照明系统、曝光装置及制造、图像形成、照明与曝光方法

    公开(公告)号:CN107390477A

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201710727062.6

    申请日:2012-10-18

    Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法,能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括:空间光调变器,包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件,将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳;发散角赋予构件,配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内,对入射光束赋予发散角而射出;以及偏光构件,配置于规定面的附近位置或共轭空间,使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。

    显微镜系统
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103210336B

    公开(公告)日:2017-03-29

    申请号:CN201180050056.2

    申请日:2011-10-19

    Inventor: 大木裕史

    Abstract: 一种显微镜系统,作为用于观测样本的光学显微镜系统,该显微镜系统包括:成像光学系统,其形成透射光或由样本反射的光的图像;照明光源,在样本上照射照明光;照明光学系统,其具有第一空间光调制元件,该第一空间光调制元件改变在成像光学系统的光瞳的共轭位置处的照明光强分布,且将源自照明光源的光线照射在样本上;图像传感器,其探测通过成像光学系统的光线;以及计算部件,其基于由第一空间光调制元件形成的照明光强分布和由图像传感器探测的输出数据来计算适于样本观测的照明光强分布。

    显微镜系统
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103210336A

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201180050056.2

    申请日:2011-10-19

    Inventor: 大木裕史

    Abstract: 一种显微镜系统,作为用于观测样本的光学显微镜系统,该显微镜系统包括:成像光学系统,其形成透射光或由样本反射的光的图像;照明光源,在样本上照射照明光;照明光学系统,其具有第一空间光调制元件,该第一空间光调制元件改变在成像光学系统的光瞳的共轭位置处的照明光强分布,且将源自照明光源的光线照射在样本上;图像传感器,其探测通过成像光学系统的光线;以及计算部件,其基于由第一空间光调制元件形成的照明光强分布和由图像传感器探测的输出数据来计算适于样本观测的照明光强分布。

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