防反射膜、使用了该防反射膜的显示装置、及防反射膜的选择方法

    公开(公告)号:CN107407744B

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201680017086.6

    申请日:2016-03-16

    Abstract: 本发明提供一种抑制反射率且颜色均匀性优异的防反射膜。在透明基材上具有高折射率层及低折射率层,其中,将该防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘合剂贴合黑色板制成样品,由该样品测定的该防反射膜的视觉反射率Y值满足下述条件(1),并且,由该样品测定的Lab表色系统的a*值及b*值满足特定的条件。<条件(1)>将相对于样品的低折射率层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0度,以入射角5度向样品入射光时,该入射光的正反射光的视觉反射率Y值为0.50%以下。

    防反射膜的制造方法、防反射膜、偏振板及图像显示装置

    公开(公告)号:CN103765249A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201280023924.2

    申请日:2012-05-16

    CPC classification number: G02B1/111 G02F1/133528

    Abstract: 根据本发明,提供能容易地制造具有优异的防反射特性、具有优异的耐擦伤性及防污性,并且抑制至今从未被过问的轻微白化的发生的防反射膜的制造方法、防反射膜、以及使用该膜的偏振板及图像显示装置。本发明提供防反射膜的制造方法,其依次包含工序(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒及粘合剂树脂的低折射率层形成用组合物从而形成涂膜的工序;工序(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相的工序;及工序(3)加热该低折射率相与该防污相,或对该低折射率相与该防污相照射电离射线,形成低折射率层与被覆该低折射率层的整面的防污层的工序,该防反射膜至少依次具有透明基材、低折射率层、及防污层,从该防污层侧通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的氟原子/碳原子比为0.6~1.0,且硅原子/碳原子比小于0.25,该防污层的平均表面粗糙度(Ra’)为10nm以下。

    防反射膜、偏振片和图像显示装置

    公开(公告)号:CN103460079B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201280017337.2

    申请日:2012-04-12

    CPC classification number: G02B1/14 G02B1/105 G02B1/11 G02B1/111 G02B2207/107

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种防反射膜,其具有充分的表面硬度与均匀的表面,同时还具备低折射率层的折射率足够低的低折射率层,具有优异的防反射性能。本发明的防反射膜为在透光性基材之上形成了硬涂层、在上述硬涂层之上形成了低折射率层的防反射膜,该防反射膜的特征在于:上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和防污剂;并且上述低折射率层中的反应性二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层侧的界面附近和/或与上述硬涂层相反的一侧的界面附近。

    防反射膜、使用了该防反射膜的显示装置、及防反射膜的选择方法

    公开(公告)号:CN107407744A

    公开(公告)日:2017-11-28

    申请号:CN201680017086.6

    申请日:2016-03-16

    Abstract: 本发明提供一种抑制反射率且颜色均匀性优异的防反射膜。在透明基材上具有高折射率层及低折射率层,其中,将该防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘合剂贴合黑色板制成样品,由该样品测定的该防反射膜的视觉反射率Y值满足下述条件(1),并且,由该样品测定的Lab表色系统的a*值及b*值满足特定的条件。<条件(1)>将相对于样品的低折射率层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0度,以入射角5度向样品入射光时,该入射光的正反射光的视觉反射率Y值为0.50%以下。

    防反射膜的制造方法、防反射膜、偏振板及图像显示装置

    公开(公告)号:CN103765249B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201280023924.2

    申请日:2012-05-16

    CPC classification number: G02B1/111 G02F1/133528

    Abstract: 根据本发明,提供能容易地制造具有优异的防反射特性、具有优异的耐擦伤性及防污性,并且抑制至今从未被过问的轻微白化的发生的防反射膜的制造方法、防反射膜、以及使用该膜的偏振板及图像显示装置。本发明提供防反射膜的制造方法,其依次包含工序(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒及粘合剂树脂的低折射率层形成用组合物从而形成涂膜的工序;工序(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相的工序;及工序(3)加热该低折射率相与该防污相,或对该低折射率相与该防污相照射电离射线,形成低折射率层与被覆该低折射率层的整面的防污层的工序,该防反射膜至少依次具有透明基材、低折射率层、及防污层,从该防污层侧通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的氟原子/碳原子比为0.6~1.0,且硅原子/碳原子比小于0.25,该防污层的平均表面粗糙度(Ra’)为10nm以下。

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