公开(公告)号：CN101809499B

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN200880108918.0

申请日：2008-09-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 佐藤孝 ,  暮石光浩

IPC: G03F1/80 ,  B29C59/02 ,  B81C99/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B81C99/009 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供一种使用掩模坯体而形成有高精度细微图案的压印用模具的制造方法。在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜的掩模坯体中，薄膜由上层和下层构成，上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。通过使用了实质上不包含氧的氯系气体的干蚀刻处理对薄膜的上层和下层进行蚀刻加工，接着通过使用了氟系气体的干蚀刻处理对基板进行蚀刻加工，由此得到压印用模具。

公开(公告)号：CN103828022A

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201280047339.6

申请日：2012-09-12

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 谷口和丈 ,  岸本秀司 ,  佐藤孝

IPC: H01L21/027 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  B81C99/00 ,  G03F1/50 ,  G11B5/84

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C33/424 ,  B29C33/56 ,  B29C2033/0094 ,  B29C2059/023 ,  B29K2905/08 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C09D1/00 ,  G03F7/0002 ,  G11B5/855 ,  Y10T428/265 ,  B29C33/3878

Abstract: 在具有硬掩模层的模具坯中，所述硬掩模层具有包含铬、氮和氧的组成，并具有这样的含有率变化结构：所述氮的含有率在层厚方向上连续性地或者阶段性地变化，而且所述氧的含有率在所述层厚方向上朝与所述氮实质相反的方向连续性地或者阶段性地变化。

公开(公告)号：CN101809499A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200880108918.0

申请日：2008-09-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 佐藤孝 ,  暮石光浩

IPC: G03F1/08 ,  B29C59/02 ,  B81C5/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B81C99/009 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供一种使用掩模坯体而形成有高精度细微图案的压印用模具的制造方法。在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜的掩模坯体中，薄膜由上层和下层构成，上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。通过使用了实质上不包含氧的氯系气体的干蚀刻处理对薄膜的上层和下层进行蚀刻加工，接着通过使用了氟系气体的干蚀刻处理对基板进行蚀刻加工，由此得到压印用模具。