公开(公告)号：CN108362711A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201810075523.0

申请日：2018-01-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 寺泽恒男 ,  福田洋 ,  横畑敦 ,  木下隆裕 ,  岩井大祐

IPC: G01N21/956

CPC classification number: G01N21/8851 ,  G01N21/8422 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/8874 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84

Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。

公开(公告)号：CN108362711B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN201810075523.0

申请日：2018-01-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 寺泽恒男 ,  福田洋 ,  横畑敦 ,  木下隆裕 ,  岩井大祐

IPC: G01N21/956

Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。

公开(公告)号：CN105549322B

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201510695980.6

申请日：2015-10-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 寺泽恒男 ,  木下隆裕 ,  岩井大祐 ,  福田洋 ,  横畑敦

IPC: G03F1/84

Abstract: 评价光掩模坯料的缺陷尺寸。用检验光照射检验‑目标光掩模坯料并且通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验‑目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像被聚集。接着，识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分。接下来，得到该强度变化的光强度的差和得到该强度变化部分的宽度作为缺陷的表观宽度。接着，基于显示光强度的差、缺陷表观宽度和缺陷的实际宽度之间的关系的预定的转换公式计算缺陷宽度，并且评价缺陷宽度。

公开(公告)号：CN108693699A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810284727.5

申请日：2018-04-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 木下隆裕

IPC: G03F1/76 ,  G03F1/72 ,  G03F1/80

CPC classification number: G03F1/76 ,  G03F1/72 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料的制造方法，其能够减少由于清洗工序等而发生的硬掩模膜上的穿透型针孔缺陷的发生风险。本发明是一种光掩模坯料的制造方法，所述方法先在对曝光光线具有透明性的基板上形成图案形成膜，并在图案形成膜上形成膜厚T的硬掩模膜，所述方法的特征在于：在形成硬掩模膜时，利用重复2次以上的薄膜成长工序与通过清洗来去除薄膜上的异物的工序来形成膜厚T的硬掩模膜，所述薄膜具有比前述硬掩模膜的膜厚T更小的膜厚。