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公开(公告)号:CN106716058A
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201580049986.4
申请日:2015-07-31
Abstract: 本发明所涉及的形状测定装置以及形状测定方法分别测定第一距离测定部及第二距离测定部在相向方向上的第一位移及第二位移,基于所述第一距离测定部及第二距离测定部分别测定出的第一距离测定结果及第二距离测定结果,求出用所述测定出的第一位移及第二位移修正过的被测定物沿所述相向方向的厚度来作为被测定物的形状,其中,所述第一距离测定部及第二距离测定部隔着测定对象的所述被测定物互相相向地被配置,分别测定至所述被测定物为止的距离。
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公开(公告)号:CN106716058B
公开(公告)日:2019-06-28
申请号:CN201580049986.4
申请日:2015-07-31
Abstract: 本发明所涉及的形状测定装置以及形状测定方法分别测定第一距离测定部及第二距离测定部在相向方向上的第一位移及第二位移,基于所述第一距离测定部及第二距离测定部分别测定出的第一距离测定结果及第二距离测定结果,求出用所述测定出的第一位移及第二位移修正过的被测定物沿所述相向方向的厚度来作为被测定物的形状,其中,所述第一距离测定部及第二距离测定部隔着测定对象的所述被测定物互相相向地被配置,分别测定至所述被测定物为止的距离。
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公开(公告)号:CN110296662B
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN201910113440.0
申请日:2019-02-13
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor: 田原和彦
Abstract: 本发明提供一种形状测量装置,基于对第1A面测量光和第2A面测量光进行光外差干涉而得到的A面参照干涉光和A面测量干涉光、以及对第1B面测量光和第2B面测量光进行光外差干涉而得到的B面参照干涉光和B面测量干涉光来测量被测量物(WA)的厚度变化量,在进行上述各光外差干涉时,将上述第1A面测量光和上述第2B面测量光设为同一频率,并且将上述第1B面测量光和上述第2A面测量光设为同一频率。
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公开(公告)号:CN110296662A
公开(公告)日:2019-10-01
申请号:CN201910113440.0
申请日:2019-02-13
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor: 田原和彦
Abstract: 本发明提供一种形状测量装置,基于对第1A面测量光和第2A面测量光进行光外差干涉而得到的A面参照干涉光和A面测量干涉光、以及对第1B面测量光和第2B面测量光进行光外差干涉而得到的B面参照干涉光和B面测量干涉光来测量被测量物(WA)的厚度变化量,在进行上述各光外差干涉时,将上述第1A面测量光和上述第2B面测量光设为同一频率,并且将上述第1B面测量光和上述第2A面测量光设为同一频率。
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