B)有机溶剂。#imgabs0#R1在同一树脂中，为至少2种以上的组合，为氢原子、取代或非取代的碳数1～20的直链状或分支状或环状的烷基、取代或非取代的碳数2～20的直链状或分支状或环状的烯基、或取代或非取代的碳数2～20的直链状或分支状或环状的炔基。n1为1以上的整数。
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公开(公告)号：CN119087741A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202410712822.6
申请日：2024-06-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为含有(A)树脂、(B)碱产生剂、及(C)有机溶剂，前述(A)树脂的重均分子量为3,000～10,000，前述(A)树脂是(A‑1)含有苯酚性羟基及苯酚性羟基被修饰的基团的树脂、或(A‑2)含有苯酚性羟基的树脂及含有苯酚性羟基被修饰的基团的树脂的混合物，当前述(A)树脂中含有的苯酚性羟基的比例为a、苯酚性羟基被修饰的基团的比例为b时，符合a+b＝1、0.1≤a≤0.5、0.5≤b≤0.9的关系。
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公开(公告)号：CN114380849B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202111162164.0
申请日：2021-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D519/00 , G03F7/004 , G03F7/09
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明的课题提供不仅在空气中会硬化，在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，可形成耐热性、于基板所形成的图案的填埋、平坦化特性优异，而且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜的酰亚胺化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物；及(B)有机溶剂。[化1]#imgabs0#[化2]#imgabs1#
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公开(公告)号：CN116165843A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211478179.2
申请日：2022-11-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明的课题的解决手段是一种抗蚀剂下层膜材料，特征为含有：(A)具有下述通式(1A)表示的化合物的树脂、及(B)有机溶剂；前述通式(1A)表示的化合物的Mw/Mn为1.00≤Mw/Mn≤1.25，前述通式(1A)中，X为下述通式(1B)表示的基团，前述通式(1B)中，R1为氢原子、碳数1～10的有机基团、及下述通式(1C)表示的结构中的任一者，构成前述R1的结构中，令氢原子的比例为a，并令碳数1～10的有机基团或前述通式(1C)表示的结构的比例为b时，以(A)成分整体计，符合a+b＝1、0.2≤b≤0.8的关系。
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