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公开(公告)号：CN107450280B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201710586312.9
申请日：2011-09-12
Inventor： 青木保夫
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7075 , G03F7/70791
Abstract: 本发明提供一种移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法。其中，于支承搬出对象的基板(Pa)的第1空气悬浮单元(69)的+X侧配置支承搬入对象的基板(Pa)的第2空气悬浮单元(70)，于第2空气悬浮单元(70)下方将第3空气悬浮单元(75)于θy方向倾斜配置。第1空气悬浮单元(69)配合第3空气悬浮单元(75)而于θy方向倾斜，在基板(Pa)从第1空气悬浮单元(69)上搬送至第3空气悬浮单元(75)上后，第1空气悬浮单元(69)成为水平，基板(Pa)从第2空气悬浮单元(70)上搬送至第1空气悬浮单元(69)上。亦即，对第1空气悬浮单元(69)的基板搬入路径与搬出路径相异。
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公开(公告)号：CN106773553B
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201710129757.4
申请日：2017-03-06
Applicant: 重庆京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F7/70791
Abstract: 本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。
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公开(公告)号：CN106933073A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710076138.3
申请日：2014-09-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约翰·麦克尼尔·怀特
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/2008 , G03F7/2057 , G03F7/24 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70791 , G03F9/7038 , G03F9/7088 , H01L21/67742 , H01L22/20 , H01L31/1876 , H01L51/0014 , H01L51/56 , H01L2251/5338 , G03F7/70733
Abstract: 本发明的实施方式涉及利用主动对准在柔性基板上进行无掩模光刻的设备和方法。在一个实施方式中，一种光刻设备包括圆柱形滚轴，所述圆柱形滚轴可绕着中心轴旋转并且配置成在圆柱形基板支撑表面上传送柔性基板。多个印刷单元的每一者包括图像感测装置和图像印刷装置，多个印刷单元可被定位成面向所述基板支撑表面。当所述柔性基板正被连续地传送时，所述多个印刷单元可捕获所述柔性基板上的标记和/或预先存在的图案的图像，并且根据所捕获的图像，可“即时”调整用于每一印刷单元的曝光图案，从而实现主动对准。
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公开(公告)号：CN106933051A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511031819.5
申请日：2015-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/70716 , G03F7/70358 , G03F7/70725 , G03F7/70791
Abstract: 本发明公开了一种运动台装置、曝光装置及光刻机，其中，所述运动台装置包括：Y向电机，所述Y向电机的电机动子可沿水平面的Y向移动；X向电机，设置在X向导轨上，所述X向导轨与所述Y向电机的电机动子连接，并由所述Y向电机牵引沿水平面的Y向移动，所述X向电机的电机动子可沿水平面的X向移动；内部框架，支承所述X向导轨；运动台，设置在所述X向电机的电机动子上。本发明提供的技术方案使得Y向电机的运动单元整体减重，提升了运动台装置的模态和振动特性，所述X向导轨通过非接触式连接内部框架，对内部框架产生的振动冲击较小，同时使运动控制平稳，提升运动控制精度。
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公开(公告)号：CN106919003A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611176699.2
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , B65H23/1882 , B65H23/24 , B65H2404/1314 , B65H2406/111 , B65H2511/12 , B65H2511/512 , B65H2553/42 , B65H2601/254 , B65H2801/15 , B65H2801/61 , B65H2220/01 , B65H2220/02
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法，将基板搬送于长边方向，于基板的被处理面形成电子元件用的图案，包含：一边利用引导构件分别支承在基板的长边方向上分离既定距离的2处位置，一边以使基板的2处位置之间在与长边方向正交的短边方向以既定程度收缩的方式，对基板的既定距离的部分赋予长边方向张力的步骤；在2处位置之间，在无摩擦的状态或接触区域小的状态下，利用基板支承构件将基板的被处理面的背侧的面的一部分，平面状或曲面状地予以支承的步骤；在与在以既定程度收缩的状态下利用基板支承构件予以支承的基板的一部分对应而被设定于被处理面的区域内形成电子元件用的图案的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103270454B
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201180053409.4
申请日：2011-08-16
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 水村通伸
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/68
CPC classification number: G03F9/00 , G03B17/24 , G03B27/53 , G03B27/58 , G03F7/2002 , G03F7/70791
Abstract: 在薄膜基材（20）的宽度方向的两侧的薄膜基材送给用区域的至少一个区域形成侧部曝光材料膜，通过定位标记形成部（14），照射曝光光来形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测薄膜弯曲行进，调整掩模（12）的位置。由此，将薄膜进行连续曝光时的定位标记的形成很容易，且高精度地修正薄膜的弯曲行进，能够得到能稳定地曝光的薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法。
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公开(公告)号：CN103119706B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201180016854.3
申请日：2011-03-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 青木保夫
IPC: H01L21/677 , G03F7/20 , B65G49/06
CPC classification number: G03F7/7075 , B65G49/064 , G03F7/70791 , H01L21/67748
Abstract: 第1搬送单元(50a)，是藉由使从下方支承基板(Pa)的基板匣(90a)滑动于与基板表面平行的一轴方向(Y轴方向)而从基板保持具(22)上搬出。另一方面，第2搬送单元(50b)是与基板(Pa)的搬出动作并行地(在支承基板(Pa)的基板匣(90a)的一部分位于基板保持具(22)上的状态下)，藉由使从下方支承基板(Pb)的基板匣(90b)滑动于Y轴方向而搬入基板保持具(22)上。因此，能迅速地进行基板保持具上的基板的更换。
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公开(公告)号：CN102483578B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201080036901.6
申请日：2010-08-17
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70716 , B65G49/065 , B65G2249/04 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , H01L21/68 , H01L21/6838 , Y10T29/49998
Abstract: 于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。
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公开(公告)号：CN102483579B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201080036924.7
申请日：2010-08-17
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/707 , B65G49/065 , G03F1/82 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , H01L21/67784 , H01L21/68 , H01L21/6838
Abstract: 基板(P)通过形成为框状的轻量基板保持框(60)所吸附保持，基板保持框(60)通过包含线性马达的驱动单元(70)沿水平面被驱动。在基板保持框(60)下方，配置有对基板(P)下面喷出空气而以非接触方式悬浮支承该基板(P)成大致水平的空气悬浮单元(50)。由于多个空气悬浮单元(50)涵盖基板保持框(60)的移动范围，因此驱动单元(70)能以高速且高精度将基板保持框(60)(基板(P))沿水平面导引。
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公开(公告)号：CN104704625A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201380052699.X
申请日：2013-09-27
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： A.J.W.范里伊文努根 , F.B.斯佩林
CPC classification number: G03F7/70758 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70791 , G05B15/02 , H01L21/68
Abstract: 本发明涉及具有非常稳定的温度、非常低的功耗和均匀的温度分布的例如用作晶片台的定位设备。长行程台（20）和短行程台（50）堆叠在彼此之上。为了发起长行程台（20）和短行程台（50）在期望移动方向（M1）上的移动，首先以预定时间间隔以及比长行程台（20）的静止状态中的铁磁中心行程元件（52）与两个致动器（30、40）中的最靠近的一个致动器之间的距离（d）更短的距离、在与期望移动方向（M1）相反的相反方向（M2）上移动长行程台（20）和/或首先在期望移动方向（M1）上移动短行程台（50）。随后，在期望移动方向（M1）上移动长行程台（20）。
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