一种刚挠结合印制电路板的制备方法

    公开(公告)号:CN103578804A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310534682.X

    申请日:2013-11-01

    Abstract: 本发明的目的是提供一种刚挠结合印制电路板的制备方法,该方法是通过分别独立制作挠性基板和刚性多层板,挠性基板埋入区开设电气连接所需通孔;刚性多层板包括第一刚性多层板、第二刚性多层板,第一刚性多层板上在通孔对应位置制作导电凸块,第二刚性多层板在通孔对应位置上制作与导电凸块对应的焊盘;从下到上按第一刚性多层板、半固化片、挠性基板、半固化片、第二刚性多层板顺序叠板,经一次压合得刚挠结合印制电路板,导电凸块穿插过挠性基板上通孔,与焊盘连接导通,并用导电胶敷形,实现挠性基板与刚性多层板的准确对位埋入以及电气互联导通。

    一种片式电子元器件内电极的制备方法

    公开(公告)号:CN103395307A

    公开(公告)日:2013-11-20

    申请号:CN201310322790.0

    申请日:2013-07-29

    Abstract: 一种片式电子元器件内部电极的制备方法,主要包括:在暗室中,用负性感光导电金属浆料印刷初步内电极图形,然后在掩膜板作用下,将印刷的初步内电极图形按目标内电极图形要求要求曝光固化,再经过与负性感光导电金属浆料匹配的显影液显影,用溶剂清除精细电极图形之外的电极轮廓,保留已经固化的目标内电极图形,经干燥后完成内电极制备。本发明在采用传统丝网印刷工艺制作元器件内电极的基础上,利用负性感光导电金属浆料对特定波长光的敏感性,再通过曝光显影的方式,将目标内电极图形精细地刻画出来,以达到小尺寸电子元器件内部电极图形设计的要求,够制备出线宽精度更高的内电极,适用于英制0201、01005或更小尺寸元件内电极的制备。

    基于钛酸锶复合材料的太赫兹吸波器与制备方法

    公开(公告)号:CN115498420B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202210977545.2

    申请日:2022-08-15

    Abstract: 一种基于钛酸锶复合材料的太赫兹吸波器与制备方法,属于光电材料与器件技术领域。所述基于钛酸锶复合材料的太赫兹吸波器包括玻璃衬底,生长于玻璃衬底之上的ITO薄膜,位于ITO薄膜之上的介质超表面结构层;其中,介质超表面结构层由钛酸锶微粒和掺有金纳米颗粒的PDMS复合得到,钛酸锶微粒均匀分散于掺有金纳米颗粒的PDMS中,金纳米颗粒、钛酸锶微粒和PDMS的质量比为0.01:132:46。本发明采用钛酸锶微粒和掺有金纳米颗粒的PDMS的复合材料印刷得到介质超表面结构层,可通过控制钛酸锶微粒的体积比来调控复合材料的介电参数,得到的钛酸锶复合材料的介电常数实部和硅相当。

    用于特高频电感的低磁介损耗软磁复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN118155973A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410205644.8

    申请日:2024-02-26

    Abstract: 本发明属于软磁复合材料技术领域,具体提供一种用于特高频电感的低磁介损耗软磁复合材料及其制备方法,用以解决现有软磁复合材料在特高频频段存在磁损耗和介电损耗高、饱和磁化强度低等问题。本发明中软磁复合材料包含组分:球形铁基纳米晶磁粉:96~99.5wt%,ZnO或B2O3氧化物:0.5~4wt%;ZnO或B2O3氧化物作为绝缘包覆材料。本发明使用ZnO或B2O3对球形铁基纳米晶磁粉进行绝缘包覆,并通过冷烧结工艺及退火处理获得致密软磁复合材料,具有较高的相对密度、较高的饱和磁化强度以及低的磁电损耗,并将磁导率截止频率提高至1.5~5GHz频段,满足特高频频段的应用需求。

    一种单晶外延生长中重复使用石榴石衬底的方法

    公开(公告)号:CN115537915B

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202211207916.5

    申请日:2022-09-30

    Abstract: 一种单晶外延生长中重复使用石榴石衬底的方法,属于液相外延单晶厚膜制备技术领域。包括:1)在石榴石单晶衬底上形成双层石墨烯结构;2)在双层石墨烯结构上生长石榴石籽晶层;3)退火、清洗;4)生长石榴石晶片层;5)对生长有石榴石晶片层的衬底进行剥离处理。本发明采用衬底/双层石墨烯/籽晶层/晶片层的复合膜结构,双层石墨烯作为单晶膜释放层,使得衬底对单晶膜生长基元或结晶的取向可透过#imgabs0#的石墨烯层通过表面静电场传递,影响籽晶层生长基元的排列取向,传递晶格常数;双层石墨烯之间、以及石墨烯层与籽晶层和晶片层之间仅存在范德华力,并非化学键合,可使用胶带等外力吸附轻松地转移厚膜,实现石榴石衬底的重复使用。

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