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公开(公告)号：CN101436002B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200810173388.X
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102012641A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010240704.8
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101644900A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200810173396.4
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102012641B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201010240704.8
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101644899B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN200810173395.X
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101852993A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010155625.7
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN1723541B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200380105423.X
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN101436001A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173387.5
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN1723540A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105422.5
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7026 , G03F7/70341 , G03F9/7003 , G03F9/7034
Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50)，投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上，对衬底(P)进行曝光。它包括：保持衬底的衬底台(PST)；向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1)；以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息，一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。
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公开(公告)号：CN104122760A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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