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公开(公告)号：CN108564969A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201810357734.3
申请日：2014-02-07
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
Abstract: 为了降低玻璃基板的主表面的波长为50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盘用基板的制造方法包括研磨处理，其中，利用一对研磨垫将基板夹持，向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使研磨垫与基板进行相对滑动，从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层，该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信息，由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时，上述Ra为0.5μm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105493184B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH‑(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号：CN105493184A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480047898.6
申请日：2014-08-31
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G11B5/8404 , C03C15/02 , C03C23/0075 , C11D7/3209 , C11D11/0035 , C11D11/0047
Abstract: 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中，在玻璃基板的镜面研磨后，在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中，清洗液含有下述通式I的有机碱，在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I：[(R)4N]+OH-(其中，R表示烷基，与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
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公开(公告)号：CN108564969B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201810357734.3
申请日：2014-02-07
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
Abstract: 为了降低玻璃基板的主表面的波长为50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盘用基板的制造方法包括研磨处理，其中，利用一对研磨垫将基板夹持，向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使研磨垫与基板进行相对滑动，从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层，该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信息，由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时，上述Ra为0.5μm以下。
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公开(公告)号：CN104969292B
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201480007088.8
申请日：2014-02-07
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/24
Abstract: 为了降低玻璃基板的主表面的波长为50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盘用基板的制造方法包括研磨处理，其中，利用一对研磨垫将基板夹持，向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使研磨垫与基板进行相对滑动，从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层，该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信息，由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时，上述Ra为0.5μm以下。
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公开(公告)号：CN104969292A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007088.8
申请日：2014-02-07
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/24
Abstract: 为了降低玻璃基板的主表面的波长为50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盘用基板的制造方法包括研磨处理，其中，利用一对研磨垫将基板夹持，向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使研磨垫与基板进行相对滑动，从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层，该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信息，由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时，上述Ra为0.5μm以下。
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