公开(公告)号：CN111683910A

公开(公告)日：2020-09-18

申请号：CN201980011005.5

申请日：2019-01-30

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 赤尾安彦 ,  藤原晃男

IPC: C03C17/34 ,  C03C3/064 ,  C03C3/097 ,  C03C17/245 ,  G02B1/115

Abstract: 本发明提供使用了高折射率的玻璃且具有优异的强度的带防反射膜的玻璃基板以及使用其的光学部件。上述带防反射膜的玻璃基板具备由折射率(nd)为1.68～2.00的玻璃构成的板厚为0.01～2mm的玻璃基板和设置于该玻璃基板的至少一个主表面上的防反射膜。

公开(公告)号：CN111741936A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201980013998.X

申请日：2019-08-16

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 山本浩史 ,  赤尾安彦 ,  藤原晃男 ,  今城信彦

IPC: C03C17/22 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091

Abstract: 一种层叠体，具有玻璃板和涂层，上述涂层含有选自氮化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌、氧化锆、氧化铟锡、氧化硅、氟化镁和氟化钙中的1种以上的成分，玻璃板的厚度dg与涂层的厚度dc之比(dc/dg)在0.05×10－3～1.2×10－3的范围，上述层叠体的自重挠曲校正条件下的曲率半径r1为10m～150m。

公开(公告)号：CN116496000A

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN202310390146.0

申请日：2019-08-16

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 山本浩史 ,  赤尾安彦 ,  藤原晃男 ,  今城信彦

IPC: C03C17/22 ,  C23C14/34 ,  C23C14/10 ,  C23C14/08 ,  C23C14/06 ,  C03C3/091 ,  C03C17/23 ,  C03C3/087

Abstract: 一种层叠体，具有玻璃板和涂层，上述涂层含有选自氮化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌、氧化锆、氧化铟锡、氧化硅、氟化镁和氟化钙中的1种以上的成分，玻璃板的厚度dg与涂层的厚度dc之比(dc/dg)在0.05×10－3～1.2×10－3的范围，上述层叠体的自重挠曲校正条件下的曲率半径r1为10m～150m。

公开(公告)号：CN110364538B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN201910291541.7

申请日：2019-04-11

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 岛村刚直 ,  赤尾安彦 ,  前野泰伸 ,  增茂邦雄 ,  泷本康幸 ,  吉野晴彦

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及布线膜和布线膜的形成方法。本发明提供一种设置在基板上的多层结构的布线膜，其特征在于，所述布线膜包含：初始层，所述初始层成膜于所述基板上，膜厚为3nm～200nm，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物；和第二层及第二层之后的层，所述第二层及第二层之后的层成膜于所述初始层上，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物，并且所述布线膜在所述初始层与所述第二层之间具有界面。提供一种通过真空气氛下的溅射而形成包含金属元素的多层结构的布线膜的方法，所述方法包含：在所述基板上成膜膜厚为3nm～200nm的初始层、然后进行抽真空的工序；和在所述初始层上成膜第二层及第二层之后的层的工序。

公开(公告)号：CN111741936B

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN201980013998.X

申请日：2019-08-16

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 山本浩史 ,  赤尾安彦 ,  藤原晃男 ,  今城信彦

IPC: C03C17/22 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091

Abstract: 一种层叠体，具有玻璃板和涂层，上述涂层含有选自氮化硅、氧化钛、氧化铝、氧化铌、氧化锆、氧化铟锡、氧化硅、氟化镁和氟化钙中的1种以上的成分，玻璃板的厚度dg与涂层的厚度dc之比(dc/dg)在0.05×10－3～1.2×10－3的范围，上述层叠体的自重挠曲校正条件下的曲率半径r1为10m～150m。

公开(公告)号：CN110364538A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201910291541.7

申请日：2019-04-11

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 岛村刚直 ,  赤尾安彦 ,  前野泰伸 ,  增茂邦雄 ,  泷本康幸 ,  吉野晴彦

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及布线膜和布线膜的形成方法。本发明提供一种设置在基板上的多层结构的布线膜，其特征在于，所述布线膜包含：初始层，所述初始层成膜于所述基板上，膜厚为3nm～200nm，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物；和第二层及第二层之后的层，所述第二层及第二层之后的层成膜于所述初始层上，并包含由金属元素构成的金属或合金、或者金属或合金的化合物，并且所述布线膜在所述初始层与所述第二层之间具有界面。提供一种通过真空气氛下的溅射而形成包含金属元素的多层结构的布线膜的方法，所述方法包含：在所述基板上成膜膜厚为3nm～200nm的初始层、然后进行抽真空的工序；和在所述初始层上成膜第二层及第二层之后的层的工序。