公开(公告)号：CN110226112A

公开(公告)日：2019-09-10

申请号：CN201880008017.8

申请日：2018-01-30

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 野村崇尚 ,  滨田孝则 ,  中岛正隆 ,  秦健太郎 ,  中村启志 ,  中川博喜

IPC: G02B5/22 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 提供光学膜(10)，所述光学膜(10)具备透光性基材(11)和设置于透光性基材(11)的一个面侧的透光性功能层(12)，其中，380nm波长下的光谱透射率小于1％，410nm波长下的光谱透射率为10％以上且小于60％，并且440nm波长下的光谱透射率为70％以上，透光性功能层(12)的膜厚为9μm以下。

公开(公告)号：CN109196390B

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN201780033030.4

申请日：2017-07-10

Applicant: 大日本印刷株式会社 ,  迪睿合株式会社

Inventor： 堀尾智之 ,  中岛正隆 ,  中村启志 ,  野村崇尚 ,  篠原诚司 ,  松井清隆 ,  大岛研太郎 ,  久保山聪 ,  小野行弘

IPC: G02B1/14 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  G02B1/115

Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。

公开(公告)号：CN107407744B

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201680017086.6

申请日：2016-03-16

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 林真理子 ,  岛津知彦 ,  篠原诚司 ,  中村启志

IPC: G02B1/111 ,  B32B7/023 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种抑制反射率且颜色均匀性优异的防反射膜。在透明基材上具有高折射率层及低折射率层，其中，将该防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘合剂贴合黑色板制成样品，由该样品测定的该防反射膜的视觉反射率Y值满足下述条件(1)，并且，由该样品测定的Lab表色系统的a＊值及b＊值满足特定的条件。＜条件(1)＞将相对于样品的低折射率层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0度，以入射角5度向样品入射光时，该入射光的正反射光的视觉反射率Y值为0.50％以下。

公开(公告)号：CN103299217B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280004568.X

申请日：2012-01-16

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 林真理子 ,  堀尾智之 ,  西村佳泰 ,  猪俣裕哉 ,  中村启志 ,  用木麻友

IPC: G02B1/111 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B1/111 ,  C03C21/002 ,  C08J5/18 ,  C08J5/24 ,  C08J2300/20 ,  C08J2333/08 ,  C08K5/523 ,  C08L1/10 ,  C08L63/00 ,  C08L2205/02 ,  G02B1/04 ,  G02B5/3033 ,  G02B5/305 ,  G02B27/0006 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/133502

Abstract: 本发明涉及一种防反射膜，其为在透光性基材之上具有硬涂层与低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和两种防污剂；上述中空二氧化硅微粒的平均粒径为40nm～80nm，相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂的配比(中空二氧化硅微粒的含量/(甲基)丙烯酸类树脂的含量)为0.9～1.4；相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂100质量份，上述反应性二氧化硅的含量为5质量份～60质量份；上述防污剂含有由氟系化合物形成的防污剂与由氟-硅酮系化合物形成的防污剂。

公开(公告)号：CN102576095B

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201080045188.1

申请日：2010-10-13

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 秋山健太郎 ,  筱原诚司 ,  岛野绘美 ,  中村启志 ,  用木麻友

IPC: G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  B32B27/18 ,  G02B1/10 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/0247 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0278 ,  G02F1/133502 ,  G02F2201/50

Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性，且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜，其特征在于，在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层，其中该低折射率层含有平均初级粒径为10～100nm的中空粒子、及分散平均粒径1～20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子，在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中，至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触，该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50％以上范围，且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。

公开(公告)号：CN102576095A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080045188.1

申请日：2010-10-13

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 秋山健太郎 ,  筱原诚司 ,  岛野绘美 ,  中村启志 ,  用木麻友

IPC: G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  B32B27/18 ,  G02B1/10 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B5/0247 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0278 ,  G02F1/133502 ,  G02F2201/50

Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性，且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜，其特征在于，在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层，其中该低折射率层含有平均初级粒径为10～100nm的中空粒子、及分散平均粒径1～20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子，在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中，至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触，该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50％以上范围，且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。

公开(公告)号：CN105467473B

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201510608197.1

申请日：2015-09-22

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 岛津知彦 ,  筱原诚司 ,  中村启志

IPC: G02B1/11

Abstract: 本发明提供一种防反射膜，其在使用超高精细的显示元件的情况下，抑制显示装置表面的反射，防止超高精细的显示元件的图像品质受损，并且能够抑制白化。本发明的显示元件用的防反射膜，其为在透明基材上具有高折射率层及低折射率层的防反射膜，其中，所述防反射膜的根据下述条件测定的扩散光线反射率(RSCE)为0.12％以下、总光线反射率(RSCI)为4.0％以上。扩散光线反射率及总光线反射率的测定如下所述：制作在防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘着剂贴合有黑色板的样品，测定该样品的低折射率层侧的面的扩散光线反射率(RSCE)。

公开(公告)号：CN109196390A

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201780033030.4

申请日：2017-07-10

Applicant: 大日本印刷株式会社 ,  迪睿合株式会社

Inventor： 堀尾智之 ,  中岛正隆 ,  中村启志 ,  野村崇尚 ,  篠原诚司 ,  松井清隆 ,  大岛研太郎 ,  久保山聪 ,  小野行弘

IPC: G02B1/14 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  G02B1/115

CPC classification number: B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。

公开(公告)号：CN106715121A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201680002561.2

申请日：2016-07-15

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 堀尾智之 ,  中岛正隆 ,  中村启志 ,  佐藤纯 ,  西园健史

IPC: B32B27/00 ,  B32B27/30 ,  G06F3/041

CPC classification number: G02B1/14 ,  B32B3/30 ,  B32B27/00 ,  B32B27/281 ,  B32B27/30 ,  B32B2305/72 ,  B32B2307/40 ,  B32B2307/536 ,  B32B2309/105 ,  G06F3/041 ,  H01L27/323 ,  H01L51/0097 ,  H01L51/5253 ,  H01L2251/5338 ,  H01L2251/562

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有优异的硬度、透明性和耐久折叠性能的有机电致发光用层积体。本发明涉及一种有机电致发光用层积体，其特征在于，其为在有机电致发光层的一个面上层积有光学层积体的有机电致发光用层积体，反复进行10万次以20mm的间隔将上述有机电致发光层积体的整个面折叠180°的试验时不产生裂纹或断裂。

公开(公告)号：CN103079821B

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201180042759.0

申请日：2011-09-06

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 用木麻友 ,  堀尾智之 ,  西村佳泰 ,  林真理子 ,  猪俣裕哉 ,  中村启志

IPC: B32B27/30 ,  B05D5/12 ,  B32B23/08 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18 ,  G02B5/3033 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/24975

Abstract: 本发明提供一种抗静电性硬涂膜，该抗静电性硬涂膜具有极为优异的抗白化性能与抗静电性能，并且还可充分抑制干涉条纹的产生。本发明的抗静电性硬涂膜为具有三乙酰纤维素基材以及在该三乙酰纤维素基材上形成的硬涂层的抗静电性硬涂膜，其特征在于，上述硬涂层含有抗静电剂、(甲基)丙烯酸酯系树脂、以及(甲基)丙烯酸酯系单体聚合物，上述三乙酰纤维素基材具有上述(甲基)丙烯酸酯系单体自上述硬涂层侧界面向与该硬涂层相反的一侧渗透而形成的渗透层，将上述渗透层和硬涂层的合计厚度设为T(μm)、将上述渗透层的厚度设为t(μm)时，上述(T)和(t)满足下式(1)、(2)和(3)。3μm≤T≤18μm (式1)0.3T≤t≤0.9T (式2)2μm≤T-t≤11μm (式3)。