照明系统、曝光装置及制造、图像形成、照明与曝光方法

    公开(公告)号:CN107390477B

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201710727062.6

    申请日:2012-10-18

    Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法,能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括:空间光调变器,包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件,将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳;发散角赋予构件,配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内,对入射光束赋予发散角而射出;以及偏光构件,配置于规定面的附近位置或共轭空间,使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。

    照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN101681125B

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN200880021453.5

    申请日:2008-09-12

    Inventor: 田中裕久

    CPC classification number: G03F7/7085 G03F7/70075 G03F7/70108 G03F7/70116

    Abstract: 本发明的目的是提供一种照明光学系统,为一种利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统,包括:空间光调制器(S1),其配置在前述照明光学系统的光路内,并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动,在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布;侦测部(30~33),其具有接受前述照明光的一部分的受光面(32a、33a),并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测;以及控制部(20),其根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布,对前述空间光调制器进行控制。

    照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN101681125A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880021453.5

    申请日:2008-09-12

    Inventor: 田中裕久

    CPC classification number: G03F7/7085 G03F7/70075 G03F7/70108 G03F7/70116

    Abstract: 本发明的目的是提供一种照明光学系统,为一种利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统,包括:空间光调制器(S1),其配置在前述照明光学系统的光路内,并与前述照明光学系统的一部分的光学系统协动,在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布;侦测部(30~33),其具有接受前述照明光的一部分的受光面(32a、33a),并对由前述光源朝向前述空间光调制器的光路内的位置处的前述照明光的光强度分布进行侦测;以及控制部(20),其根据前述侦测部所侦测的前述照明光的光强度分布,对前述空间光调制器进行控制。

    照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN101681123A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880020867.6

    申请日:2008-09-12

    Inventor: 田中裕久

    CPC classification number: G03F7/70116 G03F7/70075 G03F7/70108

    Abstract: 本发明是有关一种照明光学系统,为利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面(M)进行照明的照明光学系统,包括空间光调变器(S1)及扩散器(4)。空间光调变器(S1)配置在照明光学系统的光路内,并在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布。扩散器(4)设置在空间光调变器(S1)的照明光的入射侧,并使入射空间光调变器(S1)的照明光进行扩散。

    光学照明装置、曝光装置以及曝光方法

    公开(公告)号:CN101201553A

    公开(公告)日:2008-06-18

    申请号:CN200710195644.0

    申请日:2003-12-02

    Abstract: 本发明是有关于一种光学照明装置、曝光装置以及曝光方法。该光学照明装置,例如搭载于曝光装置中,便可以依据光罩图案的特性,抑制光量损且使照明光的偏振状态改变,得以实施适当的照明条件。具有提供直线偏振光的光源部(1),以光源部发出的光来照明被照射面(M、W)。光学照明装置具有偏振状态切换手段(10、20),配置在光源部与被照射面之间的光路中,用以使照明被照射面的光的偏振状态在特定偏振状态与非偏振状态之间做切换。偏振状态切换手段更具有去偏振器(20),其架构成可以自在地插入与脱离于照明光路中,并且可依据所需将入射的直线偏振光去偏振。

    光学照明装置、曝光装置以及曝光方法

    公开(公告)号:CN1717777A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200380104450.5

    申请日:2003-12-02

    Abstract: 本发明是有关于一种光学照明装置、曝光装置以及曝光方法。该光学照明装置,例如搭载于曝光装置中,便可以依据光罩图案的特性,抑制光量损且使照明光的偏振状态改变,得以实施适当的照明条件。具有提供直线偏振光的光源部(1),以光源部发出的光来照明被照射面(M、W)。光学照明装置具有偏振状态切换手段(10、20),配置在光源部与被照射面之间的光路中,用以使照明被照射面的光的偏振状态在特定偏振状态与非偏振状态之间做切换。偏振状态切换手段更具有去偏振器(20),其架构成可以自在地插入与脱离于照明光路中,并且可依据所需将入射的直线偏振光去偏振。

    照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法

    公开(公告)号:CN105606344B

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201610084052.0

    申请日:2009-05-12

    CPC classification number: G01M11/005 G03F7/70116 G03F7/70591

    Abstract: 本发明提供一种检查装置,其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置(10),其具备:共轭光学系统(11、12),其配置于空间光调制器的光学上的下游侧,形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面;光检测器(13),其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面;检查部(14),其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。

    照明光学装置、曝光装置以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN102890425A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210244668.1

    申请日:2007-03-15

    Inventor: 田中裕久

    CPC classification number: G03F7/70183 G02B5/001 G03F7/70108

    Abstract: 本发明提供一种照明光学装置,即便使用转向镜系统来改变形成于照明光瞳面上的光强度分布的外形形状,亦可以大致维持预期的轮廓。根据来自光源(1)的光来对被照射面(M)进行照明的本发明的照明光学装置包括:棱镜系统(6),用以改变一对棱镜(6a、6b)在光轴(AX)上的间隔,以改变照明光瞳面(8a)中的光强度分布;以及一个或多个可动透镜(4b),配置于棱镜系统与被照射面之间的光路中,并根据一对棱镜在光轴上的间隔的变化而可以在光轴方向上移动。

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