信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN102906814B

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201180025053.3

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法,该方法抑制氧化铈磨粒的残留,而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

    信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质

    公开(公告)号:CN101950565B

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201010226127.7

    申请日:2010-07-08

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/042 B24B37/08 C03C19/00 G11B5/7315

    Abstract: 本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质,所述制造方法包含以下工序:对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序;和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序,其特征在于,含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2-Al2O3)为62摩尔%以下;还包含以下工序:紧接着氧化铈抛光工序,使用硫酸浓度为20质量%以上且80质量%以下、过氧化氢浓度为1质量%以上且10质量%以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序,和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。

    含锂复合氧化物以及其制造方法

    公开(公告)号:CN105226266A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201510362506.1

    申请日:2015-06-26

    Abstract: 本发明提供一种一次粒子内的锂离子扩散高、在低温下的输出特性(以下称为低温特性)优异的含锂复合氧化物及其制造方法。本发明使用含有Li、Ni、Co以及Mn作为必需成分的层状化合物,该化合物是c轴晶格常数为14.208~14.228,a轴晶格常数和c轴晶格常数满足3a+5.615≤c≤3a+5.655的关系的六方晶R-3m,XRD谱图中(003)面的峰和(104)面的峰的积分强度比(I003/I104)为1.21~1.39的含锂复合氧化物。

    信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质

    公开(公告)号:CN101950565A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN201010226127.7

    申请日:2010-07-08

    CPC classification number: G11B5/8404 B24B37/042 B24B37/08 C03C19/00 G11B5/7315

    Abstract: 本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板及其制造方法以及磁记录介质,所述制造方法包含以下工序:对包含含碱铝硅酸盐玻璃的玻璃圆板进行研磨的研磨工序;和之后使用含有氧化铈磨粒的浆料进行抛光的氧化铈抛光工序,其特征在于,含碱铝硅酸盐玻璃中的SiO2含量减Al2O3含量得到的差(SiO2-Al2O3)为62摩尔%以下;还包含以下工序:紧接着氧化铈抛光工序,使用硫酸浓度为20质量%以上且80质量%以下、过氧化氢浓度为1质量%以上且10质量%以下的清洗液在50℃以上且100℃以下的液温下对玻璃圆板进行清洗的清洗工序,和在所述清洗工序后使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。

    玻璃制品的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN104093524A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201380008201.X

    申请日:2013-02-01

    CPC classification number: B24B37/044 G11B5/8404 B24B37/00 C03C15/00

    Abstract: 本发明提供一种玻璃制品的制造方法,经过使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及利用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序来制造玻璃制品,该方法能够防止玻璃的表面粗糙。本发明涉及一种玻璃制品的制造方法,包括使用铈基研磨剂对玻璃进行研磨的研磨工序以及之后使用加热后的含有硫酸及过氧化氢水溶液的清洗液对玻璃进行清洗的清洗工序,所述制造方法中,该铈基研磨剂为不含LaOF晶体的铈基研磨剂。

    研磨粒回收装置、研磨液的管理系统、玻璃基板的制造方法及研磨粒回收方法

    公开(公告)号:CN103072085A

    公开(公告)日:2013-05-01

    申请号:CN201210410101.7

    申请日:2012-10-24

    Abstract: 本发明提供一种研磨粒回收装置、研磨液的管理系统、玻璃基板的制造方法及研磨粒回收方法,对该研磨粒回收装置的螺杆和转筒的损害均匀,且控制精度优良、回收率高。本发明涉及一种从含有研磨粒的料浆中分离含有所述研磨粒的浓缩液的研磨粒回收装置,该研磨粒回收装置具有保持所述料浆的转筒、用于将所述浓缩液从转筒中刮出的螺旋输送机、用于旋转驱动所述转筒及所述螺旋输送机的驱动单元、及控制所述驱动单元的控制单元,所述控制单元基于旋转驱动所述转筒或所述螺旋输送机用的所述驱动单元的驱动电流值控制所述转筒的旋转速度和所述螺旋输送机的旋转速度之差。

    信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN102906814A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN201180025053.3

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法,该方法抑制氧化铈磨粒的残留,而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。

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