一种基于类偏振特征的自适应镜面高光检测方法

    公开(公告)号:CN118898617A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202411397747.5

    申请日:2024-10-09

    Abstract: 本发明提供了一种基于类偏振特征的自适应镜面高光检测方法,包括:步骤S1,针对目标工件,采集不同偏振角度下的偏振强度图像形成多通道偏振图像集合并求解得到多维图像特征数据集;步骤S2,采用Canopy算法对多维图像特征数据集进行初聚类得到初始聚类中心,随后基于初始聚类中心,采用K‑means算法对多维图像特征数据集进行细聚类得到图像特征数据集分类结果;步骤S3,基于高光判定规则生成感兴趣区域;步骤S4,标记感兴趣区域内所有的第一连通域以及感兴趣区域外与各第一连通域相邻近且属于同一类的第二连通域,并基于区域判定规则筛选得到镜面‑漫反射过渡区域包含至感兴趣区域内。有益效果是本发明能够实现对镜面‑漫反射过渡区域的准确定位。

    基于多通道偏振双目图像融合的三维重建方法

    公开(公告)号:CN117496043A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311118525.0

    申请日:2023-09-01

    Abstract: 本发明公开了基于多通道偏振双目图像融合的三维重建方法,包括步骤:采集目标场景的多通道偏振双目图像集合;剔除多通道偏振双目图像集合中过曝面积大于设定阈值的偏振强度图像;根据偏振双目图像进行相机标定,逐一对双目图像进行极线校正、立体匹配,得到视差数据立方;检测并剔除视差数据列的离群值,根据数据源的偏振特性对视差数据列中剩下的视差数据赋予不同的权重,将加权平均的结果作为融合视差值;逐像素点计算融合视差值,得到基于多通道偏振双目图像的融合视差图像;采用视差后处理算法对融合视差图像进行视差后处理得到最终视差图像,根据最终视差图像进行三维重建得到目标场景的三维点云数据。

    一种MEMS微镜阵列制备方法
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117326521A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311120416.2

    申请日:2023-09-01

    Inventor: 虞益挺 肖星辰

    Abstract: 本发明涉及一种新型的MEMS微镜阵列加工方法,包括:在第一基底表面沉积金属薄膜;完成第一寻址电极和第二寻址电极的制备;选取第二基底,去除表面存在的灰尘和有机物残留物;在第二基底上完成锚点、扭转支点的制备;继续刻蚀扭转支点,使其表面低于所述锚点,形成锚点和扭转支点的高度差;将第一基底和所述第二基底进行键合;在减薄后的第二基底上形成金属反射层;完成微镜结构的制作;将所述扭转支点下方的胶粘键合层去除,完成分立镜面的结构释放;本发明解决了MEMS微镜阵列制备过程中扭转支点与其下方基底键合粘连失效和减薄外力作用下悬浮薄膜破裂的工艺难题,实现了扭转支点和与其下方基底亚微米间隙的精准控制。

    一种MEMS扭转镜阵列的制作方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117105167A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202311011239.4

    申请日:2023-08-11

    Inventor: 虞益挺 肖星辰

    Abstract: 本发明提供一种MEMS扭转镜阵列的制作方法,包括:清洗第一基底;在第一基底上表面沉积第一金属薄膜,对第一金属薄膜进行刻蚀,形成第一寻址电极及第二寻址电极;清洗第二基底;在第二基底下表面刻蚀出临时锚点,同时完成扭转支点及永久锚点的蚀刻;进一步刻蚀扭转支点,使得扭转支点的高度小于临时锚点的高度;将第二基底下表面与第一基底上表面进行键合;减薄处理;在器件层上表面沉积第二金属薄膜,对第二金属薄膜进行刻蚀,形成金属反射层;将金属反射层作为掩膜,对第二基底和临时锚点进行刻蚀,去除临时锚点,获得分立镜面。本发明能防止制作过程中扭转支点与其下方基底键合粘连失效和减薄时外力作用下悬浮薄层破裂,制作简单。

    一种多通道光谱滤波器件及其制作方法

    公开(公告)号:CN117075243A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202310854561.7

    申请日:2023-07-13

    Abstract: 本发明涉及一种多通道光谱滤波器件及其制作方法,滤波器件包括衬底,且在衬底上设有用于对入射光进行选频吸收或选频透过的若干个滤波通道;方法的步骤则包括:S1,提供衬底,在衬底上制备第一反射镜;S2,根据滤波通道尺寸结构和布局方式,确定各滤波通道位置,制造各滤波通道之间的挡板;S3,实施光刻工艺,经涂胶或喷胶、曝光、显影后,在不同滤波通道位置处获得具有不同图案和占空比的光刻胶图形;S4,采用光刻胶热回流工艺,使得各滤波通道位置处的光刻胶熔融回流,获得具有不同高度的固态光刻胶;S5,在各固态光刻胶顶部制备第二反射镜:通过本发明可以实现多通道光谱滤波结构的批量化制造,避免多次光刻,提高制造效率。

    一种电磁静电双驱动式珐珀滤波芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN116661127A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310417381.2

    申请日:2023-04-19

    Abstract: 本发明提供了一种电磁静电双驱动式珐珀滤波芯片及其制备方法,涉及光电芯片和半导体技术领域,包括可动镜体、固定镜体、永磁体、PCB电路板和间隔层,所述可动镜体的端面上设置有第一反射镜、第一检测电极、第二检测电极、第一驱动电极和第二驱动电极,且所述第一检测电极和所述第一驱动电极位于所述第一反射镜的一侧,所述第二检测电极和所述第二驱动电极位于所述第一反射镜的另一侧,所述可动镜体的另一端面上设置有用于嵌入所述永磁体的永磁体槽。本发明能够克服单驱动方式的珐珀滤波芯片非线性调制、调谐范围有限和滤波单色性差的问题。

    一种基于超振荡透镜静态光片的荧光显微成像系统及方法

    公开(公告)号:CN115728925A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202211508919.2

    申请日:2022-11-29

    Abstract: 本发明涉及一种基于超振荡透镜静态光片的荧光显微成像系统及方法,包括激发光发射装置、超振荡透镜、耗损光发射装置以及光栅光阑,观测样品位于超振荡透镜和光栅光阑之间;激发光发射装置发射偏振方向平行于超振荡透镜狭缝方向的线偏振光,所述超振荡透镜对经过的线偏振光进行调控产生高能旁瓣以及亚衍射极限光片;所述耗损光发射装置发射平行耗损光束,对平行耗损光束进行整形,整形后的平行耗损光束为仅覆盖高能旁瓣的平行耗损光束;这样就可以消除超振荡透镜产生的高能旁瓣对光片荧光显微成像的影响,实现高信噪比、大视场、分辨率增强的静态光片荧光显微成像。

    一种基于MEMS光栅反射镜的光谱成像系统及方法

    公开(公告)号:CN114485936A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111659767.1

    申请日:2021-12-31

    Abstract: 本发明提供了一种基于MEMS光栅反射镜的光谱成像系统及方法,涉及光谱成像技术领域,本系统包括目标、成像子系统、DMD工作面、准直子系统、MEMS光栅反射镜工作面和探测器工作面;所述DMD工作面中每个所述微镜扫描单元处于偏转工作状态时将对应列的所述目标像反射至所述准直子系统中进行准直,得到的平行光入射到所述MEMS光栅反射镜工作面上进行分光;通过改变所述MEMS光栅反射镜工作面的偏转角度,使得经过MEMS光栅反射镜分光且反射得到的色散光谱入射至所述探测器工作面的相同区域。本系统能够解决色散光谱偏移,以及基于DMD的扫描式光谱成像系统中过度依赖大长宽比探测器面型、集成化水平不高的问题。

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