公开(公告)号：CN107219569A

公开(公告)日：2017-09-29

申请号：CN201710440041.6

申请日：2016-02-10

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  田口登喜生 ,  山田信明 ,  芝井康博 ,  新纳厚志 ,  中松健一郎

IPC: G02B1/118 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

公开(公告)号：CN111771426B

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN201880090165.9

申请日：2018-02-27

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 新纳厚志

IPC: H10K71/00 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明的显示设备的制造方法，其特征在于，包括：在基板上成膜树脂层的工序；将树脂层被成膜的基板放入在第一腔室，并且将第一腔室内从大气压减压到第一真空压力的工序；从第一腔室向调整为第二真空压力的第二腔室搬入基板的工序；测量在第二腔室中从树脂层脱离的气体的工序；以及在测量气体之后，在第二腔室或第三腔室中在树脂层上成膜无机化合物层的工序。成膜无机化合物层的工序是在成膜之前将第二腔室或第三腔室内设为第三真空压力的工序。第二真空压力是比第三真空压力大的压力。

公开(公告)号：CN110622275B

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN201880032479.3

申请日：2018-05-15

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  田口登喜生 ,  中松健一郎 ,  岩松正 ,  新川幸治 ,  高崎真苇 ,  金子俊博 ,  新纳厚志

IPC: H01J1/312 ,  H01J9/02

Abstract: 电子发射元件(100)具有：第1电极(12)、第2电极(52)、以及设置在第1电极(12)与第2电极(52)之间的半导电层(30)。半导电层(30)具有：多孔氧化铝层(32)，其具有多个细孔(34)；以及银(42)，其担载在多孔氧化铝层(32)的多个细孔(34)内。

公开(公告)号：CN111771426A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201880090165.9

申请日：2018-02-27

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 新纳厚志

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/54 ,  C23C16/52 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04

Abstract: 本发明的显示设备的制造方法，其特征在于，包括：在基板上成膜树脂层的工序；将树脂层被成膜的基板放入在第一腔室，并且将第一腔室内从大气压减压到第一真空压力的工序；从第一腔室向调整为第二真空压力的第二腔室搬入基板的工序；测量在第二腔室中从树脂层脱离的气体的工序；以及在测量气体之后，在第二腔室或第三腔室中在树脂层上成膜无机化合物层的工序。成膜无机化合物层的工序是在成膜之前将第二腔室或第三腔室内设为第三真空压力的工序。第二真空压力是比第三真空压力大的压力。

公开(公告)号：CN108474872B

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201780005168.3

申请日：2017-07-03

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  新纳厚志

IPC: G02B1/18 ,  B32B3/30 ,  B32B27/30 ,  C08F290/06 ,  G02B1/118

Abstract: 本发明提供防污性优良的防污性薄膜。本发明的防污性薄膜具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，上述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，上述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上极大值。

公开(公告)号：CN108474872A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780005168.3

申请日：2017-07-03

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 林秀和 ,  新纳厚志

IPC: G02B1/18 ,  B32B3/30 ,  B32B27/30 ,  C08F290/06 ,  G02B1/118

Abstract: 本发明提供防污性优良的防污性薄膜。本发明的防污性薄膜具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，上述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，上述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上极大值。