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公开(公告)号：CN102985498A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180033863.3
申请日：2011-08-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D7/1275 , B32B23/08 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C09D7/61 , C09D7/68 , G02B5/30 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种硬度较高、具有充分的耐粘连性、雾度较低、且全光线透射率也较高的HC薄膜。本发明涉及一种硬涂层用固化性树脂组合物，其特征为含有：(A)于粒子表面上具有光固化性基，且平均1次粒径为10～100nm的反应性二氧化硅微粒；(B)平均1次粒径为100～300nm的易滑剂；(C)含有该易滑剂(B)，且平均2次粒径为500nm～2000nm的2次粒子；(D)于1分子中具有2个以上的具有与上述反应性二氧化硅微粒(A)的光固化性基的交联反应性的反应性官能基，且分子量为1000以下的多官能单体；以及(E)溶剂；并且不含有平均2次粒径大于2000nm的2次粒子，且相对于该反应性二氧化硅微粒(A)及多官能单体(D)的合计质量，含有该易滑剂(B)0.2～8质量％。
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公开(公告)号：CN101268389B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200680034177.7
申请日：2006-08-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: B32B7/02 , B32B3/263 , B32B3/30 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2264/102 , B32B2307/21 , B32B2307/408 , B32B2307/412 , B32B2307/702 , B32B2457/00 , B32B2457/202 , B32B2457/204 , G02B1/11 , Y10T428/24942 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , Y10T428/31721 , Y10T428/31725 , Y10T428/31786 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使长时间使用、特别是在高温下或高湿下长时间使用也可以维持防静电性以及透明性的防静电防眩薄膜。本发明通过利用在透明基材薄膜上至少层叠含有高分子型防静电剂、透光性微粒以及粘合剂的防眩层而成的防静电防眩薄膜来解决所述课题。
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公开(公告)号：CN105467473B
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201510608197.1
申请日：2015-09-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/11
Abstract: 本发明提供一种防反射膜，其在使用超高精细的显示元件的情况下，抑制显示装置表面的反射，防止超高精细的显示元件的图像品质受损，并且能够抑制白化。本发明的显示元件用的防反射膜，其为在透明基材上具有高折射率层及低折射率层的防反射膜，其中，所述防反射膜的根据下述条件测定的扩散光线反射率(RSCE)为0.12％以下、总光线反射率(RSCI)为4.0％以上。扩散光线反射率及总光线反射率的测定如下所述：制作在防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘着剂贴合有黑色板的样品，测定该样品的低折射率层侧的面的扩散光线反射率(RSCE)。
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公开(公告)号：CN104345978B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201410377536.5
申请日：2014-08-01
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种以能够防止形成压痕的方式构成的用于制作电子部件的层叠体、膜传感器和具备膜传感器的触摸面板装置。该层叠体具备设置于基材膜的一侧的面上的第1硬涂层和设置于第1硬涂层的一侧的面上的第1表面层。第1表面层的厚度小于1μm，并且第1表面层的厚度和第1硬涂层的厚度的合计大于1μm。通过从层叠体的一侧将维氏压头压入层叠体而测定的马氏硬度在维氏压头的最大压入量为1μm的情况下为270N/mm2以上。
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公开(公告)号：CN102667534A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102667534B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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公开(公告)号：CN102576095B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201080045188.1
申请日：2010-10-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/11 , B32B7/02 , B32B27/18 , G02B1/10 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/0247 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/133502 , G02F2201/50
Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性，且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜，其特征在于，在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层，其中该低折射率层含有平均初级粒径为10～100nm的中空粒子、及分散平均粒径1～20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子，在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中，至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触，该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50％以上范围，且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。
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公开(公告)号：CN102576095A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080045188.1
申请日：2010-10-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/11 , B32B7/02 , B32B27/18 , G02B1/10 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/0247 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02F1/133502 , G02F2201/50
Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性，且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜，其特征在于，在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层，其中该低折射率层含有平均初级粒径为10～100nm的中空粒子、及分散平均粒径1～20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子，在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中，至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触，该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50％以上范围，且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。
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公开(公告)号：CN119325569A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202380045229.4
申请日：2023-04-25
IPC: G02B5/30 , G02B1/04 , G02B3/00 , G02B3/08 , G02B5/04 , G02F1/1335 , G09F9/00 , H05B33/02 , H05B33/14 , H10K50/86 , H10K59/10
Abstract: 本发明提供能够抑制因内部应力和外部应力等应力而产生双折射的光学树脂。一种光学树脂，其中，关于上述光学树脂的13C‑NMR光谱，将化学位移为141ppm以上147ppm以下的范围定义为第1范围，将化学位移为135ppm以上141ppm以下的范围定义为第2范围时，上述第1范围的峰的峰面积相对于上述第2范围的峰的峰面积之比为0.55以下。
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公开(公告)号：CN103765249A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280023924.2
申请日：2012-05-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/111 , G02F1/133528
Abstract: 根据本发明，提供能容易地制造具有优异的防反射特性、具有优异的耐擦伤性及防污性，并且抑制至今从未被过问的轻微白化的发生的防反射膜的制造方法、防反射膜、以及使用该膜的偏振板及图像显示装置。本发明提供防反射膜的制造方法，其依次包含工序(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒及粘合剂树脂的低折射率层形成用组合物从而形成涂膜的工序；工序(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相的工序；及工序(3)加热该低折射率相与该防污相，或对该低折射率相与该防污相照射电离射线，形成低折射率层与被覆该低折射率层的整面的防污层的工序，该防反射膜至少依次具有透明基材、低折射率层、及防污层，从该防污层侧通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的氟原子／碳原子比为0.6～1.0，且硅原子／碳原子比小于0.25，该防污层的平均表面粗糙度(Ra’)为10nm以下。
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