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公开(公告)号：CN107851572B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201680044518.2
申请日：2016-07-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。
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公开(公告)号：CN102610488A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210016401.7
申请日：2012-01-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68728 , B08B3/04 , B08B3/041 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯(40)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承喷嘴(82a)。在液处理装置(10)中设有用于对喷嘴支承臂(82)进行清洗的臂清洗部(88)。
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公开(公告)号：CN118160075A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280072218.0
申请日：2022-10-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明的基片处理方法包括：使用能够水平地并且以可旋转的方式保持基片的保持部来保持所述基片的步骤；之后，对所保持的所述基片进行加热的步骤；之后，在从配置在预先确定的处理位置的第一喷嘴向旋转的所述基片的周缘部释放第一处理液之前，调节所述周缘部的温度，使所述基片的面内温度分布近似于从配置在所述处理位置的所述第一喷嘴向旋转的所述基片的所述周缘部释放所述第一处理液的期间的面内温度分布的步骤；和之后，从配置在所述处理位置的所述第一喷嘴向旋转的所述基片的所述周缘部释放所述第一处理液的步骤。
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公开(公告)号：CN112242321A
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202010673489.4
申请日：2020-07-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本发明能够抑制颗粒的产生。
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公开(公告)号：CN107527839A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710471653.1
申请日：2017-06-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B08B13/00 , B08B3/041 , B08B3/08 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67173 , H01L21/67023
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质。其中，对液体承接杯的杯体的突出部均匀地进行清洗。使第1杯体(51)和第2杯体(52)中任一者升降而使两者设为接近的状态。此时，在第1突出部(5102)的下表面形成的间隙形成部(5106)与第2突出部(5202)的上表面之间的第1间隙(G1)比第1突出部的没有间隙形成部的部分与第2突出部的上表面之间的第2间隙(G2)小。在该状态下，向第2间隙供给清洗液。欲沿着半径方向朝外流动的清洗液的运动被较窄的第1间隙限制，因此，第1突出部与第2突出部之间的空间的整个区域能够由清洗液充满，能够对清洗对象面均匀地进行清洗。
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公开(公告)号：CN118160074A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280071573.6
申请日：2022-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明的基片处理装置(1)包括保持基片并使其旋转的基片旋转部(20)、外侧杯状体(51)、内侧杯状体(52)、环状排液部(64)和排气通路(62)。外侧杯状体(51)呈环状地覆盖被保持在基片旋转部(20)的基片的周围。内侧杯状体(52)配置在外侧杯状体(51)的内侧，并且配置在被保持在基片旋转部(20)的基片的下方。环状排液部(64)形成在外侧杯状体(51)与内侧杯状体(52)之间，将被供给至基片的处理液向外部排出。排气通路(62)形成在内侧杯状体(52)的内侧。内侧杯状体(52)具有将由内侧杯状体(52和外侧杯状体(51)形成的承液空间(60)与排气通路(62)之间连通的排气孔(61)。排气孔(61)从内侧杯状体(52)的外表面(52c)向斜下方形成至内表面(52d)。
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公开(公告)号：CN118160073A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280071551.X
申请日：2022-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明的一个方式的基片处理装置(1)包括基片旋转部(20)和杯状体。基片旋转部(20)保持基片并使其旋转。杯状体呈环状地覆盖被保持在基片旋转部(20)的基片的周围。另外，杯状体具有杯状体基部(53)、第一部件(55)和第二部件(56)。杯状体基部(53)包围基片旋转部(20)的整周。第一部件(55)可拆装地安装于杯状体基部(53)的上端部，呈环状地包围基片的外周。第二部件(56)至少可拆装地安装于第一部件(55)的内周端，表面(56a)为疏水性的。
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公开(公告)号：CN107658244B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201710620301.8
申请日：2017-07-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和喷嘴，能够在停止了处理液的喷出之后确认喷嘴内的液面位置。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和喷嘴。基板保持部保持基板。喷嘴向基板供给处理液。另外，喷嘴具备配管部和观察窗。配管部具有水平部分和从水平部分下垂的下垂部分，从下垂部分的顶端喷出处理液。观察窗设于配管部的水平部分。
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公开(公告)号：CN112053970A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010475873.3
申请日：2020-05-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种能够精度良好地蚀刻基板的周缘部的基板处理装置。本公开的一形态的基板处理装置具备基板旋转部、气液分离部以及排气路径。基板旋转部保持基板并使该基板旋转。气液分离部以包围基板旋转部的外周的方式设置，使气体和液滴分离。排气路径以包围气液分离部的外周的方式设置，对由气液分离部分离后的气体进行排气。
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公开(公告)号：CN102610488B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210016401.7
申请日：2012-01-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68728 , B08B3/04 , B08B3/041 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯(40)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供给流体；喷嘴支承臂，其用于支承喷嘴(82a)。在液处理装置(10)中设有用于对喷嘴支承臂(82)进行清洗的臂清洗部(88)。
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