厚度测定方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102027315B

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN200880121148.3

    申请日:2008-04-01

    CPC classification number: G01B11/0675

    Abstract: 本发明涉及一种厚度测定方法,本发明所涉及的厚度测定方法利用干涉计测定层叠在基底层上的对象层的厚度,上述厚度测定方法包括:通过由与上述对象层实质上相同的材质构成并具有相互不同厚度的诸多样品层,获得对于上述样品层厚度的相位差的关系式的步骤;在空气层和基底层的分界面上,求出对于入射到上述基底层的光轴方向的第一干涉信号的步骤;在上述对象层和上述基底层的分界面上,求出对于上述光轴方向的第二干涉信号的步骤;对于上述光轴方向,在实质上相同的高度上,求出上述第一干涉信号的相位和上述第二干涉信号的相位之间的相位差的步骤;以及将上述相位差代入上述关系式来确定上述对象层厚度。

    厚度测定装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101802543A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200880106944.X

    申请日:2008-04-02

    CPC classification number: G01B11/0625

    Abstract: 本发明涉及一种厚度测定装置,包括:第一分光器,用于反射或透射从光源照射的光或者由被测对象反射的光;第一透镜部,用于向被测对象会聚光,并生成与所述由被测对象反射到的光存在光路径差的基准光;第二透镜部,用于向被测对象会聚光;干涉光检测器,其与所述第一透镜部相对应形成光路径,并测出通过由所述被测对象反射的光和所述基准光所产生的干涉信号;分光检测器,其与所述第二透镜部相对应形成与通过所述干涉光检测器形成的光路径不同的光路径,并分光由所述被测对象反射的光,以检测出被分光的光的强度和波长;及光路径变换部,有选择地向干涉光检测器或者分光检测器中的其中一侧传送光。第一透镜部和第二透镜部可在光路径上交换位置。

    厚度测定装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101802543B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200880106944.X

    申请日:2008-04-02

    CPC classification number: G01B11/0625

    Abstract: 本发明涉及一种厚度测定装置,包括:第一分光器,用于反射或透射从光源照射的光或者由被测对象反射的光;第一透镜部,用于向被测对象会聚光,并生成与所述由被测对象反射到的光存在光路径差的基准光;第二透镜部,用于向被测对象会聚光;干涉光检测器,其与所述第一透镜部相对应形成光路径,并测出通过由所述被测对象反射的光和所述基准光所产生的干涉信号;分光检测器,其与所述第二透镜部相对应形成与通过所述干涉光检测器形成的光路径不同的光路径,并分光由所述被测对象反射的光,以检测出被分光的光的强度和波长;及光路径变换部,有选择地向干涉光检测器或者分光检测器中的其中一侧传送光。第一透镜部和第二透镜部可在光路径上交换位置。

    厚度测定方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102027315A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN200880121148.3

    申请日:2008-04-01

    CPC classification number: G01B11/0675

    Abstract: 本发明涉及一种厚度测定方法,本发明所涉及的厚度测定方法利用干涉计测定层叠在基底层上的对象层的厚度,上述厚度测定方法包括:通过由与上述对象层实质上相同的材质构成并具有相互不同厚度的诸多样品层,获得对于上述样品层厚度的相位差的关系式的步骤;在空气层和基底层的分界面上,求出对于入射到上述基底层的光轴方向的第一干涉信号的步骤;在上述对象层和上述基底层的分界面上,求出对于上述光轴方向的第二干涉信号的步骤;对于上述光轴方向,在实质上相同的高度上,求出上述第一干涉信号的相位和上述第二干涉信号的相位之间的相位差的步骤;以及将上述相位差代入上述关系式来确定上述对象层厚度。

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