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公开(公告)号：CN103456321B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201310347225.X
申请日：2011-02-01
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C10M169/04 , C10M133/00 , C10M2203/1025 , C10M2215/064 , C10M2215/065 , C10M2215/28 , C10N2230/04 , C10N2230/10 , C10N2230/42 , C10N2230/45 , C10N2240/10 , C10N2240/103 , C10N2240/104 , C10N2240/121 , C10N2260/14
Abstract: 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板及其制造方法，该磁记录介质用玻璃基板为在中心部具有圆孔的圆盘形状，其特征在于，所述磁记录介质用玻璃基板具有内周侧面、外周侧面及两主平面，磁记录介质用玻璃基板的所述两主平面的至少记录重放区域上的平行度为3.2μm以下。
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公开(公告)号：CN102157157B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201110036046.5
申请日：2011-02-01
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C10M169/04 , C10M133/00 , C10M2203/1025 , C10M2215/064 , C10M2215/065 , C10M2215/28 , C10N2230/04 , C10N2230/10 , C10N2230/42 , C10N2230/45 , C10N2240/10 , C10N2240/103 , C10N2240/104 , C10N2240/121 , C10N2260/14
Abstract: 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板及其制造方法，该磁记录介质用玻璃基板为在中心部具有圆孔的圆盘形状，其特征在于，所述磁记录介质用玻璃基板具有内周侧面、外周侧面及两主平面，磁记录介质用玻璃基板的所述两主平面的至少记录重放区域上的平行度为3.2μm以下。
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公开(公告)号：CN106536440A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580038402.3
申请日：2015-07-13
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供即使实施防眩处理和防反射膜形成这两者色调变化也减少了的覆盖玻璃。本发明提供覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一方的面具有由防眩处理形成的凹凸形状且具有所述凹凸形状的面上具备防反射膜的覆盖玻璃，具有所述防反射膜的玻璃面内的任意2点的a*值之差Δa*与b*值之差Δb*满足下式(1)。√{(Δa*)2+(Δb*)2}≤4 (1)。
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公开(公告)号：CN102906814B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201180025053.3
申请日：2011-05-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法，该方法抑制氧化铈磨粒的残留，而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包括：对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序，其中，紧接在氧化铈抛光工序后，在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后，具有：使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1930521A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200580006953.8
申请日：2005-03-04
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G03F7/70966 , C03B19/1453 , C03C3/06 , Y02P40/57 , Y10T428/31616
Abstract: 提供了一种具有低的双折射、可以使用偏振辐照或进行浸没曝光的光掩模基片。一种由合成石英玻璃制成的光掩模基片，该基片用来使用具有最多约200纳米的曝光波长的光源制造半导体，该基片在曝光波长下的双折射最多为1纳米/6.35毫米，使用照度为13.2毫瓦/厘米2的Xe准分子灯辐照之前和辐照20分钟之后，该基片的透光度减少量，即波长217纳米处的透光度之差最多为1.0％。
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公开(公告)号：CN108623179A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810245007.8
申请日：2018-03-23
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/42 , C03C15/00 , C03C15/02 , C03C17/30 , C03C19/00 , C03C21/002 , C03C2204/08 , C03C2217/732 , C03C2217/734 , C03C2217/76 , C03C2218/112 , C03C2218/154 , C03C2218/31 , C03C2218/34 , B32B3/30 , B32B7/12 , B32B17/064 , B32B27/28 , B32B27/285 , B32B33/00 , B32B2307/40
Abstract: 本发明涉及一种防眩光玻璃基板，其为具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面的玻璃基板，在所述第一主面的表面上实施了防眩光处理并且还层叠有作为防污膜的含氟有机硅化合物覆膜，其中，在所述第一主面的一部分具有未实施所述防眩光处理的非防眩光处理部分，所述非防眩光处理部分的表面粗糙度Ra小于10nm，实施了所述防眩光处理的防眩光处理部分与非防眩光处理部分的玻璃基板的板厚方向上的高度之差为10μm以上且200μm以下。
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公开(公告)号：CN103456321A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310347225.X
申请日：2011-02-01
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C10M169/04 , C10M133/00 , C10M2203/1025 , C10M2215/064 , C10M2215/065 , C10M2215/28 , C10N2230/04 , C10N2230/10 , C10N2230/42 , C10N2230/45 , C10N2240/10 , C10N2240/103 , C10N2240/104 , C10N2240/121 , C10N2260/14
Abstract: 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板及其制造方法，该磁记录介质用玻璃基板为在中心部具有圆孔的圆盘形状，其特征在于，所述磁记录介质用玻璃基板具有内周侧面、外周侧面及两主平面，磁记录介质用玻璃基板的所述两主平面的至少记录重放区域上的平行度为3.2μm以下。
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公开(公告)号：CN102906814A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180025053.3
申请日：2011-05-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法，该方法抑制氧化铈磨粒的残留，而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，包括：对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序，其中，紧接在氧化铈抛光工序后，在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后，具有：使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。
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公开(公告)号：CN102157157A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110036046.5
申请日：2011-02-01
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C10M169/04 , C10M133/00 , C10M2203/1025 , C10M2215/064 , C10M2215/065 , C10M2215/28 , C10N2230/04 , C10N2230/10 , C10N2230/42 , C10N2230/45 , C10N2240/10 , C10N2240/103 , C10N2240/104 , C10N2240/121 , C10N2260/14
Abstract: 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板及其制造方法，该磁记录介质用玻璃基板为在中心部具有圆孔的圆盘形状，其特征在于，所述磁记录介质用玻璃基板具有内周侧面、外周侧面及两主平面，磁记录介质用玻璃基板的所述两主平面的至少记录重放区域上的平行度为3.2μm以下。
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