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公开(公告)号：CN106353963B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201610520850.3
申请日：2016-07-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供一种具有优异的图案截面形状及优异的CD均一性且用于形成有微细图案的显示装置用相移掩模的形成的相移掩模半成品。设置在透明基板上的由铬类材料组成的相移膜具有：相移层；反射率降低层；金属层，其设置在相移层与反射率降低层之间，在350nm～436nm的波长区域内具有比反射率降低层的消光系数更高的消光系数；相移膜对于曝光光的透过率和相位差满足作为相移膜所必需的规定的光学特性，并且相移膜的膜表面反射率在350nm～436nm的波长区域内为10％以下。
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公开(公告)号：CN107229181B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201710172915.4
申请日：2017-03-22
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种相移掩模坯板，抑制制作相移掩模时的蚀刻液的消耗量，且用于得到精细且高精度的图案和不产生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上将相移膜(12)、蚀刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，蚀刻阻止膜(13)由含有金属和硅的金属硅化物构成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为蚀刻液A对遮光膜(14)的湿法蚀刻速度比蚀刻液A对相移膜(12)的湿法蚀刻速度更快，蚀刻阻止膜(13)是对于遮光膜(14)的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整蚀刻阻止膜(13)的膜厚、材料、组成比，以使蚀刻阻止膜(13)被能够蚀刻蚀刻阻止膜(13)的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。
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公开(公告)号：CN107229181A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710172915.4
申请日：2017-03-22
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种相移掩模坯板，抑制制作相移掩模时的蚀刻液的消耗量，且用于得到精细且高精度的图案和不产生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上将相移膜(12)、蚀刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，蚀刻阻止膜(13)由含有金属和硅的金属硅化物构成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为蚀刻液A对遮光膜(14)的湿法蚀刻速度比蚀刻液A对相移膜(12)的湿法蚀刻速度更快，蚀刻阻止膜(13)是对于遮光膜(14)的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整蚀刻阻止膜(13)的膜厚、材料、组成比，以使蚀刻阻止膜(13)被能够蚀刻蚀刻阻止膜(13)的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106019817A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610173066.X
申请日：2016-03-24
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA电子马来西亚有限公司
IPC: G03F1/50
Abstract: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述特性，上述显示装置的制造方法以高成品率制造高精细显示装置。上述光掩模空白片在透明基板上层叠有遮光层和反射降低层，遮光层由多层层叠膜以蚀刻速度从遮光层表面向透明基板阶段性或连续性地加快的方式构成，该遮光层中的形成于基板侧的下层部在436nm波长下的光学浓度为1.0以上。此外，上述光掩模的制造方法使用该光掩模空白片制造光掩模。并且，上述显示装置的制造方法使用该光掩模制造显示装置。
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公开(公告)号：CN106019817B
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201610173066.X
申请日：2016-03-24
Applicant: HOYA株式会社 , HOYA电子马来西亚有限公司
IPC: G03F1/50
Abstract: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述特性，上述显示装置的制造方法以高成品率制造高精细显示装置。上述光掩模空白片在透明基板上层叠有遮光层和反射降低层，遮光层由多层层叠膜以蚀刻速度从遮光层表面向透明基板阶段性或连续性地加快的方式构成，该遮光层中的形成于基板侧的下层部在436nm波长下的光学浓度为1.0以上。此外，上述光掩模的制造方法使用该光掩模空白片制造光掩模。并且，上述显示装置的制造方法使用该光掩模制造显示装置。
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公开(公告)号：CN106353963A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610520850.3
申请日：2016-07-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供一种具有优异的图案截面形状及优异的CD均一性且用于形成有微细图案的显示装置用相移掩膜的形成的相移掩膜半成品。设置在透明基板上的由铬类材料组成的相移膜具有：相移层；反射率降低层；金属层，其设置在相移层与反射率降低层之间，在350nm～436nm的波长区域内具有比反射率降低层的消光系数更高的消光系数；相移膜对于曝光光的透过率和相位差满足作为相移膜所必需的规定的光学特性，并且相移膜的膜表面反射率在350nm～436nm的波长区域内为10％以下。
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