公开(公告)号：CN102418110B

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201010299084.5

申请日：2010-09-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 刘中仕 ,  周宏 ,  张俊刚 ,  管杰 ,  劳伦特·克里特格尼 ,  劳伦斯·库尔

IPC: C23G5/00

Abstract: 本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与组合物反应生成结果产物，所述组合物包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物；清除结果产物。另一方面，本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物的组合物接触；加热所述氧化物和组合物以反应生成结果产物；清洗所述结果产物。

公开(公告)号：CN109868447B

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN201711250097.1

申请日：2017-12-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 徐悟生 ,  周宏 ,  钟大龙 ,  L·C·迪亚尔 ,  L·B·库尔

IPC: C23C10/20

Abstract: 通过以下步骤修改制品的表面：在第一温度使初始表面渗铝以形成第一渗铝层以及次层，移除该第一渗铝层的至少一部分，在第二温度使该次层渗铝以形成第二渗铝层，以及最后移除该第二渗铝层的至少一部分以形成经处理表面。该第二温度低于该第一温度，并且该经处理表面的粗糙度小于该初始表面的粗糙度。

公开(公告)号：CN109868447A

公开(公告)日：2019-06-11

申请号：CN201711250097.1

申请日：2017-12-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 徐悟生 ,  周宏 ,  钟大龙 ,  L·C·迪亚尔 ,  L·B·库尔

IPC: C23C10/20

Abstract: 通过以下步骤修改制品的表面：在第一温度使初始表面渗铝以形成第一渗铝层以及次层，移除该第一渗铝层的至少一部分，在第二温度使该次层渗铝以形成第二渗铝层，以及最后移除该第二渗铝层的至少一部分以形成经处理表面。该第二温度低于该第一温度，并且该经处理表面的粗糙度小于该初始表面的粗糙度。

公开(公告)号：CN106637267A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201510715694.1

申请日：2015-10-28

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 杨佑浩 ,  张利明 ,  武颖娜 ,  劳伦斯·J·维姆日 ,  周宏 ,  朱慧 ,  林川

IPC: C23G5/00

CPC classification number: C23G1/02 ,  C23G5/00

Abstract: 一种用于从金属基材去除氧化物的方法，包括：提供三氟化硼流；在第一温度加热所述金属基材；及，在不同于所述第一温度的第二温度加热所述金属基材。本发明也涉及相应的装置。

公开(公告)号：CN106637266A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201510713532.4

申请日：2015-10-28

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 杨佑浩 ,  张利明 ,  武颖娜 ,  劳伦斯·J·维姆日 ,  周宏 ,  朱慧 ,  林川

IPC: C23G5/00 ,  C23F1/12

Abstract: 一种用于从金属基材去除氧化物的方法，包括：提供三氟化硼流；及，加热所述金属基材。本发明也涉及相应的装置。

公开(公告)号：CN103861662B

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201210541299.2

申请日：2012-12-13

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 郭明虎 ,  劳伦斯.B.库尔 ,  彭文庆 ,  周宏 ,  杨朝晖 ,  林川 ,  古彦飞

IPC: B01J33/00

CPC classification number: B01J8/06 ,  B01J23/002 ,  B01J23/02 ,  B01J23/10 ,  B01J23/26 ,  B01J23/34 ,  B01J23/78 ,  B01J23/83 ,  B01J23/86 ,  B01J23/8892 ,  B01J35/002 ,  B01J37/0036 ,  B01J37/0217 ,  B01J37/0219 ,  B01J37/0225 ,  B01J37/0226 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/08 ,  B01J37/343 ,  B01J37/349 ,  B01J2208/06 ,  B01J2523/00 ,  B05D1/02 ,  C10G9/16 ,  C10G75/00 ,  C10G2300/708 ,  C23C2/02 ,  C23C4/134 ,  C23C8/10 ,  C23C8/80 ,  C23C10/30 ,  C23C16/0209 ,  C23C16/44 ,  C23C18/1633 ,  C23C18/18 ,  C23C24/06 ,  C23C24/106 ,  C23C28/04 ,  B01J2523/25 ,  B01J2523/3712 ,  B01J2523/48 ,  B01J2523/36 ,  B01J2523/3706 ,  B01J2523/67 ,  B01J2523/72

Abstract: 本发明涉及一种工件，该工件包括金属基体、防结焦催化剂层、以及设置在金属基体和防结焦催化剂层之间的氧化铝阻挡层。本发明还涉及制造该工件的工艺方法。

公开(公告)号：CN105506713A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201410499757.X

申请日：2014-09-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 武颖娜 ,  徐惠宇 ,  劳伦斯·库尔 ,  布彭德拉·古普塔 ,  周宏 ,  萨玛尔·卡琳塔 ,  朱慧

IPC: C25D15/00 ,  C25D3/06

Abstract: 本发明公开了通过电镀形成铬基涂层的方法、所用电解液以及所形成的涂层。具体地涉及一种在构件上形成铬基涂层的方法，在该方法中，将所述构件及对电极浸入包括三价铬盐和纳米陶瓷微粒的电解液中，在所述构件和对电极上施加电流，并向所述构件上电镀一层包括铬和纳米陶瓷微粒的铬基涂层。本发明还涉及该方法中所用的电解液、以及用该方法获得的镀有涂层的构件。

公开(公告)号：CN104711024A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：CN201310686812.1

申请日：2013-12-13

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 王世忠 ,  彭文庆 ,  劳伦斯·B·库 ,  郝楠 ,  徐悟生 ,  郭明虎 ,  周宏 ,  古彦飞 ,  杨朝晖

IPC: C10G75/04 ,  C01G25/02 ,  C01G29/00

CPC classification number: C10G75/00 ,  B01J19/02 ,  B01J2219/024 ,  C01G25/006 ,  C01G29/006 ,  C07C4/02 ,  C09D1/00 ,  C09D7/00 ,  C10G9/00 ,  C10G9/16 ,  C10G9/203 ,  C10G2300/4075

Abstract: 本发明涉及可暴露在碳材料副产品形成环境中的装置及其相应方法。对于可暴露在碳材料副产品形成环境中的表面的装置，该表面含化学式为AaBbO3-δ、具有ABO3钙钛矿结构的钙钛矿材料，其中0.9

公开(公告)号：CN102418110A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201010299084.5

申请日：2010-09-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 刘中仕 ,  周宏 ,  张俊刚 ,  管杰 ,  劳伦特·克里特格尼 ,  劳伦斯·库尔

IPC: C23G5/00

Abstract: 本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与组合物反应生成结果产物，所述组合物包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物；清除结果产物。另一方面，本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物的组合物接触；加热所述氧化物和组合物以反应生成结果产物；清洗所述结果产物。