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公开(公告)号：CN103781743B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201280043379.3
申请日：2012-08-27
Applicant: 花王株式会社
IPC: C04B35/622 , B28B1/30 , C04B35/632 , C09K3/16
CPC classification number: C04B35/4682 , C04B35/62625 , C04B35/632 , C04B35/634 , C04B2235/5409 , C04B2235/5454
Abstract: 本发明提供一种能够制造抗静电性、剥离性以及韧性优良的陶瓷片材的含有碱性陶瓷的浆料组合物。本发明公开的一个实施方式涉及一种浆料组合物，其含有：含有含氮杂芳香族季铵阳离子基团的阳离子化合物、高分子分散剂、非水系溶剂、碱性陶瓷材料、以及聚乙烯醇缩醛树脂。
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公开(公告)号：CN102257080B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200980151275.2
申请日：2009-12-17
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09D11/326 , C09B67/0097
Abstract: 本发明是一种喷出性和打印浓度优异、且为低粘度的喷墨记录用水性油墨，其是包含含有着色剂的聚合物粒子(A)、水溶性有机溶剂(B)及水的喷墨记录用水性油墨，所述含有着色剂的聚合物粒子(A)是通过将着色剂用水溶性聚合物(x)及水不溶性聚合物(y)分散而得到的，其中，水不溶性聚合物(y)相对于水溶性聚合物(x)的重量比〔(y)/(x)〕为2.0～5.0，且水溶性有机溶剂(B)的含量为10～70重量％。第2发明是一种体现出应对高速印刷的高打印浓度的喷墨记录用水分散体的制造方法，其具有以下工序：工序(I)，对着色剂分散体以及含有有机溶剂的水不溶性聚合物胶乳进行混合；工序(II)，对所得到的混合物进行分散处理，从而得到在着色剂上附着有水不溶性聚合物的分散体；工序(III)，从所得到的分散体中除去有机溶剂。
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公开(公告)号：CN102597135A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080049266.5
申请日：2010-10-09
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09D11/38 , C09B67/0051 , C09D7/45 , C09D11/326
Abstract: 本发明提供(1)一种喷墨记录用水分散体和(2)一种喷墨记录用水性油墨。所述喷墨记录用水分散体是通过将C.I.颜料黄74(A)与下述式(1)表示的偶氮化合物(B)的颜料混合物用聚合物来进行分散而形成的，所述(A)和(B)的总计颜料固体成分量为15～35重量％；所述喷墨记录用水性油墨是通过将C.I.颜料黄74(A)与偶氮化合物(B)的颜料混合物用聚合物来进行分散而形成的，所述(A)和(B)的总计颜料固体成分量为3～20重量％。该水分散体以及水性油墨的打印浓度和保存稳定性优良。下述式中，R10和R20表示芳基，R10和R20中的至少一个具有磺酸基和磺酰胺基。
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公开(公告)号：CN100378145C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN02145898.7
申请日：2002-06-20
Applicant: 花王株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 含有研磨材料和水的研磨液组合物，是沉降度指数80以上，100以下的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物来研磨基板的工序的基板的制造方法，使用上述研磨液组合物来防止研磨片堵塞的方法，使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用上述的研磨液组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用含有分子中具有2个以上亲水基团，分子量在300以上的亲水性高分子或可在pH8.0溶解氢氧化镍的化合物和水的组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。
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公开(公告)号：CN103781743A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201280043379.3
申请日：2012-08-27
Applicant: 花王株式会社
IPC: C04B35/622 , B28B1/30 , C04B35/632 , C09K3/16
CPC classification number: C04B35/4682 , C04B35/62625 , C04B35/632 , C04B35/634 , C04B2235/5409 , C04B2235/5454
Abstract: 本发明提供一种能够制造抗静电性、剥离性以及韧性优良的陶瓷片材的含有碱性陶瓷的浆料组合物。本发明公开的一个实施方式涉及一种浆料组合物，其含有：含有含氮杂芳香族季铵阳离子基团的阳离子化合物、高分子分散剂、非水系溶剂、碱性陶瓷材料、以及聚乙烯醇缩醛树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1923920B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200610128075.3
申请日：2006-09-01
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09D11/322 , C09D11/30
Abstract: 本发明提供包含着色剂、平均粒径为110～400nm的金属氧化物微粒和水不溶性聚合物粒子、且该金属氧化物微粒和着色剂的含有比例(金属氧化物微粒/着色剂)以重量比计为0.15～10的喷墨记录用水分散体；包含平均粒径为400nm以下的金属氧化物微粒和含着色剂的水不溶性聚合物粒子的喷墨记录用水分散体；包含片状金属氧化物微粒和含着色剂的水不溶性聚合物粒子的喷墨记录用水分散体以及含有上述水分散体的喷墨记录用水性油墨。根据本发明，在普通纸等上印刷时，可以实现高的印刷浓度。
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公开(公告)号：CN1715358B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510076332.9
申请日：2005-06-14
Applicant: 花王株式会社
Inventor： 吉田宏之
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02
Abstract: 本发明提供一种研磨液组合物，其含有采用硅酸盐制造的胶体氧化硅和水，所述胶体氧化硅的一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm，其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度相对于每1g胶体氧化硅为0.06～0.3mmol；提供一种所述研磨液组合物的制造方法；提供一种基板的纳米划痕的减少方法以及基板的制造方法，其具有研磨工序，在该研磨工序中，使用含有采用硅酸盐制造的、一次粒子的平均粒径不小于1nm且不足40nm的胶体氧化硅和水的研磨液组合物研磨被研磨基板，其中所述胶体氧化硅表面的硅烷醇基密度被调整成相对于每1g胶体氧化硅为0.06～0.3mmol。本发明的研磨液组合物适用于存储硬盘基板等的磁盘、光盘、磁光盘等记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。
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公开(公告)号：CN101016428A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710005458.6
申请日：2007-02-08
Applicant: 花王株式会社
Abstract: 本发明是含有：着色剂；具有1.0～2.2的折射率且不包括颜料的粒子(I)；以及具有碳原子数为8～30的饱和或不饱和的烃基、在100g水中的溶解度(25℃)为1g以下的非离子性有机化合物的喷墨记录用水分散体以及含有上述水分散体的水性油墨，且本发明提供在普通纸上以一次走纸方式进行印刷时的印刷浓度高、且适合高速印刷的喷墨记录用水性油墨以及用于该油墨的分散体。
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公开(公告)号：CN1923920A
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200610128075.3
申请日：2006-09-01
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09D11/322 , C09D11/30
Abstract: 本发明提供包含着色剂、平均粒径为110～400nm的金属氧化物微粒和水不溶性聚合物粒子、且该金属氧化物微粒和着色剂的含有比例(金属氧化物微粒/着色剂)以重量比计为0.15～10的喷墨记录用水分散体；包含平均粒径为400nm以下的金属氧化物微粒和含着色剂的水不溶性聚合物粒子的喷墨记录用水分散体；包含片状金属氧化物微粒和含着色剂的水不溶性聚合物粒子的喷墨记录用水分散体以及含有上述水分散体的喷墨记录用水性油墨。根据本发明，在普通纸等上印刷时，可以实现高的印刷浓度。
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公开(公告)号：CN1427025A
公开(公告)日：2003-07-02
申请号：CN02145898.7
申请日：2002-06-20
Applicant: 花王株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 含有研磨材料和水的研磨液组合物，是沉降度指数80以上，100以下的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物来研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法，使用上述研磨液组合物来防止研磨片堵塞的方法，使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用上述的研磨液组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用含有分子中具有2个以上亲水基，分子量300以上的亲水性高分子或在pH值8.0可溶解氢氧化镍的化合物和水的组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。
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