公开(公告)号：CN101344720B

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN200810214719.X

申请日：2008-07-10

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田中淳一 ,  佐野道明

IPC: G03F1/14 ,  G03F1/00 ,  G03F7/00

Abstract: 一种灰阶掩模(20)的缺陷修正方法，该灰阶掩模具有遮光部(21)、透光部(22)和半透光部(23)，该半透光部将掩模(20)使用时所使用的曝光光的透射量降低规定量，半透光部(23)包括半透光膜(26)，该方法具有：在半透光部(23)确定缺陷区域的工序；和在缺陷区域形成不同于半透光膜的组成的修正膜(27)的工序。在该修正膜形成工序中，预先把握相对规定波长的曝光光的修正膜的光透射率特性，根据所把握的修正膜的光透射率特性，适用相对规定波长的曝光光的修正膜(27)的光透射率与半透光膜(26)的大致相等的条件。

公开(公告)号：CN1786698A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510127461.6

申请日：2005-12-06

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田中淳一

IPC: G01N21/95 ,  G03F1/00

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N2021/95676

Abstract: 提供一种可以高精度地检测不均缺陷的不均缺陷检查装置。一种不均缺陷检查装置(10)，具有：光源(12)，其针对规律地排列了单位图形而构成的重复图形，向在透明基板(52)的表面(52A)所具有的光掩模(50)照射光；受光器(13)，其接受来自光掩模的反射光作为受光数据，分析装置(14)分析该受光数据以检测在上述重复图形中产生的不均缺陷，上述光源(12)向光掩模的透明基板的背面(52B)侧照射光。