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公开(公告)号：CN101827686B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200980000302.6
申请日：2009-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法，其减少了研磨步骤之后在玻璃衬底上产生的斑点。本发明的研磨玻璃衬底的方法包括在玻璃衬底的最终研磨步骤中注入二氧化硅研磨剂和高沸点溶剂。所述高沸点溶剂优选为分子量300以下且沸点150℃以上的溶剂。作为分子量300以下且沸点150℃以上的高沸点溶剂的实例，包括乙二醇、丙二醇和丙三醇。
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公开(公告)号：CN101827686A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200980000302.6
申请日：2009-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法，其减少了研磨步骤之后在玻璃衬底上产生的斑点。本发明的研磨玻璃衬底的方法包括在玻璃衬底的最终研磨步骤中注入二氧化硅研磨剂和高沸点溶剂。所述高沸点溶剂优选为分子量300以下且沸点150℃以上的溶剂。作为分子量300以下且沸点150℃以上的高沸点溶剂的实例，包括乙二醇、丙二醇和丙三醇。
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公开(公告)号：CN101746957A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910260860.8
申请日：2009-12-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B24B1/00 , B24B7/24 , B24B13/00 , C03C19/00 , C03C21/006 , C03C2218/34 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及一种用于在含碱金属氧化物的玻璃的表面上形成凸部的玻璃表面的微细加工方法，所述方法包含：对与待成为凸部的第二区域的表面相邻的第一区域的表面涂覆保护层的步骤；从第二区域的所述表面去除碱离子的步骤；从第一区域的所述表面去除保护层的步骤；和对所述第二区域的已去除碱离子的所述表面以及所述第一区域的已去除保护层的所述表面进行研磨的步骤。
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公开(公告)号：CN105419645A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201510586902.2
申请日：2015-09-15
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及抛光浆料的再生方法、基板的制造方法。本发明提供抛光浆料的再生方法等，所述抛光浆料的再生方法可以抑制抛光浆料中抛光屑聚集物的混杂、可以易于实现基板制造效率的提高及成品率的提高等。本发明的抛光浆料的再生方法包括再生由于对原板的表面进行抛光而混入有该原板的成分的抛光浆料的再生工序。原板的组成至少包含氧化铝和碱土金属氧化物。在再生工序中，向由于抛光而从原板混入了氧化铝和碱土金属氧化物的抛光浆料中加入酸，然后从抛光浆料中除去氧化铝和碱土金属氧化物，由此再生抛光浆料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101746957B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910260860.8
申请日：2009-12-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B24B1/00 , B24B7/24 , B24B13/00 , C03C19/00 , C03C21/006 , C03C2218/34 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及一种用于在含碱金属氧化物的玻璃的表面上形成凸部的玻璃表面的微细加工方法，所述方法包含：对与待成为凸部的第二区域的表面相邻的第一区域的表面涂覆保护层的步骤；从第二区域的所述表面去除碱离子的步骤；从第一区域的所述表面去除保护层的步骤；和对所述第二区域的已去除碱离子的所述表面以及所述第一区域的已去除保护层的所述表面进行研磨的步骤。
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公开(公告)号：CN101946208A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105684.9
申请日：2009-02-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , C03C23/0025 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F1/72 , G21K2201/067
Abstract: 本发明提供一种使EUVL用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面平滑的方法。本发明涉及一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，其包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。
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公开(公告)号：CN101687696A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022677.8
申请日：2008-04-11
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C23/0075 , G03F1/24 , G03F1/82 , H01J2237/0812 , H01J2237/3151
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过伴有在玻璃衬底表面上进行束辐照或激光辐照的方法从待精加工处理的玻璃衬底表面除去杂质的方法。本发明涉及从玻璃衬底表面除去杂质的方法，所述方法包括在5～15keV的加速电压下对所述玻璃衬底表面进行气体簇离子束腐蚀。
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公开(公告)号：CN106587651A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201610887311.3
申请日：2016-10-11
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C21/002 , C03C17/25 , C03C2217/213 , C03C2217/732 , C03C2217/77 , C03C2217/78 , C03C2218/113 , C03C17/002 , C03C17/23 , C03C2217/73 , C03C2218/112
Abstract: 本发明提供一种不损害由功能层体现的功能、能够得到良好触感的玻璃构件。本发明提供一种玻璃构件，其是在玻璃板的第一表面具有功能层的玻璃构件，从上述功能层一侧测定的马氏硬度为1100N/mm2以上，上述功能层含有二氧化硅，在上述功能层的表面的粗糙度曲线(评价长度L＝10mm)中，将剪切水平设为c，以下的式(1)所表示的负荷长度比Rmr(c)(％)[数1]中，将c＝10％的负荷长度比设为Rmr(10)(％)，将c＝50％的负荷长度比设为Rmr(50)(％)时，RΔc(％)＝Rmr(50)‑Rmr(10)所表示的剪切水平差RΔc为2％以上。
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