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公开(公告)号：CN101813883A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN101846877B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201010203212.1
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/60
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN1755519A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510107561.2
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101813883B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201010180900.0
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/44
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN101846877A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010203212.1
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN1755519B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200510107561.2
申请日：2005-09-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状。
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公开(公告)号：CN1749851B
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200510103988.5
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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公开(公告)号：CN1749851A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510103988.5
申请日：2005-09-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/50 , Y10T428/31616
Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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