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公开(公告)号：CN101576716A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200910132529.8
申请日：2005-11-24
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G12B5/00 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/709 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
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公开(公告)号：CN101231476A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810082275.9
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN101040126A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200580035291.7
申请日：2005-10-07
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 荒井大
IPC: F16C32/06 , F16C29/02 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70816 , F16C29/025 , F16C32/064
Abstract: 一种轴承装置，可确保充分的移动行程而无需连接供气用的管路等。该轴承装置具有包括衬垫部(73)的移动体(3)和固定体(2)。向衬垫部(73)供给介质来将移动体(3)可自由移动地支承在固定体(2)上。该轴承装置具有：设置于固定体(2)且供给前述介质的供给部(5)；联络供给部(5)和衬垫部(73)的联络部(75)；相应于移动体(3)相对固定体(2)的位置来开闭联络部(75)的开闭装置(6)。
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公开(公告)号：CN105652603B
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201610055729.8
申请日：2008-07-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 荒井大
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G01B11/00
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
Abstract: 能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。种曝光装置,是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光,而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备:设置于晶圆载台(WST)的标尺;用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66);体支撑多个X读头(66),且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21);从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
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公开(公告)号：CN105652603A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610055729.8
申请日：2008-07-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 荒井大
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G01B11/00
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002 , G01B11/00 , G03F7/70 , H01L21/027
Abstract: 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101231476B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200810082275.9
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN101852993A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010155625.7
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN1723541B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200380105423.X
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN100490066C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200580025934.X
申请日：2005-11-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G12B5/00 , G03F9/00 , H01L21/68
CPC classification number: G12B5/00 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/709 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
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公开(公告)号：CN101231477A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810082276.3
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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