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公开(公告)号：CN102934207B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201180028305.8
申请日：2011-06-03
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/306 , G03F7/40
Abstract: 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案（2）且该凹凸图案（2）的至少一部分含有硅元素的晶片（1）时在该凹凸图案（2）的至少凹部表面形成拒水性保护膜（10）的化学溶液。该化学溶液包含通式：R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A，该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN102934207A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201180028305.8
申请日：2011-06-03
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/306 , G03F7/40
Abstract: 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案（2）且该凹凸图案（2）的至少一部分含有硅元素的晶片（1）时在该凹凸图案（2）的至少凹部表面形成拒水性保护膜（10）的化学溶液。该化学溶液包含通式：R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A，该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN111742391B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN201980012863.1
申请日：2019-02-05
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , C07F7/02 , C07F7/12 , C09K3/18
Abstract: 本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：(I)甲硅烷基化剂、(II)下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及(III)有机溶剂。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111630633A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201880086426.X
申请日：2018-12-26
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够进一步改善拒水性赋予效果的拒水性保护膜形成用化学溶液。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液具有(I)下述通式[1]所示的氨基硅烷化合物、(II)下述通式[2]所示的硅化合物和(III)非质子性溶剂，(I)的含量相对于(I)～(III)的总量为0.02～0.5质量％。
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公开(公告)号：CN111630633B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN201880086426.X
申请日：2018-12-26
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够进一步改善拒水性赋予效果的拒水性保护膜形成用化学溶液。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液具有(I)下述通式[1]所示的氨基硅烷化合物、(II)下述通式[2]所示的硅化合物和(III)非质子性溶剂，(I)的含量相对于(I)～(III)的总量为0.02～0.5质量％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111742391A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201980012863.1
申请日：2019-02-05
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , C07F7/02 , C07F7/12 , C09K3/18
Abstract: 本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：(I)甲硅烷基化剂、(II)下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及(III)有机溶剂。[式[1]、[2]中，R1分别相互独立地选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。R2选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、烷基甲硅烷基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。]
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公开(公告)号：CN111699546A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201980012741.2
申请日：2019-02-05
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种用于在包含硅元素的晶片的表面形成拒水性保护膜的新型拒水性保护膜形成剂或新型拒水性保护膜形成用化学溶液、以及使用液体状态的该拒水性保护膜形成剂或该化学溶液的晶片表面处理方法。本发明的拒水性保护膜形成剂为选自由下述通式[1]所示的胍衍生物和下述通式[2]所示的脒衍生物组成的组中的至少1种硅化合物。
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公开(公告)号：CN104176393A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410214947.2
申请日：2014-05-20
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: B65B31/00 , H01L21/67017
Abstract: 本发明提供一种即使在长时间保管保护膜形成用化学溶液、用于配制该化学溶液的保护膜形成用化学溶液组合试剂后，也能够确保该化学溶液或该化学溶液组合试剂等液体的洁净性，且能够抑制该液体的带电的加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法。一种加压输送容器，其特征在于，其为以保管保护膜形成用化学溶液或保护膜形成用化学溶液组合试剂、且能够通过对内部进行加压来移液的方式构成的加压输送容器，所述保护膜形成用化学溶液用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分包含硅元素的晶圆的该凹凸图案的至少凹部表面形成拒水性保护膜，所述保护膜形成用化学溶液组合试剂通过混合而形成上述保护膜形成用化学溶液。
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公开(公告)号：CN111699546B
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN201980012741.2
申请日：2019-02-05
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种用于在包含硅元素的晶片的表面形成拒水性保护膜的新型拒水性保护膜形成剂或新型拒水性保护膜形成用化学溶液、以及使用液体状态的该拒水性保护膜形成剂或该化学溶液的晶片表面处理方法。本发明的拒水性保护膜形成剂为选自由下述通式[1]所示的胍衍生物和下述通式[2]所示的脒衍生物组成的组中的至少1种硅化合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN104176393B
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201410214947.2
申请日：2014-05-20
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: B65B31/00 , H01L21/67017
Abstract: 本发明提供一种即使在长时间保管保护膜形成用化学溶液、用于配制该化学溶液的保护膜形成用化学溶液组合试剂后，也能够确保该化学溶液或该化学溶液组合试剂等液体的洁净性，且能够抑制该液体的带电的加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法。一种加压输送容器，其特征在于，其为以保管保护膜形成用化学溶液或保护膜形成用化学溶液组合试剂、且能够通过对内部进行加压来移液的方式构成的加压输送容器，所述保护膜形成用化学溶液用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分包含硅元素的晶圆的该凹凸图案的至少凹部表面形成拒水性保护膜，所述保护膜形成用化学溶液组合试剂通过混合而形成上述保护膜形成用化学溶液。
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