公开(公告)号：CN1370329A

公开(公告)日：2002-09-18

申请号：CN00811854.X

申请日：2000-08-14

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 郑永万 ,  李守源 ,  尹东植

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  C23C16/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  B05D7/14 ,  B05D2252/02 ,  C23C16/503 ,  C23C16/545

Abstract: 本发明涉及用直流电等离子聚合形成聚合物的设备,其特征在于,在基材上通电使其作为一个电极,在沉积室中的相反电极位于待沉积基材的两个表面上方。另外,通过将主体与通电的基材间绝缘,本发明能够获得在聚合期间的安全性。

公开(公告)号：CN1321332A

公开(公告)日：2001-11-07

申请号：CN00801762.X

申请日：2000-08-14

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 郑永万 ,  李守源 ,  尹东植 ,  河三喆

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  C23C16/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H01J2237/3382

Abstract: 本发明涉及等离子聚合设备,包括:聚合室,用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合;放电电极,安装在聚合室的内部;相对电极,具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场;高压加载单元,用于将高压施加到电极;气体提供单元,用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体;和泵吸单元,用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性,因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。

公开(公告)号：CN1193114C

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN01806109.5

申请日：2001-03-02

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 郑永万 ,  李守源 ,  尹东植

IPC: C23C16/54

CPC classification number: C23C16/45502 ,  B05D1/62 ,  B05D3/0486 ,  B05D2252/02 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/455 ,  C23C16/545

Abstract: 本发明提供了一种等离子聚合装置，其包括至少一个室，在该室中要涂布的片可以连续移动；至少一个向该室供应反应性气体的气体入口；和至少一个将反应性气体排出该室的气体出口，其中气体入口和气体出口以这样的方式设置在室上，即反应性气体的流动方向基本上与板的移动方向平行。

公开(公告)号：CN1161821C

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：CN00801762.X

申请日：2000-08-14

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 郑永万 ,  李守源 ,  尹东植 ,  河三喆

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  C23C16/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H01J2237/3382

Abstract: 本发明涉及等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。

公开(公告)号：CN1444605A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN01813566.8

申请日：2001-05-30

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 河三喆 ,  郑永万 ,  赵石济 ,  尹东植

IPC: C08F2/52 ,  H01J37/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  B05D2252/02 ,  B29C59/14 ,  H01J37/3277 ,  H01J2237/3382

Abstract: 具有多个室的等离子体聚合连续处理设备，对移动进入室的物质表面通过等离子体聚合进行表面处理，包括至少一个直立室，其中物质垂直移动，及其中包括至少一个电极。由于直立室可由单独或多个室形成，或可与卧式室一起形成，因此可以建造各种类型的等离子体聚合处理系统。另外，根据表面处理的目的，多个室可用于各种功能和应用例如聚合室、后处理室及预处理室。

公开(公告)号：CN1395814A

公开(公告)日：2003-02-05

申请号：CN01803769.0

申请日：2001-11-16

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 尹东植 ,  河三喆

IPC: H05H1/34

CPC classification number: H01J37/32605

Abstract: 一种用于在等离子聚合装置中固定电极的装置，包括：一个不导电的夹持器，用于通过覆盖住电极端部固定电极；一条连接电极和电源的导线；以及一个将夹持器固定在处理室壁上的固定部件。