电子枪、真空处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102484024B

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201080041421.9

    申请日:2010-09-15

    Abstract: 本发明的电子枪的特征在于,在比阳极电极(23)靠近发射口(13)侧具备被施加了相对于阳极电极(23)为正电压的推斥电极(24),所述推斥电极(24)将通过电子束与残留气体的碰撞而产生的沿着中心轴线(28)向阴极电极(21)方向行进的正离子向真空槽(18)侧推回。由于所述推斥电极(24)是圆筒形形状,所以不使电子束的轨道弯曲。此外,由于在所述推斥电极(24)形成有许多细孔,所以推斥电极(24)内的气体通过所述细孔而被真空排气。由此,能够提供防止正离子入射到阴极电极(21)的长寿命的电子枪。

    电子枪、真空处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102484024A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201080041421.9

    申请日:2010-09-15

    Abstract: 本发明的电子枪的特征在于,在比阳极电极(23)靠近发射口(13)侧具备被施加了相对于阳极电极(23)为正电压的推斥电极(24),所述推斥电极(24)将通过电子束与残留气体的碰撞而产生的沿着中心轴线(28)向阴极电极(21)方向行进的正离子向真空槽(18)侧推回。由于所述推斥电极(24)是圆筒形形状,所以不使电子束的轨道弯曲。此外,由于在所述推斥电极(24)形成有许多细孔,所以推斥电极(24)内的气体通过所述细孔而被真空排气。由此,能够提供防止正离子入射到阴极电极(21)的长寿命的电子枪。

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