基板处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108919607A

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201810608818.X

    申请日:2014-06-25

    Abstract: 本发明涉及基板处理装置,目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动,通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有:设在设置面(E)上的减振台(131);设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121);和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

    处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106200277A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201610576185.X

    申请日:2013-03-08

    Abstract: 一种处理装置,沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板,同时将元件的图案转印至片状基板上,其具有:旋转圆筒体,具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面,并通过外周面的一部分卷绕并保持片状基板的一部分,同时绕轴线旋转;转印处理部,在保持片状基板的旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上,将图案转印至片状基板上;刻度部,能够与旋转圆筒体一同绕轴线旋转,且具有从轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度;和多个编码器读头部,配置在与刻度部的外周面相对的周围的2个以上的部位,以读取根据旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的刻度,多个编码器读头部中的、特定的2个编码器读头部分别以使从轴线观察到的刻度的读取位置为90±5.8度的角度范围的方式设定。

    图案形成设备、图案形成方法及装置制造方法

    公开(公告)号:CN102472978B

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201080032017.5

    申请日:2010-07-14

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70716 G03F7/70725 G03F7/70733

    Abstract: 当片(S)的分块区域(SAi)被扫描曝光时,载物台(SST1)在扫描区域(AS)的+X端部的备用位置处将与片(S)的分块区域(SAi)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上,并且与掩模(掩模载物台)同步地以预定行程在X轴方向(-X方向)上移动。此时,与掩模的图案部分对应的照射束通过投射光学系统照射在片(S)上。由此转印(形成)图案。在对分块区域(SAi)进行扫描曝光之后,载物台(SST2)移动到XY平面内的备用位置。在载物台(SST2)将与片(S)的下一个分块区域(SAi+1)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上之后,通过与上述类似的扫描曝光方法进行曝光,由此形成图案。

    曝光设备、曝光方法和加工装置的方法

    公开(公告)号:CN102362227B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201080011781.4

    申请日:2010-03-05

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70275 G03F7/70358 G03F7/70425

    Abstract: 本发明的曝光设备具有:移动机构(SC),其沿着第一方向(X方向)在第一航向上(-X方向)上移动具有光敏性的带形衬底(SH)的第一部分并沿着第一方向在第二航向(+X方向)上移动衬底的第二部分;台机构(MS),保持掩模(M)并与衬底的移动同步地沿着第二方向(Y方向)在第三航向(+Y方向)上移动掩模;以及投影光学系统(PL)。投影光学系统在第一部分上形成图案的第一投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第一部分的第一航向光学对应,并在第二部分上形成图案的第二投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第二部分的第二航向光学对应。

    曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法

    公开(公告)号:CN102612669A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201180004420.1

    申请日:2011-02-02

    Abstract: 本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备:使图案移动的工作台机构(MS);投影光学系统(PL),其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1),且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2);移动机构(SC),该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动;以及调整机构(50),该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔,对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。

    图案形成设备、图案形成方法及装置制造方法

    公开(公告)号:CN102472978A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201080032017.5

    申请日:2010-07-14

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70716 G03F7/70725 G03F7/70733

    Abstract: 当片(S)的分块区域(SAi)被扫描曝光时,载物台(SST1)在扫描区域(AS)的+X端部的备用位置处将与片(S)的分块区域(SAi)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上,并且与掩模(掩模载物台)同步地以预定行程在X轴方向(-X方向)上移动。此时,与掩模的图案部分对应的照射束通过投射光学系统照射在片(S)上。由此转印(形成)图案。在对分块区域(SAi)进行扫描曝光之后,载物台(SST2)移动到XY平面内的备用位置。在载物台(SST2)将与片(S)的下一个分块区域(SAi+1)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上之后,通过与上述类似的扫描曝光方法进行曝光,由此形成图案。

    扫描曝光装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108710263A

    公开(公告)日:2018-10-26

    申请号:CN201810312226.3

    申请日:2014-03-24

    Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置,其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转,使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动,由此将圆筒光罩的图案曝光至基板,其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构,支承机构包括:可旋转地支承转轴的可动体;以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源;及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。

    基板处理装置以及器件制造方法

    公开(公告)号:CN105339846B

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201480034715.7

    申请日:2014-03-24

    CPC classification number: G03F7/24

    Abstract: 具有:第一支承构件,其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方;第二支承构件,其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方;和移动机构,其使第一支承构件旋转,并且使第二支承构件移动,使光罩和基板在扫描曝光方向上移动,投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束,在规定的投影像面上形成图案的像,移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度,使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。

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