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公开(公告)号：CN101523240A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036139.X
申请日：2007-09-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 筱原诚司
CPC classification number: G02B1/18 , G02B1/105 , G02B27/0006 , Y10T428/31
Abstract: 本发明提供一种在最表面具有同时满足耐指纹性、耐标记油墨(マジツク)性、滑动性、疏水性的防污层的光学功能薄膜。其具有基材、在所述基材上形成的光学功能层和在所述光学功能层上形成的防污层，该防污层的表面的元素比例为硅元素(Si)与碳元素(C)的比Si/C为0.25～1.0且氟元素(F)与碳元素(C)的比F/C为0.10～1.0，而且该防污层具有以下特性：a.液体石蜡接触角为65°以上且液体石蜡下落角为15°以下。b.黑标记油墨接触角为35°以上且黑标记油墨下落角为15°以下。c.动摩擦系数不到0.15。
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公开(公告)号：CN101268389A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034177.7
申请日：2006-08-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: B32B7/02 , B32B3/263 , B32B3/30 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2264/102 , B32B2307/21 , B32B2307/408 , B32B2307/412 , B32B2307/702 , B32B2457/00 , B32B2457/202 , B32B2457/204 , G02B1/11 , Y10T428/24942 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , Y10T428/31721 , Y10T428/31725 , Y10T428/31786 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使长时间使用、特别是在高温下或高湿下长时间使用也可以维持防静电性以及透明性的防静电防眩薄膜。本发明通过利用在透明基材薄膜上至少层叠含有高分子型防静电剂、透光性微粒以及粘合剂的防眩层而成的防静电防眩薄膜来解决所述课题。
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公开(公告)号：CN119912639A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510234213.9
申请日：2023-04-25
IPC: C08F222/40 , G02B1/04 , G02B5/30 , C08F212/08 , C08F222/06 , C08F8/32 , C08J5/18 , C08L35/06
Abstract: 本发明提供光学树脂、以及使用了上述光学树脂的光学膜、偏振片、表面板、图像显示面板、图像显示装置和光学用的成型品。一种光学树脂，其中，关于上述光学树脂的13C‑NMR光谱，将化学位移为141ppm以上147ppm以下的范围定义为第1范围，将化学位移为135ppm以上141ppm以下的范围定义为第2范围时，上述第1范围的峰的峰面积相对于上述第2范围的峰的峰面积之比为0.55以下。
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公开(公告)号：CN105467473A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510608197.1
申请日：2015-09-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/11
Abstract: 本发明提供一种防反射膜，其在使用超高精细的显示元件的情况下，抑制显示装置表面的反射，防止超高精细的显示元件的图像品质受损，并且能够抑制白化。本发明的显示元件用的防反射膜，其为在透明基材上具有高折射率层及低折射率层的防反射膜，其中，所述防反射膜的根据下述条件测定的扩散光线反射率(RSCE)为0.12％以下、总光线反射率(RSCI)为4.0％以上。扩散光线反射率及总光线反射率的测定如下所述：制作在防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘着剂贴合有黑色板的样品，测定该样品的低折射率层侧的面的扩散光线反射率(RSCE)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103765249B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280023924.2
申请日：2012-05-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/111 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/111 , G02F1/133528
Abstract: 根据本发明，提供能容易地制造具有优异的防反射特性、具有优异的耐擦伤性及防污性，并且抑制至今从未被过问的轻微白化的发生的防反射膜的制造方法、防反射膜、以及使用该膜的偏振板及图像显示装置。本发明提供防反射膜的制造方法，其依次包含工序(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒及粘合剂树脂的低折射率层形成用组合物从而形成涂膜的工序；工序(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相的工序；及工序(3)加热该低折射率相与该防污相，或对该低折射率相与该防污相照射电离射线，形成低折射率层与被覆该低折射率层的整面的防污层的工序，该防反射膜至少依次具有透明基材、低折射率层、及防污层，从该防污层侧通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的氟原子／碳原子比为0.6～1.0，且硅原子／碳原子比小于0.25，该防污层的平均表面粗糙度(Ra’)为10nm以下。
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公开(公告)号：CN102985498B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201180033863.3
申请日：2011-08-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D7/1275 , B32B23/08 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C09D7/61 , C09D7/68 , G02B5/30 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种硬度较高、具有充分的耐粘连性、雾度较低、且全光线透射率也较高的HC薄膜。本发明涉及一种硬涂层用固化性树脂组合物，其特征为含有：(A)于粒子表面上具有光固化性基，且平均1次粒径为10～100nm的反应性二氧化硅微粒；(B)平均1次粒径为100～300nm的易滑剂；(C)含有该易滑剂(B)，且平均2次粒径为500nm～2000nm的2次粒子；(D)于1分子中具有2个以上的具有与上述反应性二氧化硅微粒(A)的光固化性基的交联反应性的反应性官能基，且分子量为1000以下的多官能单体；以及(E)溶剂；并且不含有平均2次粒径大于2000nm的2次粒子，且相对于该反应性二氧化硅微粒(A)及多官能单体(D)的合计质量，含有该易滑剂(B)0.2～8质量％。
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公开(公告)号：CN102667535B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201080048045.6
申请日：2010-11-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/12 , C08J7/045 , C08J2301/12 , C08J2433/16 , G02B1/11
Abstract: 本发明目的在于提供生产率优异，并抑制在硬涂层与硬涂层的与基材侧所邻接的层之间发生干涉纹的现象，且视觉辨认度优异的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法的特征在于包括：准备透光性基材的步；准备第一组合物和第二组合物的步骤，其中所述第一组合物含有第一树脂和第一溶剂且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相对于第一树脂的质量为5.0质量％以下，该第一树脂组合物的粘度μ1为3mPa·s以上，所述第二组合物含有低折射率成分、第二树脂和第二溶剂，该第二组合物的粘度μ2为5mPa·s以上，并且μ2与μ1之差为30mPa·s以下；在该透光性基材的一面侧，从该透光性基材一侧开始至少使该第一组合物和第二组合物相邻接而同时涂布，制作涂膜的步骤；将上述涂膜干燥，接着进行光照射或加热，使之固化的步骤，并且在该干燥之前不进行预固化。
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公开(公告)号：CN104345978A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410377536.5
申请日：2014-08-01
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G06F3/0412 , G06F3/044
Abstract: 本发明的课题在于提供一种以能够防止形成压痕的方式构成的用于制作电子部件的层叠体、膜传感器和具备膜传感器的触摸面板装置。该层叠体具备设置于基材膜的一侧的面上的第1硬涂层和设置于第1硬涂层的一侧的面上的第1表面层。第1表面层的厚度小于1μm，并且第1表面层的厚度和第1硬涂层的厚度的合计大于1μm。通过从层叠体的一侧将维氏压头压入层叠体而测定的马氏硬度在维氏压头的最大压入量为1μm的情况下为270N/mm2以上。
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公开(公告)号：CN102667535A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080048045.6
申请日：2010-11-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/12 , C08J7/045 , C08J2301/12 , C08J2433/16 , G02B1/11
Abstract: 本发明目的在于提供生产率优异，并抑制在硬涂层与硬涂层的与基材侧所邻接的层之间发生干涉纹的现象，且视觉辨认度优异的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法的特征在于包括：准备透光性基材的步；准备第一组合物和第二组合物的步骤，其中所述第一组合物含有第一树脂和第一溶剂且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相对于第一树脂的质量为5.0质量％以下，该第一树脂组合物的粘度μ1为3mPa·s以上，所述第二组合物含有低折射率成分、第二树脂和第二溶剂，该第二组合物的粘度μ2为5mPa·s以上，并且μ2与μ1之差为30mPa·s以下；在该透光性基材的一面侧，从该透光性基材一侧开始至少使该第一组合物和第二组合物相邻接而同时涂布，制作涂膜的步骤；将上述涂膜干燥，接着进行光照射或加热，使之固化的步骤，并且在该干燥之前不进行预固化。
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