公开(公告)号：CN206622944U

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201720320203.8

申请日：2017-03-29

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 钟波 ,  陈贤华 ,  文中江 ,  王健 ,  许乔 ,  邓文辉 ,  袁志刚 ,  周炼

IPC: B24B13/01

Abstract: 本实用新型提供一种非球面元件表面波纹平滑抛光工具，包括转接部件、工具底座、粘弹性柔性介质、柔性介质厚度调节螺钉、橡胶囊和设置于所述橡胶囊表面的抛光模层。非球面元件表面波纹平滑抛光工具通过转接部件连接于抛光机床，工具底座为圆环状。柔性介质厚度调节螺钉可活动地内嵌于所述工具底座，橡胶囊盖合于所述工具底座，使工具底座、柔性介质调节螺钉与橡胶囊之间形成密封腔，密封腔内填充满粘弹性柔性介质。通过改变非球面元件表面波纹平滑抛光工具中的粘弹性柔性介质的种类和厚度，既能够使抛光工具与待加工非球面元件的表面相吻合，又能够对非球面表面波纹进行去除。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN212170076U

公开(公告)日：2020-12-18

申请号：CN202020332953.9

申请日：2020-03-17

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 周炼 ,  韦前才 ,  袁志刚 ,  谢瑞清 ,  赵世杰 ,  廖德锋 ,  陈贤华 ,  张清华 ,  王健 ,  刘民才 ,  许乔

IPC: B24B53/06 ,  B24B27/00 ,  B24B53/02 ,  B24B55/02 ,  B24B47/20 ,  B24B41/04

Abstract: 本实用新型涉及一种双工位立卧轴金刚石砂轮在位修整器，在位修整器包括：底板，其固定于工作台一侧，其上具有集液槽，集液槽连通排液管；支架为两组，且沿工作台的X轴方向对称固定于底板上；摇篮式基座顶部两侧分别对应、且可摆动于两组支架顶部，形成立式工位或卧式工位；摇篮式基座顶部两侧向下延伸连接形成底部安装区，电机的输出端朝下固定、且穿出底部安装区；底部安装区上与电机平行布置有砂轮修整机构，且电机的输出轴通过同步带将动力传递至砂轮修整机构；锁紧机构用于工位调整后限制摇篮式基座相对支架摆动。本实用新型满足了大口径光学元件批量制造过程中，平面和圆弧金刚石砂轮的高精度、高效在位修整的要求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209850688U

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201920341848.9

申请日：2019-03-18

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 周炼 ,  韦前才 ,  陈贤华 ,  赵世杰 ,  谢瑞清 ,  张清华 ,  王健 ,  许乔 ,  李洁 ,  郑楠 ,  廖德峰

IPC: B24B49/00 ,  B24B13/00

Abstract: 本实用新型公开了一种用于非球面光学元件中频波纹误差的在位检测装置，该装置搭载在磨削机床上，将待测光学元件放置磨削机床的工作台上，通过调节倾角调节装置使平面标准镜沿待测轮廓的倾斜角度等于待测轮廓的弦倾角，位移传感器一从待测轮廓的起始点运动至终止点，同时位移传感器二从平面标准镜的起始端运动至终端，将两位移传感器采集的数据输送至数据处理系统，通过数据处理系统计算得到待测轮廓的全频段误差，去除待测轮廓的非球面理论形貌、低频形状误差和高频粗糙度误差，得到中频波纹误差。该检测装置实现了在原有加工成形磨削机床上的在位检测，无需购置专用高精密测量仪器，也无需拆装元件，节约检测成本和检测时间。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209311250U

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201821739014.5

申请日：2018-10-25

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 周炼 ,  郑楠 ,  韦前才 ,  陈贤华 ,  谢瑞清 ,  廖德锋 ,  赵世杰 ,  李洁 ,  张清华 ,  王健 ,  许乔

IPC: G01N3/40 ,  B24B49/00

Abstract: 本实用新型涉及一种固结磨具硬度检测装置，包括：基座，基座上具有贯穿的操作空间；基座底部远离操作空间的位置安装有可升降高度支腿；水平推动机构，水平推动机构安装于基座顶部，且不覆盖操作空间；下压推动机构，下压推动机构竖直布置，可滑动于水平推动机构上，且其底部延伸至操作空间内；压头，压头安装于下压推动机构底部，且位于操作空间内可沿竖直方向和水平方向上移动；及控制器，控制器电性连接水平推动机构和下压推动机构。本实用新型还提供的检测装置，控制方便、噪音小，适合在光学加工现场高洁净环境下应用；控制器通过内部程序控制推动器工作，控制精确，测量精度高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN208391817U

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201821069513.8

申请日：2018-07-06

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 廖德锋 ,  谢瑞清 ,  赵世杰 ,  周炼 ,  钟波 ,  陈贤华 ,  王健 ,  许乔

IPC: B24B49/00 ,  G01L5/00 ,  G01L5/16

Abstract: 本实用新型提供一种全口径抛光过程中元件所受抛光摩擦力的测量装置。抛光摩擦力的测量装置，包括多个应力测试部件，所述应力测试部件包括U形夹板，在所述U形夹板上设置有应力传感器，在所述应力传感器上设置有信号传输线和承载接触块，所述信号传输线与信号接收器连接，所述信号接收器将数据发送给电脑。本实用新型能够检测不同形状的元件在不同抛光阶段所受的抛光摩擦力，根据测得的抛光摩擦力即可了解抛光盘的表面粗糙度和材料去除特性，从而指导抛光工艺的控制。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利