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公开(公告)号:CN106233433B
公开(公告)日:2019-03-05
申请号:CN201580019805.3
申请日:2015-04-15
Applicant: AGC株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 蚀刻装置(100)包括:蚀刻槽(110),具有基板搬入口(111)及基板搬出口(112);搬运装置(120),从基板搬入口(111)朝向基板搬出口(112)搬运基板(500);喷嘴(130),设置在蚀刻槽(110)的内部,向由搬运装置(120)搬运的基板500的背面(510)喷吹反应气体;及气流控制装置(140),设置在蚀刻槽(110)的内部,抑制从基板搬入口(111)及基板搬出口(112)流入到蚀刻槽(110)的内部的外部气体向基板(500)的背面(510)与喷嘴(130)之间的间隙(131)的流入。
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