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公开(公告)号:CN115135995A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180015556.6
申请日:2021-02-19
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 一个实施方案的渗透液,其以染料、挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。一个实施方案的渗透液,其以挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。一个实施方案的显影剂,其以粉末及挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。
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公开(公告)号:CN110494700A
公开(公告)日:2019-11-22
申请号:CN201880020406.2
申请日:2018-06-28
Applicant: 三菱重工制冷空调系统株式会社 , 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够使用存在几何异构体的物质作为制冷剂的热泵及其设计方法。本发明涉及在依次连接压缩机(2)、冷凝器(3)、膨胀阀(4)以及蒸发器(5)而成的闭合回路内封入了包含可存在几何异构体的制冷剂物质的制冷剂的热泵(1)的设计方法,在所述设计方法中,把握制冷剂物质的异构化不推进的稳定温度的上限,以不超过稳定温度的上限的方式设定热泵(1)的使用上限温度。
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公开(公告)号:CN103283004B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201180063349.4
申请日:2011-12-20
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02057 , C11D3/162 , C11D11/0047
Abstract: [课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序:用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。
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公开(公告)号:CN105473954A
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201480046121.8
申请日:2014-10-23
CPC classification number: F25B49/005 , C09K5/044 , C09K5/045 , C09K2205/122 , C09K2205/126 , F25B30/02 , F25B43/00 , F25B2400/121
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使将HFO或者HCFO作为冷媒使用也能够维持稳定的热循环的热泵装置以及有机兰肯循环装置。冷媒循环装置(1)是利用冷媒的冷媒循环装置(1),所述冷媒循环装置(1)的特征在于,冷媒包含在分子结构中具有碳-碳双键的氢氟烯烃或者氢氯氟烯烃,在冷媒循环回路中设有抑制冷媒的异构化反应的反应抑制部(6)。
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公开(公告)号:CN103283004A
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN201180063349.4
申请日:2011-12-20
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02057 , C11D3/162 , C11D11/0047
Abstract: [课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序:用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。
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公开(公告)号:CN101795988A
公开(公告)日:2010-08-04
申请号:CN200880024626.9
申请日:2008-06-18
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/322 , C08G18/289 , C08G18/4063 , C08G18/4833 , C08G18/622 , C08G18/7831 , C09D175/04 , F25D21/04 , F25D23/028
Abstract: 玻璃窗具有由多片玻璃板对置而成的多层玻璃结构,且关闭玻璃窗时暴露于低温环境的玻璃板表面形成有覆膜,该覆膜由聚氨酯树脂形成,所述聚氨酯树脂至少使用平均分子量400~5000的聚氧化烯系多元醇、和疏水性多元醇聚合而成,该疏水性多元醇为平均分子量500~5000的丙烯酸类多元醇、或平均分子量500~5000且羟值为10~200mg KOH/g的聚酯多元醇,由此在玻璃窗开启时该覆膜吸收与覆膜接触的水,并在关闭所开启的玻璃窗时覆膜放出覆膜中所吸收的水,从而使覆膜处于能够吸水的状态。
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公开(公告)号:CN101489947A
公开(公告)日:2009-07-22
申请号:CN200780027552.X
申请日:2007-08-22
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C09D183/06 , C03C1/008 , C03C17/008 , C03C17/009 , C03C2217/213 , C03C2217/231 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/476 , C03C2217/485 , C03C2217/948 , C03C2218/113 , C08L83/04 , C09D1/00 , C09D5/004 , C09D5/24 , C09D183/04 , Y10T428/256 , Y10T428/259 , Y10T428/265 , Y10T428/31612
Abstract: [问题]开发热射线屏蔽玻璃,该热射线屏蔽玻璃显示可用于具有升降功能的车辆玻璃的膜强度,不会产生由于升降运动造成的摩擦而引起的异常噪音。[解决问题的方法]车辆用热射线屏蔽玻璃为包含车辆玻璃和叠置在其至少一个主表面的包含导电性氧化物超细颗粒和二氧化硅粘结剂的热射线屏蔽膜,其中所述二氧化硅粘结剂由通过四烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷的水解和缩聚产生的固成分组成,且其中由所述四烷氧基硅烷产生的固成分和由所述三烷氧基硅烷产生的固成分的重量比在55∶45至85∶15的范围内,且其中导电性氧化物超细颗粒与二氧化硅粘结剂的重量比在35∶65至70∶30的范围内。
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公开(公告)号:CN105473954B
公开(公告)日:2018-05-25
申请号:CN201480046121.8
申请日:2014-10-23
Applicant: 三菱重工制冷空调系统株式会社 , 中央硝子株式会社
CPC classification number: F25B49/005 , C09K5/044 , C09K5/045 , C09K2205/122 , C09K2205/126 , F25B30/02 , F25B43/00 , F25B2400/121
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使将HFO或者HCFO作为冷媒使用也能够维持稳定的热循环的热泵装置以及有机兰肯循环装置。冷媒循环装置(1)是利用冷媒的冷媒循环装置(1),所述冷媒循环装置(1)的特征在于,冷媒包含在分子结构中具有碳‑碳双键的氢氟烯烃或者氢氯氟烯烃,在冷媒循环回路中设有抑制冷媒的异构化反应的反应抑制部(6)。
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公开(公告)号:CN102598221B
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:CN201080049331.4
申请日:2010-10-20
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜,该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。
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公开(公告)号:CN103299403B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201180064801.9
申请日:2011-12-28
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , C11D11/0047
Abstract: 本发明的课题在于提供一种形成拒水性保护膜(10)的保护膜形成用化学溶液,其用于改善容易诱发表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部(4)表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌中的至少1种元素的晶片(金属系晶片)的图案倾塌的清洗工序。[解决方案]一种拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,其为包含下述拒水性保护膜形成剂和溶剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在前述金属系晶片的清洗工序之后且干燥工序之前在至少凹部(4)表面形成拒水性保护膜(10),该拒水性保护膜形成剂为通式[1]表示的化合物。(R1是一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1~18的1价烃基,R2各自相互独立地是包含一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1~18的烃基的1价有机基团,a是0至2的整数。)
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