公开(公告)号：CN114408654B

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202210080392.1

申请日：2017-08-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 鬼头义昭 ,  加藤正纪 ,  奈良圭 ,  堀正和 ,  木内徹

IPC: B65H26/04 ,  B65H20/02 ,  B65H23/188 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

公开(公告)号：CN116507960A

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN202180073728.5

申请日：2021-11-02

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  加藤正纪 ,  木内徹 ,  鬼头义昭 ,  中山修一 ,  林田洋祐

IPC: G02B26/10

Abstract: 图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。

公开(公告)号：CN114229474B

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202210005576.1

申请日：2017-08-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 鬼头义昭 ,  加藤正纪 ,  奈良圭 ,  堀正和 ,  木内徹

IPC: B65G49/06 ,  B65H20/02 ,  B65H23/188 ,  B65H26/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

公开(公告)号：CN114408654A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202210080392.1

申请日：2017-08-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 鬼头义昭 ,  加藤正纪 ,  奈良圭 ,  堀正和 ,  木内徹

IPC: B65H26/04 ,  B65H20/02 ,  B65H23/188 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

公开(公告)号：CN108040500B

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN201680056621.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  鬼头义昭 ,  奈良圭 ,  堀正和 ,  木内徹

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。

公开(公告)号：CN111470362B

公开(公告)日：2022-04-01

申请号：CN202010235350.1

申请日：2017-08-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 鬼头义昭 ,  加藤正纪 ,  奈良圭 ,  堀正和 ,  木内徹

IPC: B65H23/188 ,  B65H26/00 ,  B65H20/02 ,  B65G49/06 ,  G03F7/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/67

Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。