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公开(公告)号：CN105556391B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107209461A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号：CN105556391A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN111781806B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202010741934.6
申请日：2016-10-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
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公开(公告)号：CN111665687B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202010601959.6
申请日：2016-06-17
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 小宫山弘树
Abstract: 本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111638631B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202010522658.4
申请日：2016-03-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027 , G02B26/12
Abstract: 本发明的光束扫描装置，是一边将光束的点光投射于对象物的被照射面、一边进行该点光于该被照射面上沿扫描线的一维扫描，其具备：射入光束的入射光学构件、将来自入射光学构件的光束为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件、射入经偏向的光束后投射于被照射面的投射光学系、以及支承入射光学构件、扫描用偏向构件及投射光学系、可绕与照射中心轴在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴旋转的支承架，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光的扫描在该被照射面上形成的扫描线的中点。
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公开(公告)号：CN113330370A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN202080010606.7
申请日：2020-02-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/673
Abstract: 本发明的掩模配接器的一形态是在对支撑于平台的掩模进行照明而将形成于所述掩模的图案曝光于基板上的曝光装置中使用且安装于所述掩模的掩模配接器，其包括：本体部，包括在形成有所述图案的区域外支撑所述掩模的支撑部、及支撑于所述平台的被支撑部；以及第一被检测部，在所述本体部上，能够利用所述曝光装置的检测部来检测，并且所述第一被检测部包含与所述掩模配接器相关的信息。
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公开(公告)号：CN107209461B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号：CN107255908B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107255908A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201710545966.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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