半导体装置以及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110476255B

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN201780089175.6

    申请日:2017-03-29

    Abstract: 本发明是设置在显示装置(1)的像素电路中的半导体装置(10),从下方向侧起依次包括基板(11)、LTPS层(135SLA)、第一栅极绝缘层(14)、第一金属层(145GA、145GB)、第一平坦化层(15)、第二栅极绝缘层(16)、氧化物半导体层(165SLB)、第二金属层(165SB、165DB)、钝化层(17)以及第三金属层(165CA)。LTPS‑TFT(10A)的栅极电极(145GA)与氧化物半导体TFT(10B)的栅极电极(145GB)由第一金属层形成。

    显示装置及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113474830B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN201980092859.0

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 在TFT层形成工序中,首先,在通过进行半导体层形成工序来形成树脂基板(10)上的半导体层之后,通过进行栅极绝缘膜形成工序来形成栅极绝缘膜(13)以覆盖半导体层,接着,通过进行第一金属膜成膜工序、第一光刻工序以及第一蚀刻工序来形成第一金属层(14a),进而,通过进行第二金属膜成膜工序、第二光刻工序以及第二蚀刻工序来形成第二金属层(15a),从而形成层叠有第一金属层(14a)及第二金属层(15a)的栅极层(16a)。

    显示设备、显示设备的制造方法、显示设备的制造装置

    公开(公告)号:CN111602190B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN201880086484.2

    申请日:2018-01-18

    Abstract: 提供一种显示设备(2),其以提高在背板中的间隔物的高度精度作为目的,该显示设备(2)包括包含第一电极(22)露出的多个开口(23c)的所述边缘罩(23)、包含第一平坦部、第二平坦部(21b)以及接触孔(21c)的平坦化膜(21),所述显示设备的特征在于,所述多个开口(23c)的每一个,在俯视下与所述第一平坦部(21a)重叠,在俯视下所述多个开口(23c)之间具有所述第二平坦部(21b),从所述平坦化膜(21)的基板侧的底面(21d)到在俯视下与所述第一平坦部(21a)重叠的所述边缘罩(23)的第二电极(25)侧的表面(21m)为止的高度(H1)低于从所述底面(21d)到所述第二平坦部(21b)的第二电极(25)侧的表面(21u)为止的高度(H2)。

    有源矩阵基板的制造方法

    公开(公告)号:CN108780621B

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN201780018517.5

    申请日:2017-03-24

    Abstract: 本发明提供一种有源矩阵基板、其制造方法和显示装置,在显示面板的制造工序中能够抑制静电放电的发生,并且能够抑制制造成本。在IGZO膜被构成栅极绝缘膜的氧化硅膜和蚀刻阻挡层夹着的状态下,在用于保护TFT的钝化膜形成之后,在200~350℃下进行退火,并且是IGZO膜从导体变化为半导体。其结果是,不仅能够抑制ESD的发生,而且能够不需要从显示面板分离静电放电防止电路,所以能够降低显示装置的制造成本。

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