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公开(公告)号：CN108362711B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN201810075523.0
申请日：2018-01-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法及其制造方法。通过以下方式来检查具有在透明基板上的薄膜的光掩模坯的缺陷：将检查光线照射到光掩模坯的表面区域，经由检查光学系统收集来自照射区域的反射光以形成该区域的放大图像，提取出来自放大图像的光强度分布的特征参数，和基于与薄膜结构相结合的特征参数来识别缺陷的凸起/凹坑形状。该缺陷检查方法对于以高度可靠的方式区分凸起或凹坑形状的缺陷而言是有效的。在应用该缺陷检测方法时，可以以更低的成本和更高的成品率获得没有针孔缺陷的光掩模坯。
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公开(公告)号：CN113568269A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110458020.3
申请日：2021-04-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/24
Abstract: 本发明涉及用于反射型掩模坯料的带膜的基板和反射型掩模坯料。提供一种用于反射型掩模坯料的带膜的基板和反射型掩模坯料，该用于反射型掩模坯料的带膜的基板包括：基板、Mo层和Si层的多层反射膜、以及Ru保护膜。基板和坯料包括在Mo层和Si层之间存在的含有Mo和Si的混合层，和在最上层Si层和Ru保护膜之间生成的含有Ru和Si的另一混合层；该膜和层具有满足限定的表达式的厚度。
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公开(公告)号：CN105549322B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201510695980.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84
Abstract: 评价光掩模坯料的缺陷尺寸。用检验光照射检验‑目标光掩模坯料并且通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验‑目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像被聚集。接着，识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分。接下来，得到该强度变化的光强度的差和得到该强度变化部分的宽度作为缺陷的表观宽度。接着，基于显示光强度的差、缺陷表观宽度和缺陷的实际宽度之间的关系的预定的转换公式计算缺陷宽度，并且评价缺陷宽度。
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公开(公告)号：CN115016222A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210196543.X
申请日：2022-03-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及反射型掩模坯料及其制造方法。反射型掩模坯料的吸收体膜用金属和半金属元素选自分别包括在第一、第二和第三区域中的第一、第二和第三元素，其由每种金属和半金属元素的单质的折射率n和消光系数k限定，并且通过所选择的金属和半金属元素形成吸收体膜从而具有反射率比为0.05至0.25和相位偏移为180至260°。
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公开(公告)号：CN114113100A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110969576.9
申请日：2021-08-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G01N21/88
Abstract: 提供一种基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置，在利用来自被检查基板的散射光的暗视场检查中，能够适当设定确定检测灵敏度的阈值而实现可靠性高的相位缺陷检查。一种基板的缺陷检查方法，具有：在第一聚光光学系统中向被检查基板照射来自EUV光源的EUV光的工序；在第二聚光光学系统中向传感器的受光面引导从被检查基板反射的反射光中的除去正反射光的散射光的工序；当接受的散射光的强度超过规定的阈值时，判断为在被检查基板的EUV光的照射处存在缺陷的工序，该方法具有：反射率获取工序，在向被检查基板照射EUV光之前预先获得被检查基板的EUV光的反射率；阈值运算工序，基于在该反射率获取工序中获得的反射率确定规定的阈值。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN106502046B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201610791121.1
申请日：2016-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84
Abstract: 本发明公开了检查存在于包括光学膜和薄膜的光掩模坯的表面部的缺陷的方法。该方法包括：选择和指定对应于光掩模坯的光学膜和薄膜的模式的用于判定缺陷的凹凸形状的标准和检查处理工序；基于指定的检查处理工序，施加检查光至包括缺陷的区域，同时保持缺陷和检查用光学系统的物镜之间的距离，通过该检查用光学系统将来自被检查光照射的区域的反射光作为该区域的放大图像聚集；以及基于指定的用于判定的标准，从该放大图像的光强度分布判定缺陷的凹凸形状。
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公开(公告)号：CN109085737A
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201810605620.6
申请日：2018-06-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料及制造方法。将光掩模坯料加工成透射光掩模，该透射光掩模用于使用曝光光在接受体上形成图案的光刻。该光掩模坯料包括：透明衬底、可通过氯/氧基干蚀刻来蚀刻的材料的第一膜、和含硅材料的第二膜。该第二膜包括相对于检查光的波长(长于曝光光)具有至少1.6的折射率n或至少0.3的消光系数k的层。
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公开(公告)号：CN106292180A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610467574.9
申请日：2016-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84 , G01N21/892
CPC classification number: G03F1/36 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G01N2201/0638 , G03F1/84 , G01N21/892 , G01N2021/8924
Abstract: 本发明涉及光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法和制备方法；利用检查用光学系统检查在具有在基底上形成的至少一个薄膜的光掩模坯的表面部分上存在的缺陷的方法。该方法包括设定缺陷和检查用光学系统的物镜之间的距离为离焦量，通过物镜对缺陷施加检查光，通过物镜将来自用检查光照射的区域的反射光作为放大图像聚集，识别放大图像的光强度变化部分，并且基于放大图像的光强度变化部分的光强度上的变化测定缺陷的凹凸形状。
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公开(公告)号：CN105549322A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201510695980.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/84
Abstract: 评价光掩模坯料的缺陷尺寸。用检验光照射检验-目标光掩模坯料并且通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验-目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像被聚集。接着，识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分。接下来，得到该强度变化的光强度的差和得到该强度变化部分的宽度作为缺陷的表观宽度。接着，基于显示光强度的差、缺陷表观宽度和缺陷的实际宽度之间的关系的预定的转换公式计算缺陷宽度，并且评价缺陷宽度。
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