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公开(公告)号：CN1475541A
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN03152471.0
申请日：2003-07-31
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , Y10T428/32
Abstract: 一种研磨液组合物，含有研磨材、水、和有机酸或其盐，其剪切速度1500s－1时的在25℃的特定粘度为1.0－2.0MPa·s；一种倒棱降低剂，由具有用下式表示(粘度降低量＝基准研磨液组合物的粘度－含有倒棱降低剂的研磨液组合物的粘度)的粘度降低量为0.01MPa·s以上的粘度降低作用的布朗斯台德酸或其盐构成，其中，基准研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份及水79重量份构成，含有倒棱降低剂的研磨液组合物由研磨材20重量份、柠檬酸1重量份、水78.9重量份及倒棱降低剂0.1重量份构成，粘度是指在剪切速度1500s－1、25℃下的粘度。前述研磨液组合物或倒棱降低剂组合物可很好地用于精密部件用基板等的研磨。
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公开(公告)号：CN1307079A
公开(公告)日：2001-08-08
申请号：CN01103203.0
申请日：2001-02-02
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: G11B23/505 , B24B37/044 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 本发明涉及一种抛光组合物,它含有氧化硅颗粒、水和聚氨基羧酸的铁盐和/或铝盐;本发明还涉及一种使用该抛光组合物的抛光方法;涉及一种制造磁盘基片的方法,它包括用该抛光组合物抛光基片的步骤;还涉及使用该抛光组合物制得的磁盘基片。
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公开(公告)号：CN100509927C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200310124748.4
申请日：2003-12-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409
Abstract: 本发明提供：由具有2个以上离子型亲水基团的表面活性剂组成的用于研磨精密部件用基板的微小波纹减少剂；由具有OH基或SH基的总碳原子数为2～15的多元羧酸化合物或其盐形成的用于研磨精密部件用基板的微小波纹减少剂；含有该微小波纹减少剂、研磨材料和水的用于研磨精密部件用基板的研磨液组合物；含有水、研磨材料、有机酸或其盐和表面活性剂的研磨液组合物，其中的有机酸是具有OH基或SH基的总碳原子数为2～15个的多元羧酸，而且，表面活性剂的分子中具有2个以上离子型亲水基团，分子量为300以上；用于减少精密部件用基板上微小波纹的方法；及精密部件用基板的制造方法。
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公开(公告)号：CN100460478C
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200410056230.6
申请日：2004-08-05
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及含有氧化铝、水、过氧化物及有机酸的磁盘用研磨液组合物，包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的被研磨基板的研磨方法，及包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。研磨液组合物可以适用于制造高质量的硬盘等的磁盘基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1781971A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510125376.6
申请日：2005-11-16
Applicant: 花王株式会社
IPC: C08J5/14
CPC classification number: B24B37/042
Abstract: 本发明提供一种研磨液组合物，其含有有机氮化合物、有机多元酸、研磨材料和水，其中有机氮化合物在分子内具有两个或更多个氨基或亚氨基，或者在分子内具有1个或多个氨基以及1个或多个亚氨基；以及提供使用该研磨液组合物的基板的制造方法和基板表面污染的减少方法。该研磨液组合物例如可以适用于存储硬盘等硬盘用基板的制造工序。
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公开(公告)号：CN1247731C
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN01117604.0
申请日：2001-04-27
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种辗轧减少剂，它含有一种或多种选自具有2-20个碳原子并具有OH基团(一个或多个)或SH基团(一个或多个)的羧酸、具有1-20个碳原子的单羧酸、具有2-3个碳原子的二羧酸及其盐的化合物；和一种辗轧减少剂组合物，它含有一种辗轧减少剂，该辗轧减少剂含有一种或多种选自具有2-20个碳原子并具有OH基团(一个或多个)或SH基团(一个或多个)的羧酸、具有1-20个碳原子的单羧酸、具有2-3个碳原子的二羧酸及其盐的化合物和研磨剂及水。
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公开(公告)号：CN1580173A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN200410056230.6
申请日：2004-08-05
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及含有氧化铝、水、过氧化物及有机酸的磁盘用研磨液组合物，包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的被研磨基板的研磨方法，及包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。研磨液组合物可以适用于制造高质量的硬盘等的磁盘基板。
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公开(公告)号：CN1576346A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410061916.4
申请日：2004-06-29
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及含有α－氧化铝、中间氧化铝、氧化剂及水的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的减少被研磨基板的表面波纹的方法，及具有使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。上述研磨液组合物例如适用于研磨磁盘、光盘、光磁盘等磁记录介质的基板、光掩模基板、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件用基板。
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公开(公告)号：CN100469527C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200410056293.1
申请日：2004-08-06
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , G11B5/8404 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及包括(a)使用含有平均粒径为0.05～0.5μm的氧化铝磨粒和氧化剂的研磨液(研磨液组合物A)研磨加工基板的工序，和(b)使用含有平均粒径为0.005～0.1μm的二氧化硅粒子的研磨液(研磨液组合物B)研磨加工基板的工序的磁盘用基板的制造方法、由上述磁盘用基板的制造方法得到的磁盘用基板，以及具有长波长表面波纹为0.05nm以上0.3nm以下，且AFM表面粗糙度为0.03nm以上0.2nm以下的表面特性的磁盘用基板。该磁盘用基板适用于制造高记录密度的硬盘。特别地，可以产业化制造50G比特/平方英寸以上的高记录密度的硬盘。
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