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公开(公告)号：CN107534740B
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201680020228.4
申请日：2016-03-30
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 图像处理装置具备：图像获取部，其获取在不同时间拍摄被摄体而得到的多个图像，其中，对被摄体照射了以多个调制频率或调制频带进行强度调制后的光；和解调部，其针对多个图像的像素值以基于多个调制频率或调制频带的多个解调频率或解调频带针对每个像素进行解调，由此按每个像素生成多个像素信息，该多个像素信息表示基于以多个调制频率或调制频带进行强度调制后的各个光的来自被摄体的被摄体光量。
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公开(公告)号：CN107390477B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201710727062.6
申请日：2012-10-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
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公开(公告)号：CN107534740A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680020228.4
申请日：2016-03-30
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 图像处理装置具备：图像获取部，其获取在不同时间拍摄被摄体而得到的多个图像，其中，对被摄体照射了以多个调制频率或调制频带进行强度调制后的光；和解调部，其针对多个图像的像素值以基于多个调制频率或调制频带的多个解调频率或解调频带针对每个像素进行解调，由此按每个像素生成多个像素信息，该多个像素信息表示基于以多个调制频率或调制频带进行强度调制后的各个光的来自被摄体的被摄体光量。
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公开(公告)号：CN106646841B
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201710111862.5
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 大木裕史
Abstract: 一种显微镜系统，作为用于观测样本的光学显微镜系统，该显微镜系统包括：成像光学系统，其形成透射光或由样本反射的光的图像；照明光源，在样本上照射照明光；照明光学系统，其具有第一空间光调制元件，该第一空间光调制元件改变在成像光学系统的光瞳的共轭位置处的照明光强分布，且将源自照明光源的光线照射在样本上；图像传感器，其探测通过成像光学系统的光线；以及计算部件，其基于由第一空间光调制元件形成的照明光强分布和由图像传感器探测的输出数据来计算适于样本观测的照明光强分布。
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公开(公告)号：CN106134182B
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201580018291.X
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H04N5/369 , H01L27/146 , H01L31/10 , H04N5/357 , H01L25/065 , H01L25/07 , H01L25/18
Abstract: 本发明涉及一种检测元件，具备：多个光电转换元件，输出与入射光相应的电信号；及多个滤波电路，与多个光电转换元件分别对应地设置，或者与分别包含多个光电转换元件中的规定个数的光电转换元件的多个元件组分别对应地设置，从由多个光电转换元件输出的电信号中，使具有规定频率的信号衰减。在上述检测元件中，多个光电转换元件可以设于第一基板，多个滤波电路可以设于层叠于第一基板的第二基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104025257B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201280064004.5
申请日：2012-10-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70091 , G02B5/3075 , G02B26/0833 , G03F7/70191 , G03F7/70566
Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
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公开(公告)号：CN106646841A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201710111862.5
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 大木裕史
Abstract: 一种显微镜系统，作为用于观测样本的光学显微镜系统，该显微镜系统包括：成像光学系统，其形成透射光或由样本反射的光的图像；照明光源，在样本上照射照明光；照明光学系统，其具有第一空间光调制元件，该第一空间光调制元件改变在成像光学系统的光瞳的共轭位置处的照明光强分布，且将源自照明光源的光线照射在样本上；图像传感器，其探测通过成像光学系统的光线；以及计算部件，其基于由第一空间光调制元件形成的照明光强分布和由图像传感器探测的输出数据来计算适于样本观测的照明光强分布。
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公开(公告)号：CN104025257A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280064004.5
申请日：2012-10-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70091 , G02B5/3075 , G02B26/0833 , G03F7/70191 , G03F7/70566
Abstract: 一种照明光学系统，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器(5)，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件(3)，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件(9)，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
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公开(公告)号：CN107479333B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201710727064.5
申请日：2012-10-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
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公开(公告)号：CN107479333A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710727064.5
申请日：2012-10-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。
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