薄膜形成装置及薄膜形成方法

    公开(公告)号:CN102378826A

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN201080014488.3

    申请日:2010-04-14

    CPC classification number: C23C14/562 C23C14/541

    Abstract: 在使用气体冷却的成膜方法中,一边实现充分的冷却效果一边避免因气体导入导致成膜率下降和/或对真空泵施加过大的载荷。本发明的薄膜形成装置,具备:在薄膜形成区域(9)具有与基板(7)的背面接近的冷却面(10s)的冷却体(10);以及向冷却面(10s)和基板(7)的背面之间导入气体的气体导入单元,冷却面在基板的宽度方向剖面中具有中央部比两端部向基板7的背面突出的形状。优选的是,冷却面具有在基板的宽度方向剖面中左右对称的形状,更优选地,具有由悬垂曲线表示的形状。

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