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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117242403A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280030401.4
申请日：2022-04-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 对形成有规定图案的掩模进行照明的照明光学系统包括：多个光源，其射出脉冲光；光学系统，其具有分割部、延迟光学系统以及合成分割部，所述分割部将从多个所述光源分别射出的所述脉冲光分割为第1脉冲光和第2脉冲光，所述延迟光学系统将所述第2脉冲光向比所述第1脉冲光通过的第1光路长的第2光路引导，所述合成分割部对所述第1脉冲光和从所述延迟光学系统通过的所述第2脉冲光进行合成，再将合成后的所述脉冲光分割并射出；以及照明系统，其将从所述光学系统射出的所述脉冲光分别向所述掩模引导，对所述掩膜进行照明。
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公开(公告)号：CN117120934A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280027047.X
申请日：2022-02-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了提高FO‑WLP的布线图案形成的生产能力，曝光装置：空间光调制器；创建部，从对在第一基板上配置有多个的半导体芯片的集各自所包含的半导体芯片的位置进行测量的测量系统获取测量结果，基于测量结果决定将半导体芯片间连接的布线图案，创建在生成所决定的布线图案时空间光调制器的控制所用的第一控制数据，并将该第一控制数据存储在第一存储部内；以及曝光处理部，使用第一控制数据控制空间光调制器，对将半导体芯片间连接的布线图案进行曝光，在曝光处理部对与第一基板不同的第二基板进行曝光处理的期间内，执行第一基板上的半导体芯片的位置的测量、测量结果的获取、布线图案的决定、第一控制数据的创建、以及第一控制数据向第一存储部的存储中的至少一个。
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公开(公告)号：CN117083572A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202280025233.X
申请日：2022-04-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的曝光装置包括：曝光单元，包括：包含多个元件且根据曝光图案而控制多个元件的空间光调制器、对空间光调制器进行照明的照明光学系统、以及将空间光调制器的像投影至基板上的投影光学系统；数据生成部，根据第2曝光图案来生成控制多个元件的控制数据；测量系统，在通过曝光单元将第2曝光图案曝光于基板上之前，对与第1曝光图案一并曝光的标记进行测量；以及控制部，根据由测量系统所得的标记的测量结果，来控制投影光学系统、空间光调制器及数据生成部中的至少任一者，从而控制由投影光学系统所得的基板上的投影位置；并且曝光单元设置有多个，将分割为多个的第2曝光图案分别曝光于上述基板上，控制部对每个曝光单元控制投影位置。
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公开(公告)号：CN1868032A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200480029973.2
申请日：2004-09-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 从投影光学系统PL入射到液体LQ上的曝光光之中，入射到光透过部44上的曝光光，不通过气体中地入射到光学部件41上而被集中。曝光装置，即便投影光学系统的数值孔径增大，也可以接收来自投影光学系统的曝光光，从而进行各种计测。
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公开(公告)号：CN1423831A
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN01808047.2
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 水野恭志
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01M11/02
CPC classification number: G01M11/0264 , G01M11/0271 , G03F7/706 , G03F9/7026
Abstract: 在测定投影光学系统(PL)的波像差之前,利用AF传感器(30)检测出在规定面上成像的测试中间掩模Rt的图样的像的位置。基于该检测结果,调整波像差测定单元(35)的入射面(36a)的位置,调整图样的像相对于入射面(36a)的位置。在这种调整之后,利用波像差测定单元(35)检测出经由投影光学系统(PL)成像的图样的像,基于该检测结果,利用波像差检测部(41)求出投影光学系统(PL)的波像差。
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