公开(公告)号：CN105632976A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201510846534.0

申请日：2015-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天野嘉文 ,  伊藤优树 ,  冈本英一郎 ,  岩永和也 ,  池边亮二

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供一种测量处理装置及方法、基板处理系统、测量用工具。能够不导致系统的大型化地在短时间内确认基板的膜去除的状态和包围构件的保持状态。利用设置于包围构件(302)的上方的第一摄像机～第三摄像机(601～603)来拍摄被去除了周缘部的处理膜的晶圆(W)和包围构件(302)，在测量处理装置(800)中，通过对由这些摄像机得到的摄像图像进行处理来测量晶圆(W)的周缘部中不存在上述处理膜的切割宽度以及晶圆(W)的周缘端与包围构件(302)之间的间隙宽度。

公开(公告)号：CN102610488A

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201210016401.7

申请日：2012-01-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 东岛治郎 ,  八谷洋介 ,  相浦一博 ,  伊藤规宏 ,  新藤尚树 ,  伊藤优树

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/68728 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: 本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯(40)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承喷嘴(82a)。在液处理装置(10)中设有用于对喷嘴支承臂(82)进行清洗的臂清洗部(88)。

公开(公告)号：CN209804606U

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201920580555.6

申请日：2019-04-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天野嘉文 ,  东岛治郎 ,  伊藤优树 ,  冈本英一郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，其能够减少对杯体进行抽吸的排气装置的负担，并有效地防止供给到基板的处理液从基板飞散后再次附着于基板的情况。该基板处理装置中，环状的覆盖部件(5)覆盖基板保持部(3)所保持的基板(W)的上表面的边缘部，比该边缘部靠径向内侧的基板(W)中央部未被覆盖部件(5)覆盖而显露。覆盖部件(5)的下表面(52)与基板(W)的上表面的边缘部之间形成有间隙(G)，在对杯体(2)的内部空间进行排气时，在杯体(2)的内部空间的上方所存在的气体，从覆盖部件(5)的内周面(51)所包围的空间，穿过该间隙(G)被导入至杯体(2)的内部空间。