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公开(公告)号：CN100573042C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200480033048.7
申请日：2004-11-17
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01B11/30
CPC classification number: G03F1/84 , G01N21/956 , G01N2021/95676
Abstract: 一种图形的不匀缺陷检查方法和装置，其能高精度检查在被检查体表面所形成图形上产生的多种不匀缺陷。不匀缺陷检查装置(10)具有：光源(12)，其对表面具备有单位图形(53)有规律排列的重复图形(51)的光掩模(50)进行光照射；感光部(13)，其接受来自所述光掩模的散射光并把它转换成感光数据，本方法和装置观察该感光数据并检查所述重复图形上产生的不匀缺陷，其特征在于：具有从多个波段的光中选择抽取一个或多个希望波段光的波长滤波器(14)，并使用该选择抽取的波段的光来检查所述重复图形的不匀缺陷。
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公开(公告)号：CN100454511C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200510127461.6
申请日：2005-12-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 田中淳一
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/956 , G01N2021/95676
Abstract: 提供一种可以高精度地检测不均缺陷的不均缺陷检查装置。一种不均缺陷检查装置(10)，具有：光源(12)，该光源(12)向光掩模(50)照射光，该光掩模(50)在透明基板(52)的表面(52A)具有规律地排列了单位图形而构成的重复图形；受光器(13)，其接受来自光掩模的反射光作为受光数据，分析装置(14)分析该受光数据以检测在上述重复图形中产生的不均缺陷，上述光源(12)向光掩模的透明基板的背面(52B)侧照射光。
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公开(公告)号：CN101344720A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810214719.X
申请日：2008-07-10
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 一种灰阶掩模(20)的缺陷修正方法，该灰阶掩模具有遮光部(21)、透光部(22)和半透光部(23)，该半透光部将掩模(20)使用时所使用的曝光光的透射量降低规定量，半透光部(23)包括半透光膜(26)，该方法具有：在半透光部(23)确定缺陷区域的工序；和在缺陷区域形成不同于半透光膜的组成的修正膜(27)的工序。在该修正膜形成工序中，预先把握相对规定波长的曝光光的修正膜的光透射率特性，根据所把握的修正膜的光透射率特性，适用相对规定波长的曝光光的修正膜(27)的光透射率与半透光膜(26)的大致相等的条件。
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公开(公告)号：CN1879005A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200480033048.7
申请日：2004-11-17
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G01B11/30
CPC classification number: G03F1/84 , G01N21/956 , G01N2021/95676
Abstract: 一种图形的不匀缺陷检查方法和装置，其能高精度检查在被检查体表面所形成图形上产生的多种不匀缺陷。不匀缺陷检查装置(10)具有：光源(12)，其对表面具备有单位图形(53)有规律排列的重复图形(51)的光掩膜(50)进行光照射；感光部(13)，其接受来自所述光掩膜的散射光并把它转换成感光数据，本方法和装置观察该感光数据并检查所述重复图形上产生的不匀缺陷，其特征在于：具有从多个波段的光中选择抽取一个或多个希望波段光的波长滤波器(14)，并使用该选择抽取的波段的光来检查所述重复图形的不匀缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102628804B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201210020423.0
申请日：2012-01-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供?种透射率测定装置和透射率测定方法，能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定。透射率测定装置由以下部件构成：光源装置，其射出被检光；第?光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。
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公开(公告)号：CN102374977B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201110217088.9
申请日：2011-07-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种透射率测定装置、光掩模的透射率检查装置、透射率检查方法、光掩模制造方法、图案转印方法、光掩模产品，该透射率测定装置能够正确测定细微图案(例如形成于透明基板上的细微的半透光膜图案)的膜透射率。作为解决手段，在测定形成于透明基板上的半透光膜的细微图案等的膜透射率时，将测定波长的光会聚成最小点径(光束腰)并使其透射过作为测定对象物的半透光膜，然后将该透射光全部取入积分球，通过光检测器进行检测。
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公开(公告)号：CN102628804A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210020423.0
申请日：2012-01-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供-种透射率测定装置和透射率测定方法，能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定。透射率测定装置由以下部件构成：光源装置，其射出被检光；第-光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。
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公开(公告)号：CN102374977A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110217088.9
申请日：2011-07-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种透射率测定装置、光掩模的透射率检查装置、透射率检查方法、光掩模制造方法、图案转印方法、光掩模产品，该透射率测定装置能够正确测定细微图案(例如形成于透明基板上的细微的半透光膜图案)的膜透射率。作为解决手段，在测定形成于透明基板上的半透光膜的细微图案等的膜透射率时，将测定波长的光会聚成最小点径(光束腰)并使其透射过作为测定对象物的半透光膜，然后将该透射光全部取入积分球，通过光检测器进行检测。
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