形状测量装置及其方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110296662B

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN201910113440.0

    申请日:2019-02-13

    Inventor: 田原和彦

    Abstract: 本发明提供一种形状测量装置,基于对第1A面测量光和第2A面测量光进行光外差干涉而得到的A面参照干涉光和A面测量干涉光、以及对第1B面测量光和第2B面测量光进行光外差干涉而得到的B面参照干涉光和B面测量干涉光来测量被测量物(WA)的厚度变化量,在进行上述各光外差干涉时,将上述第1A面测量光和上述第2B面测量光设为同一频率,并且将上述第1B面测量光和上述第2A面测量光设为同一频率。

    形状测量装置及其方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110296662A

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201910113440.0

    申请日:2019-02-13

    Inventor: 田原和彦

    Abstract: 本发明提供一种形状测量装置,基于对第1A面测量光和第2A面测量光进行光外差干涉而得到的A面参照干涉光和A面测量干涉光、以及对第1B面测量光和第2B面测量光进行光外差干涉而得到的B面参照干涉光和B面测量干涉光来测量被测量物(WA)的厚度变化量,在进行上述各光外差干涉时,将上述第1A面测量光和上述第2B面测量光设为同一频率,并且将上述第1B面测量光和上述第2A面测量光设为同一频率。

Patent Agency Ranking