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公开(公告)号：CN107068538B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201611028598.0
申请日：2010-10-20
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及保护膜形成用化学溶液。本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。
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公开(公告)号：CN104176393B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201410214947.2
申请日：2014-05-20
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: B65B31/00 , H01L21/67017
Abstract: 本发明提供一种即使在长时间保管保护膜形成用化学溶液、用于配制该化学溶液的保护膜形成用化学溶液组合试剂后，也能够确保该化学溶液或该化学溶液组合试剂等液体的洁净性，且能够抑制该液体的带电的加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法。一种加压输送容器，其特征在于，其为以保管保护膜形成用化学溶液或保护膜形成用化学溶液组合试剂、且能够通过对内部进行加压来移液的方式构成的加压输送容器，所述保护膜形成用化学溶液用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分包含硅元素的晶圆的该凹凸图案的至少凹部表面形成拒水性保护膜，所述保护膜形成用化学溶液组合试剂通过混合而形成上述保护膜形成用化学溶液。
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公开(公告)号：CN102971836B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201180032637.3
申请日：2011-06-23
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/04 , C07F7/10 , C07F7/12 , C07F7/1804
Abstract: [课题]本发明涉及在半导体器件制造中防止凹凸图案（2）的至少凹部表面含有含硅元素物质的晶片（1）或者该凹凸图案（2）的至少凹部表面的一部分含有选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽和钌组成的组中的至少1种物质的晶片（1)的图案倾塌同时对晶片进行清洗的方法，提供了能够进行有效清洗的拒水性保护膜形成剂和含该形成剂的拒水性保护膜形成用化学溶液以及使用了该化学溶液的晶片的清洗方法。[解决方法]用于在上述晶片的清洗中在前述晶片的至少凹部表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成剂，前述形成剂是下述通式[1]所示的硅化合物。R1aSiX4-a[1]。
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公开(公告)号：CN105612606A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201480054698.3
申请日：2014-09-08
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , C07C211/07 , C07F9/38
CPC classification number: H01L21/02068 , B08B3/08 , C07F9/3808 , C11D7/06 , C11D7/08 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D11/0047
Abstract: 本发明的晶片的清洗方法是表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌之中的至少1种元素的晶片的清洗方法，该方法至少具备：前处理工序，在凹凸图案的至少凹部保持清洗液；保护膜形成工序，在上述前处理工序后，在凹凸图案的至少凹部保持保护膜形成用化学溶液；以及干燥工序，通过干燥而从凹凸图案去除液体，上述保护膜形成用化学溶液是包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在至少上述凹部表面形成拒水性保护膜，若上述保护膜形成用化学溶液为碱性则上述清洗液为酸性，若上述保护膜形成用化学溶液为酸性则上述清洗液为碱性。
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公开(公告)号：CN110337422B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN201880014287.X
申请日：2018-02-23
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C03B37/083
Abstract: 用于制造玻璃纤维的嘴头包括：一对长边壁和一对短边壁，该一对长边壁和一对短边壁由铂或铂合金形成；以及嘴孔，其由所述长边壁和短边壁形成，用来排出玻璃熔体。所述嘴孔具有水平截面为扁平状的孔形状，各长边壁在玻璃熔体的排出侧具有缺口，所述缺口的宽度为所述嘴孔的扁平状的孔形状的长边方向中心轴线的长度的10％～55％，所述一对长边壁是以所述嘴孔的所述中心轴线为对称轴对称的形状。利用该嘴头，能够高效地制造具有期望的截面形状的玻璃纤维。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112585098A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054665.1
申请日：2019-08-15
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C03B37/083
Abstract: 本发明的用于制造玻璃纤维的漏板具备底板与多个排列在上述底板上的排出玻璃熔液的喷嘴，其中，上述底板具备水平截面为扁平状的底孔，上述喷嘴具备喷嘴壁与喷嘴孔，所述喷嘴壁沿上述底孔的轮廓从上述底板突出，所述喷嘴孔从上述底孔贯穿至上述喷嘴壁的前端且维持上述底孔的形状，上述喷嘴壁具有没有从上述底板突出的一对缺口，上述一对缺口隔着上述喷嘴孔的长边方向的中心轴相对且相向，上述缺口的宽度为上述喷嘴孔的长边方向的中心轴的长度的10％以上、95％以下。
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公开(公告)号：CN102598221B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201080049331.4
申请日：2010-10-20
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。
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公开(公告)号：CN103299403B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180064801.9
申请日：2011-12-28
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , C11D11/0047
Abstract: 本发明的课题在于提供一种形成拒水性保护膜(10)的保护膜形成用化学溶液，其用于改善容易诱发表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部(4)表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌中的至少1种元素的晶片(金属系晶片)的图案倾塌的清洗工序。[解决方案]一种拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为包含下述拒水性保护膜形成剂和溶剂的化学溶液，所述拒水性保护膜形成剂用于在前述金属系晶片的清洗工序之后且干燥工序之前在至少凹部(4)表面形成拒水性保护膜(10)，该拒水性保护膜形成剂为通式[1]表示的化合物。(R1是一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的1价烃基，R2各自相互独立地是包含一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1～18的烃基的1价有机基团，a是0至2的整数。)
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公开(公告)号：CN102971835B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180032490.8
申请日：2011-06-15
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: C09D5/38 , H01L21/02068 , H01L21/321
Abstract: 本发明公开了拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其是用于在金属系晶片的至少凹部表面形成拒水性保护膜的化学溶液，该化学溶液含有基于Griffin法的HLB值为0.001~10且具有包含碳原子数为6~18的烃基的疏水部的表面活性剂、以及水，化学溶液中前述表面活性剂的浓度相对于该化学溶液的总量100质量%为0.00001质量%以上且饱和浓度以下。该化学溶液能够改善容易诱发金属系晶片的图案倾塌的清洗工序。
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公开(公告)号：CN104662645A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201380050128.2
申请日：2013-09-12
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , B08B3/04 , C09D7/63 , Y10T428/24364 , H01L21/02057
Abstract: [课题]本发明提供如下的形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，该化学溶液用于改善容易诱发表面形成凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽、以及钌中的至少一种元素的晶片(金属系晶片)的图案倒塌的清洗工序。[解决方法]拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述化学溶液用于在采用仅由质子性极性溶剂构成的冲洗液或以质子性极性溶剂作为主要成分的冲洗液对前述晶片表面进行冲洗处理的冲洗处理工序的前，通过保持在该晶片的至少凹部，从而在至少该凹部表面上形成拒水性保护膜，该化学溶液包含拒水性保护膜形成剂和溶剂，该拒水性保护膜形成剂为下述通式[1]～[3]所示的至少一种化合物。(R3)b(R4)cNH3-b-c[2]；R5(X)d [3]；。
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